复合集流体、电极极片及电化学装置的制作方法

文档序号:25038479发布日期:2021-05-11 17:11阅读:81来源:国知局
复合集流体、电极极片及电化学装置的制作方法

本申请涉及一种复合集流体、电极极片及电化学装置。



背景技术:

电化学装置能够进行充放电,已广泛应用于消费类产品、数码类产品、动力产品、医疗及安防等领域。集流体是电化学装置中的活性材料的载体,是电化学装置中重要组成部分,与电化学装置的能量密度密切相关。现有制造集流体的过程中,一般是先在低密度的聚合物薄膜表面通过金属物理气相沉积得到金属聚合物薄膜。为了使得集流体具备较优异的导电性能,需对聚合物薄膜进行较大厚度金属层的沉积,但是集流体厚度的增加会降低电化学装置的能量密度,且该种方式制作得到的集流体抵抗电解液的侵蚀能力较差,金属层容易在电化学装置长期运行过程中脱落引发失效。



技术实现要素:

本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本申请的一个方面在于提出一种复合集流体,通过在导电层靠近连接层的一侧形成钝化层,可避免电解液从连接层与导电层相对的一面进入时与导电层相接触,导致导电层被电解液腐蚀破坏,可提高集流体的稳定性。

本申请实施例提出了一种复合集流体,包括基体、第一连接层和第一导电层,所述第一连接层用于将所述第一导电层粘接至所述基体的第一表面;所述第一导电层靠近所述第一连接层的表面形成有第一钝化层。

在一些实施例中,所述复合集流体还包括第二连接层和第二导电层,所述第二连接层用于将所述第二导电层粘接至所述基体的第二表面,所述第二导电层靠近所述第二连接层的表面形成有第二钝化层。

在一些实施例中,所述基体的厚度为2μm-36μm,所述第一连接层的厚度为0.2μm-2μm,所述第一导电层厚度为100nm-5000nm,所述第一钝化层的厚度为5nm-200nm。

在一些实施例中,所述基体选自聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酰对苯二胺薄膜、聚酰亚胺薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚甲醛薄膜、聚对苯硫醚薄膜、聚对苯醚薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚酰胺薄膜、聚四氟乙烯薄膜中的至少一种。

在一些实施例中,所述第一连接层选自聚氨酯、环氧树脂、聚丙烯酸酯、聚醋酸乙烯酯、不饱和聚酯、酚醛树脂、脲醛树脂、改性聚烯烃树脂、有机硅树脂、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、聚酰胺中的至少一种。

在一些实施例中,所述第一钝化层选自氧化铝层、氧化钛层、氧化锆层、氮化铝层、氮化钛层、碳化钛层、碳化锆层、二氧化硅层、氮化硅层、碳化硅层、铝铬酸盐层中的至少一种。

在一些实施例中,所述第一导电层选自铝、铜、镍、铁、钛、银、金、钴、铬、钼、钨中的至少一种。

在一些实施例中,所述基体的第一表面设置有槽状图案,所述连接层还填充于所述槽状图案。

在一些实施例中,所述槽状图案由一个或多个孔状结构组成。

在一些实施例中,至少一个所述孔状结构贯穿所述基体,或者至少一个所述孔状结构不贯穿所述基体。

本申请的另外一方面在于提出了一种电极极片,包括复合集流体及活性材料层。复合集流体包括基体、第一连接层和第一导电层,所述第一连接层用于将所述第一导电层粘接至所述基体的第一表面;所述第一导电层靠近所述第一连接层的表面形成有第一钝化层。活性材料层设置于所述复合集流体的第一导电层背离所述基体的表面。

本申请的另外一方面在于提出了一种电化学装置,包括电极极片。该电极极片包括复合集流体及活性材料层。复合集流体包括基体、第一连接层和第一导电层,所述第一连接层用于将所述第一导电层粘接至所述基体的第一表面;所述第一导电层靠近所述第一连接层的表面形成有第一钝化层。活性材料层设置于所述复合集流体的第一导电层背离所述基体的表面

根据本申请实施例的复合集流体,通过在导电层靠近连接层的一侧形成钝化层,可避免电解液从连接层与导电层相对的一面进入时与导电层相接触,导致导电层被电解液腐蚀破坏,可提高集流体的稳定性。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1示出了根据本申请一实施例的复合集流体的结构示意图;

图2示出了根据本申请另一实施例的复合集流体的结构示意图;

图3示出了根据本申请一实施例的基体表面形成有槽状图案的结构示意图;

主要元件符号说明:

基体10,第一表面11,第二表面12,第一连接层20,第一导电层30,第一钝化层40,第二连接层50,第二导电层60,第二钝化层70,槽状图案80,孔状结构81。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。

