一种显示面板的制作方法

[0001]
本发明涉及显示技术邻域，特别涉及一种显示面板。


背景技术：

[0002]
随着科技发展以及人们对产品要求的提高，柔性显示屏成为日受关注的领域。目前，降低屏幕的厚度进而实现屏幕的可折叠已经成为未来手机屏幕的发展趋势。
[0003]
如图1所示，图1为现有的一种oled显示屏的结构示意图，oled显示屏90包括从下至上依次层叠设置的阵列基板91、发光层92、封装层93、触控层94、偏光片95和盖板96。
[0004]
对于现行的oled显示屏，其偏光片是由λ/4相位迟滞片和线偏振片构成，其可有效地消除外部光照射到显示屏表面产生的反射光。但其的相位延迟能力通常不能满足所有可见光的抗反射要求，故导致反射光线不能完全被吸收。而传统的偏光片的厚度普遍在100μm的范围内，对于传统的外挂式偏光片，其主要是聚乙烯醇(pva)层拉伸后浸润碘离子形成起偏层，故无法集成到oled显示屏内部，进而限制了屏幕的厚度，降低了屏幕的弯折性能。故需提出具有更低反射的薄化偏光片。且由于屏幕的弯折性能，要求屏幕具有更大的视角。且由于偏光片的存在，oled显示屏的出光为线偏，故对于佩戴太阳镜(sunglass)的使用者，在特定观察角度由于消光效应显示屏画面不可见。


技术实现要素：

[0005]
本发明提供了一种显示面板，一方面用以解决现有显示面板中偏光片无法完全消除外部光照射到显示屏表面产生的反射光的技术问题；另一方面用以解决现有显示面板中偏光片的厚度过大，导致整体厚度增大，降低了屏幕的弯折性能的技术问题；再一方面用以解决现有显示面板中偏光片导致佩戴太阳镜的使用者在特定角度观察时出现显示屏画面不可见的技术问题。
[0006]
解决上述问题的技术方案是，本发明提供了一种显示面板，包括阵列基板、发光层、封装层、λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层；具体的，所述发光层设于所述阵列基板上；所述封装层设于所述阵列基板上且覆盖所述发光层；所述λ/4相位迟滞层设于所述封装层内，且对应所述发光层设置；所述纳米线结构层设于所述封装层上，且对应所述λ/4相位迟滞层设置。
[0007]
进一步地，所述λ/4相位迟滞层与所述纳米线结构层的层间间距范围为0.1-10μm。
[0008]
进一步地，所述发光层包括多个像素单元；所述λ/4相位迟滞层包括多个1/4波片，每一1/4波片与一像素单元对应设置；所述1/4波片的厚度范围为0.01-1μm。
[0009]
进一步地，所述纳米线结构层包括多个纳米线阵列单元，每一纳米线阵列单元与一像素单元对应设置。
[0010]
进一步地，每一所述纳米线阵列单元包括多个平行设置的纳米线，所述纳米线之间等间距设置，用于在可见光的照射下产生等离激元效应；所述纳米线的宽度范围为5-100nm；所述纳米线的长度范围为1-10μm；所述纳米线的材质包括金或银。
[0011]
进一步地，每一像素单元包括若干个子像素，在同一像素单元中，所有子像素所对应的纳米线的排布方向一致。
[0012]
进一步地，所述显示面板设定有若干像素区，每一像素区具有若干个像素单元，同一区域中所有像素单元所对应的纳米线的排布方向一致。
[0013]
进一步地，在相邻两个像素区之间，其中一个像素区所对应的纳米线的排布方向与另一个像素区所对应的纳米线的排布方向相互垂直。
[0014]
进一步地，所述封装层包括层叠设置的第一无机层、有机层及第二无机层；所述λ/4相位迟滞层设于所述有机层与第二无机层之间。
[0015]
进一步地，所述显示面板还包括保护层；所述保护层设于所述纳米线结构层上；所述保护层的厚度范围为0.1-10μm；所述保护层的材质包括氮化硅。
[0016]
