其是弹性材料环绕环。如图4中以虚线进一步所示，这样的环27能够额外地或者替代地设置在基片承载器的后表面A的周边和/或设置在承载器表面％上。如果所述弹性环被布置在基片承载器7 4面向接管表面15。的上侧^上，它们就围绕用于所述一个或几个基片12的所述一个或几个凹处11。
[0063]同样地，在基片承载器上设置周边突出边缘25和/或设置具体地形成为弹性环的一个或几个阻尼器构件并不限于根据图3的实施例，反而是还能够当然可以与根据图1和/或图2的那些实施例相结合起来。
[0064]如从图4进一步显而易见，能够设置定位元件29，当接管时基片承载器7能够利用它横向精确地定位在接管表面1?上并且防止在其上滑动。如无论如何为技术人员所公知那样，这样的定位元件29能够包括带有斜边引导表面的突起、销等。同样，设置这样的定位元件能够应用在根据图1和图2的实施例中。
[0065]图5以俯视图示出根据本发明的基片承载器7或74，其优选地应用于根据本发明的传送和移交机构。其例如由单件铁磁不锈钢制成。在俯视图上，凹处11以及切口 16内的膜状基片12清晰可见，通过它基片承载器7或74的重量被优化成必要的重量。此外，能够看到较薄的周边突出边缘25。
[0066]图6高度简化且示意性地图示根据发明的传送和移交机构的另一个实施例。在多臂式传送和移交机器人32 (这里被构造有两个臂)上，接管机构15被设置在每个机器人臂的端部。通过两臂式机器人32作为一个整体的上下移动来实现根据图3的V15的上下移动。其绕垂直于承载器表面的轴线A以可控方式枢转地进行驱动。
[0067]接管机构15之一在承载器3上方相应地枢转，以便接管取决于操作模式而带有或不带有基片的基片承载器7，或者将其递送给承载器3。通过如α所示那样枢转机器人，例如刚完成接管的基片承载器7被枢转到目的地位置D，并且在那里例如被交给另一个承载器3’。同时，归功于多臂机构“空闭的”接管机构15被枢转到承载器3上方的位置。
[0068]在图7中，以功能框/信号流程图的形式简化地示出使用根据本发明迄今所述的传送和移交机构的被处理基片的制造。3、3Β、3。和示承载器或用于基片承载器7的传送元件。如图7中示意性所示，根据本发明的传送和移交机构在用于基片的处理站35之前或之后被布置在根据图6的两臂式机器人旁边。如图7中事实上所示，根据本发明的传送和移交机构能够被布置在处理站35之前和之后。归功于简单的构造，该基片承载器7在基片承载器3和接管机构15之间的接管和移交能够非常快速地(例如在500ms内)得以执行，如图7中示意性所示，这将显著地增加在被处理基片的制造期间整个处理过程的吞吐量。
【主权项】
1.一种用于盘形基片的传送和移交机构，包括: -带有承载器表面的承载器； -因其重量而保持在所述承载器表面上的托盘形基片承载器，每个基片承载器均具有至少一个用于基片的平面容置座并且具有由可磁化材料构成的至少一个部件； -带有与所述承载器表面对置且从其间隔开的接管表面的接管机构， 其中，所述承载器和所述接管机构彼此相对且彼此平行地以可控方式进行移动，并且因而至少一个所述基片承载器能够相应地循序达到与所述接管表面相对齐；其中，进一步地: -至少一个永磁体被设置在所述接管机构上； -所述至少一个永磁体和所述至少一个部件之间的距离可控地变化成两个预定距离位置，以致作用在所述基片承载器上的磁力在第一位置处大于所述基片承载器的重量，而在第二位置处则小于所述基片承载器的重量。
2.根据权利要求1所述的传送和移交机构，其特征在于，所述接管机构包括至少一个活塞，该活塞可在气动缸内朝向和背离所述承载器表面进行移动，并且与至少一个永磁体联接。
3.根据权利要求2所述的传送和移交机构，其特征在于，所述永磁体与所述活塞一起被封装在所述气动缸内。
4.根据权利要求1-3中之一所述的传送和转移装置，其特征在于，所述接管机构借助于驱动器可控地朝向和背离所述承载器表面进行移动。
