tachiChemicalCo. ,Ltd.产品）、P肥、CEA、 P肥-2、P肥-4、BR-31、BR-31M和BR-32 值ai-IchiKogyoSeiyakuCo.，Ltd.的产品）、 VP度ASF的产品），和ACMO、DMM和DMAPAA化OHJINHoldingsCo.，Ltd.的产品）。
[0045] 组分（A)的其它具体实例包括具有两个W上丙締酷基或甲基丙締酷基的多官能 (甲基）丙締酸系化合物，如=径甲基丙烷二（甲基）丙締酸醋、=径甲基丙烷=(甲基） 丙締酸醋、EO改性的S径甲基丙烷S(甲基）丙締酸醋、PO改性的S径甲基丙烷S(甲基） 丙締酸醋、EO-改性的S径甲基丙烷S(甲基）丙締酸醋、PO-改性的S径甲基丙烷S(甲 基）丙締酸醋、季戊四醇S(甲基）丙締酸醋、季戊四醇四（甲基）丙締酸醋、乙二醇二（甲 基）丙締酸醋、四乙二醇二（甲基）丙締酸醋、聚乙二醇二（甲基）丙締酸醋、聚丙二醇二 (甲基）丙締酸醋、1，4-下二醇二（甲基）丙締酸醋、1，6-己二醇二（甲基）丙締酸醋、新 戊二醇二（甲基）丙締酸醋、立（2-径乙基）异氯脈酸醋立（甲基）丙締酸醋、立（丙締酷 氧基）异氯脈酸醋、双（径甲基环癸烧二（甲基）丙締酸醋、二季戊四醇五（甲基）丙 締酸醋、二季戊四醇六（甲基）丙締酸醋、EO改性的2,2-双（4-((甲基）丙締酷氧基）苯 基）丙烷、PO改性的2, 2-双（4-((甲基）丙締酷氧基）苯基）丙烷和EO-改性的2, 2-双 (4-((甲基）丙締酷氧基）苯基）丙烷、PO-改性的2,2-双（4-((甲基）丙締酷氧基）苯 基）丙烷。
[0046] 运些多官能（甲基）丙締酸系化合物的可商购获得产品的实例包括YUPIMERUV SA1002 和SA2007(MitsubishiChemicalCo巧oration的产品）、Viscoat#195、#230、#215、 #260、#335册、#295、#300、#360、#700、6口1'和3口4(03日1<:日0巧日]1；[。016111；[。日11]1(11131:巧1^1(1. 的产品）、LIGHTACRYLATE4EG-A、9EG-A、NP-A、DCP-A、BP-4EA、BP-4PA、TMP-A、PE-3A、PE-4A和DPE-6A〇(yoeishaChemicalCo.，Ltd.的产品）、KAYARAD阳T-30、TMPTA、R-604、DPHA、 DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120、HX-620、D-310和D-330(NIPP0NKAYAKUCo.，Ltd.的 产品）、AR0NIX1208、]?210、]\1215、]\1220、]\1240、]\005、]\009、]\010、]\015、]\1325和]\1400灯〇曰邑〇361 Co.，Ltd.的产品），和化PO巧VR-77、VR-60 和VR-90(ShowaDenkoCo.，Ltd.的产品）。
[0047] 在W上描述的化合物组中，"（甲基）丙締酸醋"表示丙締酸醋和相应的甲基丙締 酸醋。"（甲基）丙締酷基"是指丙締酷基和相应的甲基丙締酷基。EO表示环氧乙烧，"EO改性的化合物"是指具有环氧乙烷基团的嵌段结构的化合物。PO表示环氧丙烷，"PO改性 的化合物"是指具有环氧丙烷基团的嵌段结构的化合物。 W48] <组分做：光聚合引发剂〉 W例组分做为光聚合引发剂。