本发明的有益效果是，提供了一种显示面板。一方面通过对应设置λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层，当外界光线照射到纳米线结构层表面时，只有偏振方向平行于纳米线的线偏振单色光透过纳米线结构层，其他偏振态的光被纳米线结构层吸收，透过的线偏振单色光经过纳米线结构层下方的λ/4相位迟滞层后转变为左旋或右旋的圆偏振光，该圆偏振光被发光层下方的阳极反射后增加π的相位差进而转变为右旋或左旋的圆偏光，反射的圆偏振光经过阴极上方的λ/4相位迟滞层转变为线偏振光，线偏振光的偏振方向垂直于纳米线，故反射的线偏振光被纳米线阵列吸收，故λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层构成的复合结构可有效地降低显示屏对外界光的反射。另一方面通过将λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层集成在封装层，替换了现有的偏光片，有效减小了显示面板的整体厚度，并且λ/4相位迟滞层包括多个1/4波片，纳米线结构层包括多个纳米线阵列单元，λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层均不是一体结构，且1/4波片与纳米线阵列单元对应设置，降低了屏幕的弯折时的应力，从而提升了弯折性能。再一方面通过设置在同一像素区内的所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相同，并设置在相邻的像素区内的两个所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相互垂直，可实现佩戴太阳镜的使用者在任意角度均能观看到屏幕中的画面，故实现了在佩戴太阳镜时正常使用显示面板的功能。
附图说明
[0017]
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0018]
图1为现有的一种oled显示屏的结构示意图。
[0019]
图2为本发明实施例中的显示面板的截面结构示意图。
[0020]
图3为本发明实施例中的所述纳米线结构层透过光线的原理图。
[0021]
图4为本发明实施例中的显示面板在两种光线传播路径时的原理图。
[0022]
图5为本发明实施例中在相邻的像素区内的两个所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相互垂直的结构示意图。
[0023]
附图中的标识如下：
[0024]
1、阵列基板，2、发光层，3、阴极层，
[0025]
4、封装层，5、λ/4相位迟滞层，6、纳米线结构层，
[0026]
7、保护层，11、柔性基底，12、有源层，
[0027]
13、第一栅极绝缘层，14、第一栅极金属层，15、第二栅极绝缘层，
[0028]
16、第二栅极金属层，17、间绝缘层，18、源漏极层，
[0029]
19、平坦层，20、阳极层，21、像素定义层，
[0030]
22、支撑层，41、第一无机层，42、有机层，
[0031]
43、第二无机层，51、1/4波片，61、纳米线，
[0032]
90、oled显示屏，91、阵列基板，92、发光层，
[0033]
93、封装层，94、触控层，95、偏光片，
[0034]
96、盖板，100、显示面板，110、像素单元，
[0035]
111、像素区，120、纳米线阵列单元。
具体实施方式
[0036]
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0037]
如图2所示，本发明实施例中提供了一种显示面板100，包括阵列基板1、发光层2、阴极层3、封装层4、λ/4相位迟滞层5以及纳米线结构层6。具体的，所述阵列基板1包括柔性基底11和在所述柔性基底11上依次形成的有源层12、第一栅极绝缘层13、第一栅极金属层14、第二栅极绝缘层15、第二栅极金属层16、间绝缘层17、源漏极层18、平坦层19、阳极层20、像素定义层21、支撑层22。在所述像素定义层21上设置多个像素定义槽，其槽底为阳极层20的上表面。所述发光层2包括多个像素单元110，设于所述阵列基板1上，具体设于所述像素定义槽内；所述阴极层3设于所述发光层2上，所述阴极层3与所述阳极层20共同驱动所述发光层2发光；所述封装层4设于所述阴极层3上即所述封装层4设于所述发光层2上，所述封装层4用于阻隔水氧以保护所述发光层2；其中所述λ/4相位迟滞层5设于所述封装层4内，且对应所述发光层2设置；所述纳米线结构层6设于所述封装层4上，且对应所述λ/4相位迟滞层5设置，即对应所述发光层2设置。
[0038]
本实施例通过对应设置λ/4相位迟滞层5以及纳米线结构层6，实现了将偏光片集成在封装层4，替换了现有的偏光片，有效减小了显示面板100的整体厚度。
[0039]
