显示面板及其制作方法与流程

文档序号:19726398发布日期:2020-01-18 03:26阅读:155来源:国知局
显示面板及其制作方法与流程

本申请涉及电子显示领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法。



背景技术:

为了减小具有触控功能的电子设备的厚度,现有技术中,通常通过dot(directontouch)技术将触控结构直接集成在显示面板上方。相比于外挂式的触控结构,dot结构更加轻薄且透过率更高,且能够应用在柔性显示面板上。

现有技术中,dot结构集成在显示面板的偏光层上方。偏光层由偏光片构成,用于降低强光下显示面板的反射率。通常,偏光片的厚度在100微米左右,不利于显示面板的轻薄化。同时,偏光片使得显示面板的出光率严重降低,影响了显示面板的显示效果,同时加速了显示面板的老化。

申请内容

本申请提供了一种显示面板及其制作方法,以提高显示面板的透光率,同时减小显示面板的厚度。

本申请提供了一种显示面板,所述显示面板包括发光层和位于所述发光层上方的触控层;

其中,所述发光层包括多个发光单元;

其中,所述触控层包括:

触控走线层,所述触控走线层包括多个间隙,所述多个间隙与所述多个发光单元对应设置;

遮光层,所述遮光层设置在所述触控走线层上;

滤光结构,所述滤光结构包括多个滤光片,所述多个滤光片设置在所述触控走线层的多个间隙中;

绝缘保护层,所述绝缘保护层覆盖所述触控走线层、遮光层和滤光结构。

根据本申请的其中一个方面,所述显示面板还包括隔离层,所述隔离层位于所述发光层和所述触控层之间。

根据本申请的其中一个方面,所述触控走线层包括:

第一金属层,所述第一金属层设置在所述隔离层上;

第一绝缘层,所述第一绝缘层覆盖所述第一金属层;

第二金属层,所述第二金属层位于所述第一绝缘层上,并通过通孔与所述第一金属层电连接;

所述遮光层覆盖所述第二金属层;

其中,所述多个间隙在所述显示面板的出光面上的投影与所述第一金属层和第二金属层在所述发光层上的投影不重叠。

根据本申请的其中一个方面,所述多个滤光片和所述多个发光单元对应,任意一个滤光片所保留的光线颜色和与所述滤光片对应的发光单元发出的光线颜色相同,任意一个滤光片的边缘覆盖于所述滤光片相邻的遮光层的边缘。

根据本申请的其中一个方面,所述遮光层的面积大于所述第二金属层的面积,且所述遮光层在所述发光层上的投影覆盖所述第二金属层在所述发光层上的投影。

根据本申请的其中一个方面,所述多个间隙的面积之和大于所述多个发光单元的面积之和。

相应的,本申请还提供了一种显示面板的制作方法,该方法包括以下步骤:

形成发光层,所述发光层包括多个发光单元;

在所述发光层上方形成触控走线层,所述触控走线层包括多个间隙,所述多个间隙与所述多个发光单元对应设置;

形成遮光层,所述遮光层设置在所述触控走线层上;

形成滤光结构,所述滤光结构包括多个滤光片,所述多个滤光片设置在所述触控走线层的多个间隙中;

形成覆盖所述触控走线层、遮光层和滤光结构的绝缘保护层。

根据本申请的其中一个方面,形成发光层之后还包括以下步骤:

形成隔离层,所述隔离层位于所述发光层上。

根据本申请的其中一个方面,形成所述触控走线层和遮光层的方法包括:

形成第一金属层,所述第一金属层设置在所述隔离层上;

形成第一绝缘层,所述第一绝缘层覆盖所述第一金属层;

形成第二金属层,所述第二金属层位于所述第一绝缘层上,并通过通孔与所述第一金属层电连接;

形成遮光层,所述遮光层覆盖所述第二金属层;

其中,所述多个间隙在所述显示面板的出光面上的投影与所述第一金属层和第二金属层在所述发光层上的投影不重叠。

根据本申请的其中一个方面,形成所述第二金属层和所述遮光层的方法包括:

形成金属薄膜,所述金属薄膜覆盖所述第一绝缘层;

形成黑色光阻,所述黑色光阻覆盖所述金属薄膜;

图形化所述黑色光阻,形成所述遮光层;

以所述黑色光阻为掩膜,将所述金属薄膜图形化,形成所述第二金属层。

根据本申请的其中一个方面,将所述金属薄膜图形化的方法为干法刻蚀;

其中,沿平行于所述金属薄膜表面的方向的刻蚀速度小于或等于沿垂直于所述金属薄膜表面的方向的刻蚀速度。

本申请采用集成在触控结构中的滤光片代替现有技术中的偏光片,有效的减小了显示面板的厚度,同时由于滤光片对光线的透过率远高于偏光片对光线的透过率,本申请有效的提高了显示面板的透光率,增强了显示效果和显示面板的使用寿命。同时,采用滤光片之间的黑色遮光矩阵作为掩膜版将触控结构中的金属层图形化,减少了用于图形化金属层的掩膜版,在简化了制作工艺的同时节约了制作成本。