5.根据权利要求1至4中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，所述至少一个永磁体被朝向所述承载器表面的材料层所覆盖。
6.根据权利要求1至5中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，弹性阻尼器构件被设置在所述接管表面和所述基片承载器之间和/或在所述基片承载器和所述承载器表面之间，其缓冲所述基片承载器在所述接管表面或所述承载器表面上的冲击。
7.根据权利要求7所述的传送和移交机构，其特征在于，所述阻尼器构件包括弹性环，该弹性环被布置在所述接管表面内和/或所述承载器表面内和/或所述基片承载器的表面内，并且在横截面上突出在相应布置表面上方。
8.根据权利要求1至8中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，所述基片承载器包括围绕所述容置座的周边突出边缘。
9.根据权利要求7和8所述的传送和移交机构，其特征在于，所述弹性环被布置在所述边缘上。
10.根据权利要求1至9中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，所述基片容置座包括在所述基片承载器内的凹处，其形状类似于所述基片，优选地是矩形、方形或圆形。
11.根据权利要求1至10中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，用于所述基片承载器的横向定位的横向引导件被设置在所述基片承载器上和/或所述接管表面上和/或所述承载器表面上。
12.根据权利要求1至11中之一所述的传送和移交机构，其特征在于，提供至少两个所述接管机构，其带有优选地沿垂直于轴线的共同平面的转移表面，并且共同地以可控方式绕该轴线可驱动地进行枢转。
13.一种带有至少一个用于基片的真空处理腔的真空处理设备，其特征在于，在所述真空处理腔之前或之后或每个所述真空处理腔之前和之后布置根据权利要求1-12中之一所述的用于该基片的传送和移交机构。
14.一种包括承载器托盘的基片承载器，该承载器托盘在其一个表面内具有至少一个凹处，所述凹处类似于待承接于其内的基片的轮廓形状，其中，所述承载器托盘的至少一个部件由可磁化材料制成。
15.一种用于制造在处理站中被处理的基片的方法，未处理基片被引导至所述处理站中，并且被处理基片从所述处理站被引导走，其中，所述引导至和/或所述引导走包括: -在带有承载器表面的承载器上，传送靠重力保持在所述承载器表面上且位于其上的基片承载器，每个基片承载器均具有带有基片的至少一个平面基片容置座并且至少部分地由可磁化材料制成； -相对地移动带有接管表面并且带有至少一个永磁体的接管机构和所述承载器，到达所述接管表面和基片承载器相互对齐的位置，所述接管表面与所述承载器表面对置且从其间隔开； -通过增大所述部件和所述永磁体之间的磁力来克服所述基片承载器的重量，并且从而由所述接管机构来接管带有所述基片的所述基片承载器； -将在所述接管机构上带有所述基片的所述基片承载器朝向所述处理站或背离所述处理站进行传送。
【专利摘要】一种用于盘形基片的传送和移交机构，其包括：承载器(3)和接管机构(15)。二者相对于彼此可移动。通过接管机构(15)处的永磁体(17)的远距离控制，可磁化材料制成的相对较重的基片承载器(7)由接管机构(15)进行接管或者从其返回到承载器(3)。借助于气动活塞/汽缸机构(19)来实现移交机构(15)中的永磁体(17)的受控驱动器。
【IPC分类】C23C14-04, H01L21-67, B01L9-00
【公开号】CN104584201
【申请号】CN201380030874
【发明人】沃塞 S., 加伊奇特 B., 马蒂西 P.
【申请人】欧瑞康先进科技股份公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2013年5月30日
【公告号】EP2862200A1, WO2013186058A1