本实施例中，所述λ/4相位迟滞层5与所述纳米线结构层6的层间间距范围为0.1-10μm。这一层间间距足够小能够减小两者集成的偏光片的厚度。
[0040]
本实施例中，所述λ/4相位迟滞层5包括多个1/4波片51，每一1/4波片51与一像素单元110对应设置，所述1/4波片51用于将线偏振光和圆偏振光相互转换。当线偏振光穿过所述1/4波片51(亦即所述λ/4相位迟滞层5)时变为圆偏振光；当圆偏振光穿过所述1/4波片51(亦即所述λ/4相位迟滞层5)时变为线偏振光。
[0041]
本实施例中，所述1/4波片51的厚度范围为0.01-1μm，能够减小两者集成的偏光片的厚度。
[0042]
本实施例中，所述纳米线结构层6包括多个纳米线阵列单元120，每一纳米线阵列单元120与一像素单元110对应设置，亦即每一纳米线阵列单元120与一1/4波片51对应设置。本发明不仅通过将λ/4相位迟滞层5以及纳米线结构层6集成在封装层4，替换了现有的
偏光片，有效减小了显示面板100的整体厚度，并且λ/4相位迟滞层5包括多个1/4波片51，纳米线结构层6包括多个纳米线阵列单元120，λ/4相位迟滞层5以及纳米线结构层6均不是一体结构，且1/4波片51与纳米线阵列单元120对应设置，降低了屏幕的弯折时的应力，从而提升了弯折性能。
[0043]
如图3所示，本实施例中，每一纳米线阵列单元120包括多个平行设置的纳米线61，所述纳米线61之间等间距设置，用于在可见光的照射下产生等离激元效应。
[0044]
等离激元效应具体为：当光波(电磁波)入射到金属与介质分界面时，金属表面的自由电子发生集体振荡，电磁波与金属表面自由电子耦合而形成的一种沿着金属表面传播的近场电磁波，如果电子的振荡频率与入射光波的频率一致就会产生共振，在共振状态下电磁场的能量被有效地转变为金属表面自由电子的集体振动能，这时就形成的一种特殊的电磁模式：电磁场被局限在金属表面很小的范围内并发生增强，这种现象就被称为表面等离激元现象。
[0045]
为减小显示面板100的厚度，在不同颜色的像素点上方加工具有等离激元耦合效应的纳米线61结构阵列排布形成所述纳米线结构层6。所述纳米线61的宽度范围为5-100nm；所述纳米线61的长度范围为1-10μm；所述纳米线61的材质包括金或银。贵金属纳米线61在受到对应波长的可见光照射时会产生等离激元效应。纳米线61在可见光的照射下，表面的自由电子与可见光相互振荡进而形成表面波，当纳米线61以一定距离周期排列时，纳米线61的等离激元效应相互耦合产生新奇的光学特性。通过调节纳米线61阵列的排列方向和间距等结构参数，纳米线61阵列可透过与纳米线61平行的线偏振光，而吸收其他类型的偏振光，如图3所示，图3中列举了(a)、(b)两种不同排布方向的纳米线61阵列，其均可仅透过与纳米线61平行的线偏振光。具体通过调节纳米线61的形状、尺寸、材料、间距等参数可实现对不同波长的可见偏振光的吸收。不同颜色的像素点上方加工不同结构的纳米线61阵列，该纳米线61阵列只透过该像素点发出的特定波长的线偏振光，而吸收其他波长的可见光和该波长的其他偏振光。通过控制纳米线61阵列的排列方向可实现对出射线偏振光偏振方向的控制。
[0046]
如图4所示，图4中列举了(a)、(b)两种光线传播路径时的原理图。在图4中的(a)图中发光层2发出光线，在图4中的(b)图中外界光线照射进入显示面板100。如图4中的(a)图所示，每个像素点发出的光包含各种偏振状态，当各种偏振状态的单色光经过纳米线61阵列时只有偏振平行于纳米线61的线偏振光透过纳米线61阵列，而其他偏振态的单色光被纳米线61阵列吸收，故显示屏发出的光为线偏振光，偏振方向由纳米线61的排列方向决定。如图4中的(b)图所示，各种偏振状态的外界照射到纳米线61阵列表面时，只有偏振方向平行于纳米线61的线偏振单色光透过纳米线61阵列，其他偏振态的光被纳米线61阵列吸收，透过的线偏振单色光经过纳米线61阵列下方的1/4波片51超材料后转变为左旋或右旋的圆偏振光，该圆偏振光被el器件下方的阳极反射后增加π的相位差进而转变为右旋或左旋的圆偏光，反射的圆偏振光经过阴极上方的1/4波片51超材料转变为线偏振光，线偏振光的偏振方向垂直于纳米线61，故反射的线偏振光被纳米线61阵列吸收。故纳米线61阵列与1/4波片51超材料构成复合结构可有效地降低显示屏对外界光的反射。
[0047]