附图说明

图1为本申请的一个具体实施例中的显示面板的结构示意图;

图2为图1中的显示面板的俯视图;

图3为图1中的显示面板的a区域的局部放大图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本申请,而非用以限制本申请。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。

本申请提供了一种显示面板及其制作方法,以提高显示面板的透光率,同时减小显示面板的厚度。

参见图1至图3,图1为本申请的一个具体实施例中的显示面板的结构示意图,图2为图1中的显示面板的俯视图,图3为图1中的显示面板的局部放大图。所述显示面板包括基板10、薄膜晶体管层20、发光层30、位于所述发光层30上方的触控层40,所述触控层40中集成有滤光结构50。本实施例中,所述显示面板还包括隔离层41,所述隔离层41位于所述发光层30和所述触控层40之间。

本实施例中,所述发光层30包括多个发光单元。所述多个发光单元包括红色发光单元31、蓝色发光单元32和绿色发光单元33。所述多个发光单元被像素定义层隔离。

所述触控层40包括触控走线层、滤光结构50和绝缘保护层55。

所述触控走线层包括多个间隙,所述多个间隙与所述多个发光单元对应设置。所述遮光层设置在所述触控走线层上。形成所述触控走线层的材料可以为低阻抗且抗氧化性强的金属,如tialti或者mo,也可以为高透光率的导电材料,如氧化铟锡(ito)或石墨烯,本申请中优选的使用tialti或ito形成所述触控走线层。

在本发明的一个实施例中,采用tialti形成所述触控走线层。由于tialti为导电性较好且不透光的金属材料,为了防止金属走线层的侧边对光线的反射,金属网格线宽应小于上层的遮光层的线宽。参见图1,所述第二金属层43的宽度小于着光彩54的宽度,二者形成类似“屋檐”状结构。例如,如第二金属层43的线宽为3~5μm,对应的遮光层54的线宽为3.5~5.5μm。增加图形化第二金属层43时水平方向的刻蚀速度可以实现这种宽度差异。

在本发明的一个实施例中,采用ito形成所述触控走线层。由于ito为透光材料,其侧边不会反射发光结构发出的光线,因此无需“屋檐”状结构。另外,相比于金属材料,ito阻抗较大且容易断裂,因此金属走线层的线宽相对金属材料较宽。在本实施例中,所述金属走线层的线宽为15~25μm,遮光层的线宽等于ito金属网格线宽。此外,本实施例中的金属走线层中存在均匀分布的多个断口,避免金属走线层在弯折中由于应力的作用断裂和剥离。

所述滤光结构50包括多个滤光片和多个遮光层54,所述多个滤光片设置在所述触控走线层的多个间隙中。所述多个滤光片和所述多个发光单元对应,任意一个滤光片所保留的光线颜色和与所述滤光片对应的发光单元发出的光线颜色相同。例如,本实施例中,与红色发光单元31对应设置的滤光片为红光滤光片51,与蓝色发光单元32对应设置的滤光片为蓝色滤光片52,与绿色发光单元33对应设置的滤光片为绿色滤光片53。所述绝缘保护层55覆盖所述触控走线层、遮光层和滤光结构。

本实施例中,所述触控走线层包括:

第一金属层44,所述第一金属层44设置在所述隔离层41上;

第一绝缘层42,所述第一绝缘层42覆盖所述第一金属层44;

第二金属层43,所述第二金属层43位于所述第一绝缘层42上,并通过通孔与所述第一金属层44电连接。

本申请中,所述遮光层54覆盖所述第二金属层43。所述多个间隙用于设置多个滤光片,为了保证所述多个滤光片位于对应的发光结构上方,所述多个间隙在所述显示面板的出光面上的投影与所述第一金属层44和第二金属层43在所述发光层30上的投影不重叠,且所述多个间隙的面积之和大于所述多个发光单元的面积之和。

参见图2,图2为图1中的显示面板的俯视图,本申请中,所述遮光层54作为黑色矩阵,和多个滤光片构成滤光结构,能够消除强光下显示面板的对光线的反射,代替偏光片。同时,所述滤光结构集成在所述触控层40中,所述遮光层54能够作为掩膜版将所述触控走线层图形化。这样设计一方面有效的减小了显示面板的厚度,另一方面减少了用于图形化金属层的掩膜版,在简化了制作工艺的同时节约了制作成本。

同样的,为了保证滤光结构的滤光效果,任意一个滤光片的边缘覆盖于所述滤光片相邻的遮光层54的边缘,如图1和图3所示。

本实施例中,为了消除所述遮光层54侧边对光线的反射作用,所述遮光层54的面积大于所述第二金属层43的面积,且所述遮光层54在所述发光层30上的投影覆盖所述第二金属层43在所述发光层30上的投影。

相应的,参见图1至图3,本申请还提供了一种显示面板的制作方法,该方法包括以下步骤。

首先,形成发光层30。本实施例中,所述发光层30包括多个发光单元。所述多个发光单元包括红色发光单元31、蓝色发光单元32和绿色发光单元33。所述多个发光单元被像素定义层隔离。