[0050] 用于本发明和说明书的目的，将光聚合引发剂定义为在感测特定波长的光时生成 聚合因子（自由基）的化合物。更具体地说，组分度）为在用光（红外线、可见光线、紫外 线、远紫外线、X射线、带电粒子束如电子束W及福射）照射时生成自由基的化合物。
[0051] 可使用一种光聚合引发剂或两种W上光聚合引发剂的组合作为组分度）。
[0052] 相对于组分（A)的总量，在光固化性组合物中用作组分度）的光聚合引发剂的共 混比为0.01重量％W上且10重量％ ^下，优选0. 1重量％W上且7重量％W下。
[0053] 由于相对于组分（A)的总量，用作组分度）的光聚合引发剂的共混比为0.01重 量％^上，因而固化速度倾向于高。由于光聚合引发剂的共混比为10重量％^下，因而光 固化性组合物的固化产物倾向于显示出良好的机械性质。
[0054] 组分度）的实例为光自由基生成剂。光自由基生成剂的实例包括，但不限于，取 代的或未取代的2, 4, 5-S芳基咪挫二聚物如2-(邻氯苯基）-4, 5-二苯基咪挫二聚物、 2-(邻氯苯基）-4, 5-二（甲氧基苯基）咪挫二聚物、2-(邻氣苯基）-4, 5-二苯基咪挫二 聚物和2-(邻或对甲氧基苯基）-4, 5-二苯基咪挫二聚物；二苯甲酬衍生物如二苯甲酬、 N，N' -四甲基-4, 4' -二氨基二苯甲酬（米氏酬）、N，N' -四乙基-4, 4' -二氨基二苯甲酬、 4-甲氧基-4' -二甲氨基二苯甲酬、4-氯二苯甲酬、4, 4' -二甲氧基二苯甲酬和4, 4' -二氨 基二苯甲酬；芳族酬衍生物如2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗嘟基苯基）-下酬-1，2-甲 基-1-[4-(甲硫基）苯基]-2-吗嘟基-丙-1-酬；酿类如2-乙基蔥酿、菲酿、2-叔下基 蔥酿、八甲基蔥酿、1，2-苯并蔥酿、2, 3-苯并蔥酿、2-苯基蔥酿、2, 3-二苯基蔥酿、1-氯蔥 酿、2-甲基蔥酿、1，4-糞酿、9, 10-菲酿、2-甲基-1，4-糞酿和2, 3-二甲基蔥酿；苯偶姻 酸衍生物如苯偶姻甲酸、苯偶姻乙酸和苯偶姻苯酸；苯偶姻衍生物如苯偶姻、甲基苯偶姻、 乙基苯偶姻和丙基苯偶姻；苄基衍生物如苄基二甲基缩酬；叮晚衍生物如9-苯基叮晚和 1，7-双巧，9' -日丫晚基）庚烧；N-苯基甘氨酸衍生物如N-苯基甘氨酸；苯乙酬衍生物如苯 乙酬、3-甲基苯乙酬、苯乙酬苄基缩酬、1-径基环己基苯基酬和2, 2-二甲氧基-2-苯基苯 乙酬；嚷吨酬衍生物如嚷吨酬、二乙基嚷吨酬、2-异丙基嚷吨酬和2-氯嚷吨酬；氧杂蔥酬、 巧酬、苯甲醒、巧、蔥酿、S苯胺、巧挫、1-(4-异丙基苯基）-2-径基-2-甲基丙-1-酬、2-径 基-2-甲基-1-苯基丙-1-酬、2, 4, 6-S甲基苯甲酯基二苯基麟氧化物和双化6-二甲氧 基苯甲酯基）-2, 4, 4-S甲基戊基麟氧化物。运些可单独使用或组合使用。 阳化日]光自由基生成剂的可商购获得产品的实例包括，但不限于，Irgacure184、369、 651、500、819、907、784、2959、CGI-1700、CGI-1750、CGI-1850 和CG24-61、U及Darocur1116 和 1173(CibaSpecialtyChemicalsInc.的产品）、LucirinTP0、LR8893 和 LR8970度ASF的产品）和邸ECRYLP36OJCB的产品）。