如图2、图3、图5所示，本实施例中，所述像素单元110包括若干个子像素，具体为红色子像素r、绿色子像素g、蓝色子像素b，每三个相邻设置的红色子像素r、绿色子像素g、蓝
色子像素b形成一像素单元110。
[0048]
所述显示面板100设有多个相邻设置的若干个像素区111；所述像素区111包括若干个所述像素单元110，同一区域中所有像素单元110所对应的纳米线61的排布方向一致；在相邻两个像素区之间，其中一个像素区所对应的纳米线61的排布方向与另一个像素区所对应的纳米线61的排布方向相互垂直。即设置在同一像素区111内的所述纳米线阵列单元120的纳米线61的排布方向相同；设置在相邻的像素区111内的两个所述纳米线阵列单元120的纳米线61的排布方向相互垂直。在图5中，所述像素区111包括三个所述像素单元110，左侧的所述像素区111的纳米线61的排布方向为-45度，右侧的所述像素区111的纳米线61的排布方向为45度，从而左侧的所述像素区111的纳米线61的排布方向与右侧的所述像素区111的纳米线61的排布方向相互垂直。
[0049]
本实施例通过设置在同一像素区111内的所述纳米线阵列单元120的纳米线61的排布方向相同，并设置在相邻的像素区111内的两个所述纳米线阵列单元120的纳米线61的排布方向相互垂直，可实现佩戴太阳镜的使用者在任意角度均能观看到屏幕中的画面，故实现了在佩戴太阳镜时正常使用显示面板100的功能。
[0050]
如图2所示，本实施例中，所述封装层4包括层叠设置的第一无机层41、有机层42及第二无机层43；所述λ/4相位迟滞层5设于所述有机层与第二无机层之间。其中第一无机层及第二无机层的材质包括氮化硅，有机层可通过喷墨打印方式制作。由于所述λ/4相位迟滞层5与所述纳米线结构层6的间距范围为0.1-10μm，因此所述第二无机层的厚度范围为0.1-10μm，这样设置可减少膜层厚度，即能够减小集成的偏光片的厚度。
[0051]
如图2所示，本实施例中，所述显示面板100还包括保护层7；所述保护层7设于所述纳米线结构层6上；所述保护层7的厚度范围为0.1-10μm；所述保护层7的材质包括氮化硅，用于阻隔水氧并保护所述纳米线结构层6。
[0052]
本发明的有益效果是，提供了一种显示面板，一方面通过对应设置λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层，当外界光线照射到纳米线结构层表面时，只有偏振方向平行于纳米线的线偏振单色光透过纳米线结构层，其他偏振态的光被纳米线结构层吸收，透过的线偏振单色光经过纳米线结构层下方的λ/4相位迟滞层后转变为左旋或右旋的圆偏振光，该圆偏振光被发光层下方的阳极反射后增加π的相位差进而转变为右旋或左旋的圆偏光，反射的圆偏振光经过阴极上方的λ/4相位迟滞层转变为线偏振光，线偏振光的偏振方向垂直于纳米线，故反射的线偏振光被纳米线阵列吸收，故λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层构成的复合结构可有效地降低显示屏对外界光的反射。另一方面通过将λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层集成在封装层，替换了现有的偏光片，有效减小了显示面板的整体厚度，并且λ/4相位迟滞层包括多个1/4波片，纳米线结构层包括多个纳米线阵列单元，λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层均不是一体结构，且1/4波片与纳米线阵列单元对应设置，降低了屏幕的弯折时的应力，从而提升了弯折性能。再一方面通过设置在同一像素区内的所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相同，并设置在相邻的像素区内的两个所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相互垂直，可实现佩戴太阳镜的使用者在任意角度均能观看到屏幕中的画面，故实现了在佩戴太阳镜时正常使用显示面板的功能。
[0053]
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请
的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。