下面参考图1-图3具体描述根据本申请实施例的复合集流体100。

如图1所示,根据本申请实施例的复合集流体100,包括基体10、第一连接层20、第一导电层30及第一钝化层40。第一连接层20位于基体10与第一导电层30之间,第一导电层30靠近第一连接层20的表面形成有该第一钝化层40。第一连接层20的一表面与基体10的第一表面11粘接,第一连接层20的另一表面与第一钝化层40粘接,进而使得第一连接层20可以将第一导电层30粘接至基体10的第一表面11。

比如,第一钝化层40可以通过化学反应或气相沉积的方式紧密贴合在第一导电层30表面。

如图2所示,复合集流体100还包括第二连接层50、第二导电层60及第二钝化层70。第二连接层50位于基体10与第二导电层60之间,第二导电层60靠近第二连接层50的表面形成有该第二钝化层70。第二连接层50的一表面与基体10的第二表面11粘接,第二连接层50的另一表面与第二钝化层70粘接,进而使得第二连接层50可以将第二导电层60粘接至基体10的第二表面12。

比如,第二钝化层70可以通过化学反应或气相沉积的方式紧密贴合在第二导电层60表面。

在一些实施例中,第一导电层30与第二导电层60可以采用物理气相沉积工艺制成,该物理气相沉积工艺可以选自磁控溅射法、坩埚舟蒸发镀膜法、电子束蒸发镀膜法中的任意一种。第一导电层30与第二导电层60可以通过电子束蒸发、直流磁控溅射、射频磁控溅射、表面氧化、化学沉积、喷涂等加工工艺来在其表面分别形成第一钝化层40与第二钝化层70。所述第一钝化层40可用于避免电解液从第一连接层20与第一导电层30相对的一面进入时与第一导电层30接触,导致第一导电层30被腐蚀破坏,第二钝化层70可用于避免电解液从第二连接层50与第二导电层60相对的一面进入时与第二导电层60接触,导致第二导电层60被腐蚀破坏,进而可提高复合集流体100的稳定性。

在一些实施例中,所述基体10可以选自聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酰对苯二胺薄膜、聚酰亚胺薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚甲醛薄膜、聚对苯硫醚薄膜、聚对苯醚薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚酰胺薄膜、聚四氟乙烯薄膜中的至少一种。所述基体10的厚度可以为2μm-36μm。

在一些实施例中,第一连接层20与第二连接层50的材质可以选自聚氨酯、环氧树脂、聚丙烯酸酯、聚醋酸乙烯酯、不饱和聚酯、酚醛树脂、脲醛树脂、改性聚烯烃树脂、有机硅树脂、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、聚酰胺中的至少一种。第一连接层20与第二连接层50的厚度均可以为0.2μm-2μm。

在一些实施例中,第一导电层30与第二导电层60的材质可以选自铝、铜、镍、铁、钛、银、金、钴、铬、钼、钨中的至少一种。第一导电层30与第二导电层60的厚度均可以为100nm-5000nm。

在一些实施例中,第一钝化层40与第二钝化层70可以选自氧化铝层、氧化钛层、氧化锆层、氮化铝层、氮化钛层、碳化钛层、碳化锆层、二氧化硅层、氮化硅层、碳化硅层、铝铬酸盐层中的至少一种。第一钝化层40与第二钝化层70的厚度均可以为5nm-200nm。在其他实施例中,第一钝化层40还可以由钝化液涂覆于第一导电层30靠近第一连接层20的表面形成,第二钝化层70还可以由钝化液涂覆于第二导电层60靠近第二连接层50的表面形成。钝化液可以是指能使金属表面呈钝态的溶液,钝化液可以在金属表面形成能阻止金属正常反应的表面状态,提高其抗蚀性。

本申请实施例的复合集流体100,通过在导电层靠近连接层的一侧形成钝化层,可避免电解液从连接层与导电层相对的一面进入时与导电层相接触,导致导电层被电解液腐蚀破坏,可提高集流体的稳定性。

如图3所示,基体10的第一表面11设置有槽状图案80,第一连接层20还可填充于该槽状图案80,进而可以提高第一连接层20与基体10的粘接力,使得第一导电层30不易从基体10脱落,进一步提高集流体的稳定性。

在一些实施例中,可以对基体10的第一表面11进行造孔、刻画等图案化处理来形成槽状图案80。比如通过激光打孔、核径迹蚀刻、化学刻蚀、光化学刻蚀等处理方式来在第一表面11上形成槽状图案80。

在一些实施例中,槽状图案80可以由一个或多个孔状结构81组成,该些孔状结构可以根据实际需要设定为贯穿基体10或不贯穿基体10。比如,该多个孔状结构81均贯穿基体10,该多个孔状结构81均不贯穿基体10,或者该多个孔状结构81中的部分孔状结构贯穿基体10,另一部分孔状结构不贯穿基体10。