之后,在所述发光层30上方形成触控走线层和遮光层54,所述触控走线层包括多个间隙,所述多个间隙与所述多个发光单元对应设置。所述遮光层54设置在所述触控走线层上。

形成所述触控走线层的材料可以为低阻抗且抗氧化性强的金属,如tialti或者mo,也可以为高透光率的导电材料,如氧化铟锡(ito)或石墨烯,本申请中优选的使用tialti或ito形成所述触控走线层。

在本发明的一个实施例中,采用tialti形成所述触控走线层。由于tialti为导电性较好且不透光的金属材料,为了防止金属走线层的侧边对光线的反射,金属网格线宽应小于上层的遮光层的线宽。参见图1,所述第二金属层43的宽度小于着光彩54的宽度,二者形成类似“屋檐”状结构。例如,如第二金属层43的线宽为3~5μm,对应的遮光层54的线宽为3.5~5.5μm。增加图形化第二金属层43时水平方向的刻蚀速度可以实现这种宽度差异。

在本发明的一个实施例中,采用ito形成所述触控走线层。由于ito为透光材料,其侧边不会反射发光结构发出的光线,因此无需“屋檐”状结构。另外,相比于金属材料,ito阻抗较大且容易断裂,因此金属走线层的线宽相对金属材料较宽。在本实施例中,所述金属走线层的线宽为15~25μm,遮光层的线宽等于ito金属网格线宽。此外,本实施例中的金属走线层中存在均匀分布的多个断口,避免金属走线层在弯折中由于应力的作用断裂和剥离。

之后,形成滤光结构,所述滤光结构包括多个滤光片,所述多个滤光片设置在所述触控走线层的多个间隙中。所述多个滤光片和所述多个发光单元对应,任意一个滤光片所保留的光线颜色和与所述滤光片对应的发光单元发出的光线颜色相同。例如,本实施例中,与红色发光单元31对应设置的滤光片为红光滤光片51,与蓝色发光单元32对应设置的滤光片为蓝色滤光片52,与绿色发光单元33对应设置的滤光片为绿色滤光片53。

最后,形成覆盖所述触控走线层、遮光层54和滤光结构的绝缘保护层。

本申请中,形成发光层30之后还包括以下步骤:形成隔离层41,所述隔离层41位于所述发光层30上。所述隔离层41用于保护所述发光层30表面的40

结构,避免后续工艺损坏封装薄膜,破坏发光层30的密封结构。

本申请中,形成所述触控走线层和遮光层54的方法包括:形成第一金属层44,所述第一金属层44设置在所述隔离层41上。形成第一绝缘层42,所述第一绝缘层42覆盖所述第一金属层44。形成第二金属层43,所述第二金属层43位于所述第一绝缘层42上,并通过通孔与所述第一金属层44电连接。形成遮光层54,所述遮光层54覆盖所述第二金属层43。所述多个间隙在所述显示面板的出光面上的投影与所述第一金属层44和第二金属层43在所述发光层30上的投影不重叠。

本申请中,形成所述第二金属层43和所述遮光层54的方法包括:形成金属薄膜,所述金属薄膜覆盖所述第一绝缘层42。形成黑色光阻,所述黑色光阻覆盖所述金属薄膜。图形化所述黑色光阻,形成所述遮光层54。以所述黑色光阻为掩膜,将所述金属薄膜图形化,形成所述第二金属层43。

本申请中,所述遮光层54作为黑色矩阵,和多个滤光片构成滤光结构,能够消除强光下显示面板的对光线的反射,代替偏光片。同时,所述滤光结构集成在所述触控层40中,所述遮光层54能够作为掩膜版将所述触控走线层图形化。这样设计一方面有效的减小了显示面板的厚度,另一方面减少了用于图形化金属层的掩膜版,在简化了制作工艺的同时节约了制作成本。

本申请中,将所述金属薄膜图形化的方法为干法刻蚀。其中,沿平行于所述金属薄膜表面的方向的刻蚀速度小于或等于沿垂直于所述金属薄膜表面的方向的刻蚀速度。沿水平方向的刻蚀能够使第二金属层43的宽度小于所述遮光层54的宽度,进而所述遮光层54的面积大于所述第二金属层43的面积,且所述遮光层54在所述发光层30上的投影覆盖所述第二金属层43在所述发光层30上的投影。这样设计能够消除所述遮光层54侧边对光线的反射作用。

本申请采用集成在触控结构中的滤光片代替现有技术中的偏光片,有效的减小了显示面板的厚度,同时由于滤光片对光线的透过率远高于偏光片对光线的透过率,本申请有效的提高了显示面板的透光率,增强了显示效果和显示面板的使用寿命。同时,采用滤光片之间的黑色遮光矩阵作为掩膜版将触控结构中的金属层图形化,减少了用于图形化金属层的掩膜版,在简化了制作工艺的同时节约了制作成本。

综上所述,虽然本申请已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本申请,本领域的普通技术人员,在不脱离本申请的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

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