半导体装置的制作方法

文档序号:24341494发布日期:2021-03-19 12:23阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种半导体装置,包括:

一晶体管,具有一通道区,该通道区包含一成分元素与多个多余原子,且该成分元素属于元素周期表的一族,其中:

该些多余原子为氮,或属于元素周期表的该族,以及

该通道区中的该些多余原子的浓度介于约1019cm-3至约1021cm-3之间;以及

一隔离区,与该晶体管相邻,该隔离区亦含有该些多余原子,且该隔离区中的该些多余原子的浓度介于约1020cm-3至约1021cm-3之间。


技术总结
本公开涉及半导体装置。提供的鳍状场效晶体管装置包括通道区,其包含成分元素与多余原子,且成分元素属于元素周期表的一族,其中多余原子为氮或属于元素周期表的该族,以及通道区中的多余原子浓度介于约1019cm‑3至约1020cm‑3之间。

技术研发人员:林育樟;张添舜;聂俊峰;张惠政
受保护的技术使用者:台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日:2020.06.15
技术公布日:2021.03.19
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