在一些实施例中,孔状结构81的形状可以根据实际需求进行设定,比如如图3所示的孔状结构81为圆形孔。孔状结构81还可以是三角形孔、四边形孔、多边形孔、不规则形状孔等。

在一些实施例中,基体10的第二表面12也可以设置有槽状图案80,第二连接层50填充于该槽状图案80,进而可以提高第二连接层50与基体10的粘接力,使得第二导电层60不易从基体10脱落。

此外,本申请还公开了一种电极极片,该电极极片包括上述任一种情况的复合集流体100。

在一些实施例中,第一导电层30远离第一连接层20的表面设置有活性材料层,第二导电层60远离第二连接层50的表面亦设置有该活性材料层。若复合集流体100为阴极集流体,则该活性材料层为阴极活性材料涂层。若复合集流体100为阳极集流体,则该活性材料层为阳极活性材料涂层。

此外,本申请还公开了一种电化学装置,该电化学装置包括上述任一种情况的电极极片。电化学装置可以是锂离子电池、锂聚合物电池等等。

以下陈述的对比例1、对比例2及对比例3均为未设置有钝化层的复合集流体。

对比例1

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝度达到200nm后,停止镀铝。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆双酚a型环氧树脂和胺类固化剂的混合物,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的具有镀铝层的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第一对比复合集流体。

对比例2

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到500nm后,停止镀铝。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆双酚a型环氧树脂和胺类固化剂的混合物,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的具有镀铝层的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第二对比复合集流体。

对比例3

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到500nm后,停止镀铝。将厚度为12μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆单组份聚氨酯胶粘剂,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的具有镀铝层的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第三对比复合集流体。

以下陈述的具体实施例1~6为采用本发明实施例中的包含有钝化层的复合集流体。

实施例1

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到200nm后,停止镀铝,随后对铝层表面溅射一层厚度为5nm的al2o3钝化层待用。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆双酚a型环氧树脂和胺类固化剂的混合物,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的镀铝层经过钝化后的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第一复合集流体。

实施例2

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到500nm后,停止镀铝,随后对铝层表面溅射一层厚度为10nm的al2o3钝化层待用。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆双酚a型环氧树脂和胺类固化剂的混合物,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的镀铝层经过钝化后的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第二复合集流体。

实施例3

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到500nm后,停止镀铝,随后对铝层表面溅射一层厚度为20nm的al2o3钝化层待用。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆双酚a型环氧树脂和胺类固化剂的混合物,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的镀铝层经过钝化后的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第三复合集流体。

实施例4

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到500nm后,停止镀铝,随后对铝层表面溅射一层厚度为20nm的al2o3钝化层待用。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆单组份聚氨酯胶粘剂,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的镀铝层经过钝化后的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第四复合集流体。

实施例5

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到500nm后,停止镀铝,随后对铝层表面溅射一层厚度为20nm的tio2钝化层待用。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆单组份聚氨酯胶粘剂,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的镀铝层经过钝化后的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第五复合集流体。

实施例6

将50μm厚度的聚酰亚胺薄膜置于坩埚舟式真空蒸发镀铝机真空室,将真空室密封并将真空镀铝机气压抽至10-3pa,待坩埚舟温度调节至1200-1500℃,开始镀铝,待铝厚度达到500nm后,停止镀铝,随后涂覆含cr3+的涂覆液形成约200nm厚的铝铬酸盐钝化层待用。将12μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行电晕处理,并在其表面涂覆单组份聚氨酯胶粘剂,在涂覆物的开放时间之内,将此前处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜与聚酰亚胺薄膜上的镀铝层经过钝化后的表面进行热压复合(热压复合的温度为85℃、压力为0.7mpa),得到第六复合集流体。

在一些实施例中,对实施例1~6与对比例1~3得到的复合集流体进行浸泡实验,实施过程可以为:将每一复合集流体裁切成长度为5cm、宽度为2cm的集流体样条浸泡于电解液中,并用铝塑膜封装起来以去除外界环境干扰,最终将其置于85℃的恒温干燥箱中保持72小时后取出观察每一复合集流体的外观情况。如下表1所示,汇整了实施例1~6与对比例1~3相比较的复合集流体的观察结果。

表1

由上表1可知,实施例1~6的复合集流体的电解液耐受性显著优于对比例1~3,表明了在导电层内表面设置钝化层可避免电解液从连接层与导电层相对的表面进入时与导电层发生接触,引起导电层被电解液腐蚀破坏,从而提高复合集流体的稳定性。

在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上。

在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本申请的实施例,本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本申请的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型。

当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1