一种硅片边缘刻蚀专用吸盘的制作方法

1.本实用新型涉及吸盘，特别涉及一种硅片边缘刻蚀专用吸盘。


背景技术：

2.在米粒大的硅片上，已能集成16万个晶体管，这是科学技术进步的又一个里程碑，地壳中含量达25.8％的硅元素，为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一，对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言，储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一，本实用新型涉及一种硅片边缘刻蚀专用吸盘。
3.专利号：cn111102283a的公布了一种吸盘，该设计密封面采用球铁本体堆焊不锈钢密封面不易磨损。
4.但是上述专利还存在以下不足：1、上述设计吸盘实用性较低。


技术实现要素：

5.本实用新型的主要目的在于提供一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，可以最大程度保证刻蚀过程中对背封膜的保护，能让真空分布更加均匀，吸附后硅片平整，有利于刻蚀效果，而且水洗时吸盘自身的残酸更易清洗，且带水量更少，吸盘的实用性十分高，可以有效解决背景技术中的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
7.一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，包括吸盘主体，所述吸盘主体的顶端中间部位安装有定位机构，所述吸盘主体的内部安装有真空腔室，所述吸盘主体的底端安装有密封圈安装槽。
8.进一步地，所述吸盘主体的表面安装有真空接入口，真空接入口用于连接机器上的真空气管。
9.进一步地，所述吸盘主体的顶端位于定位机构的四周均安装有固定螺栓孔，固定螺栓孔用于螺栓的安装。
10.与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：吸盘主体通过上部对应的定位机构定位到机器的安装支座上，并使用螺栓作用于固定螺栓孔进行紧固，依次紧固到位后，将装置上的真空气管连接真空接入口，机械臂运行到取片位，与取片位硅片贴合后，开启真空气源，硅片被紧密的吸附在吸盘主体上，并且吸盘主体的底端有多个密封圈安装槽能安装多层的密封圈，从而能很好的对吸附内部进行保护，防止在作业中有酸进入保护区域，这样通过多层密封圈的设计，可以最大程度保证刻蚀过程中对背封膜的保护，能让真空分布更加均匀，吸附后硅片平整，有利于刻蚀效果，而且有了多层密封圈的密封，水洗时吸盘自身的残酸不会进入吸盘内部，这样更易清洗，且带水量更少，总上所述，吸盘主体的实用性更高。
附图说明
11.图1为本实用新型一种硅片边缘刻蚀专用吸盘的内部结构示意图；
12.图2为本实用新型一种硅片边缘刻蚀专用吸盘的顶部结构示意图；
13.图3为本实用新型一种硅片边缘刻蚀专用吸盘的整体结构示意图。
14.图中：1、吸盘主体；2、密封圈安装槽；3、固定螺栓孔；4、定位机构；5、真空腔室；6、真空接入口。
具体实施方式
15.为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
16.如图1-3所示，一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，包括吸盘主体1，所述吸盘主体1的顶端中间部位安装有定位机构4，所述吸盘主体1的内部安装有真空腔室5，所述吸盘主体1的底端安装有密封圈安装槽2。
17.其中，所述吸盘主体1的表面安装有真空接入口6，真空接入口6用于连接机器上的真空气管。
18.其中，所述吸盘主体1的顶端位于定位机构4的四周均安装有固定螺栓孔3，固定螺栓孔3用于螺栓的安装。
19.需要说明的是，本实用新型为一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，吸盘主体1通过上部对应的定位机构4定位到机器的安装支座上，并使用螺栓作用于固定螺栓孔3进行紧固，依次紧固到位后，将装置上的真空气管连接真空接入口6，机械臂运行到取片位，与取片位硅片贴合后，开启真空气源，硅片被紧密的吸附在吸盘主体1上，并且吸盘主体1的底端有多个密封圈安装槽2能安装多层的密封圈，从而能很好的对吸附内部进行保护，防止在作业中有酸进入保护区域，这样通过多层密封圈的设计，可以最大程度保证刻蚀过程中对背封膜的保护，能让真空分布更加均匀，吸附后硅片平整，有利于刻蚀效果，而且有了多层密封圈的密封，水洗时吸盘自身的残酸不会进入吸盘内部，这样更易清洗，且带水量更少，总上所述，吸盘主体1的实用性更高。
20.以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。


技术特征：
1.一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，包括吸盘主体(1)，其特征在于：所述吸盘主体(1)的顶端中间部位安装有定位机构(4)，所述吸盘主体(1)的内部安装有真空腔室(5)，所述吸盘主体(1)的底端安装有密封圈安装槽(2)。2.根据权利要求1所述的一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，其特征在于：所述吸盘主体(1)的表面安装有真空接入口(6)。3.根据权利要求1所述的一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，其特征在于：所述吸盘主体(1)的顶端位于定位机构(4)的四周均安装有固定螺栓孔(3)。

技术总结
本实用新型公开了一种硅片边缘刻蚀专用吸盘，包括吸盘主体，所述吸盘主体的顶端中间部位安装有定位机构，所述吸盘主体的内部安装有真空腔室，所述吸盘主体的底端安装有密封圈安装槽，本实用新型可以最大程度保证刻蚀过程中对背封膜的保护，能让真空分布更加均匀，吸附后硅片平整，有利于刻蚀效果，而且水洗时吸盘自身的残酸更易清洗，且带水量更少，吸盘的实用性十分高。实用性十分高。实用性十分高。


技术研发人员：马胜南
受保护的技术使用者：南轩（天津）科技有限公司
技术研发日：2021.11.26
技术公布日：2022/6/7