[0056] 在运些实例中，组分度）优选是烷基苯基酬系聚合引发剂、酷基麟氧化物系聚合 引发剂或朽醋系聚合引发剂。
[0057] 在W上列举的化合物中，烷基苯基酬系聚合引发剂为苯偶姻酸衍生物如苯偶姻甲 酸、苯偶姻乙酸和苯偶姻苯基酸，苯偶姻衍生物如苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻和丙基 苯偶姻，苄基衍生物如苄基二甲基缩酬，和苯乙酬衍生物如苯乙酬、3-甲基苯乙酬、苯乙酬 苄基缩酬、1-径基环己基苯基酬和2, 2-二甲氧基-2-苯基苯乙酬。
[0058] 烷基苯基酬系聚合引发剂的更具体实例为由下式（1)表示的化合物，其是2-节 基-2-二甲氨基-1-(4-吗嘟基苯基）-下酬-1。
[0059][化学式1]
[0060]
[0061] 在W上列举的化合物中，酷基麟氧化物系聚合引发剂为2, 4, 6-S甲基苯甲酯基 二苯基麟氧化物、双化4, 6-S甲基苯甲酯基）苯基麟氧化物和双化6-二甲氧基苯甲酯 基）-2, 4, 4-=甲基戊基麟氧化物。运些之中，优选2, 4, 6-=甲基苯甲酯基二苯基麟氧化 物作为酷基麟氧化物系聚合引发剂。
[0062] 2, 4, 6-S甲基苯甲酯基二苯基麟氧化物是由下式（2)表示的化合物： 阳06；3][化学式引
[0064]
W65] 在W上列举的化合物中，目亏醋系聚合引发剂为1,2-辛二酬，1-[4-(苯硫 基）-，2-(0-苯甲酯基朽）]和乙酬，1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酯基）-9H-巧 挫-3-基]-,1-(0-乙酷基目亏）。
[0066] 由式（I)和似表示的光聚合引发剂是优选的，因为它们是高感光度聚合引发剂， 且给予得光固化性组合物W良好的固化性。
[0067] <组分似：脱模剂〉 W側组分似为脱模剂。
[0069] 脱模剂为光固化性组合物中含有的、帮助降低通过固化光固化性组合物而获得的 固化产物的脱模力的化合物。换句话说，通过固化含脱模剂的光固化性组合物而获得的固 化产物与模具分离所需的力小于通过固化不含脱模剂的光固化性组合物而获得的固化产 物与模具分离所需的力。
[0070] 脱模剂倾向于在光固化性组合物与模具之间的界面偏析。运表示，光固化性组合 物与模具之间的界面处的组分（C)(脱模剂）的浓度倾向于高于光固化性组合物的其它部 分中的浓度。
[0071] 脱模剂的实例包括具有对组分（A)具有高亲和性的部分和对组分（A)具有低亲和 性的部分的表面活性剂W及具有能够容易吸附到模具上的部分的材料。"对组分（A)具有 高亲和性的部分"是与组分（A)可高度混溶且通过含有导致极性的原子如氧原子、氮原子 或硫原子而显示出高极性的部分。此类部分的实例包括氧乙締基和締化氧基的重复结构。 其更具体实例包括氧乙締基、氧乙締基的重复结构、氧丙締基和氧丙締基的重复结构。
[0072]"对组分（A)具有低亲和性的部分"是与组分（A)几乎不混溶且由于不含能够导 致极性的原子如氧原子、氮原子和硫原子而显示出低极性的部分。此类部分的实例包括直 链控基。
[0073] 当对组分（A)具有高亲和性的部分是由两个W上基团构成时，每个基团可对组分 (A)具有高亲和性。当对组分（A)具有低亲和性的部分是由两个W上基团构成时，每个基团 可对组分（A)具有低亲和性。能够容易吸附到由石英构成的模具上的部分的实例是与石英 表面相互作用（例如氨键）的极性官能团。此类基团的实例包括径基、簇基、横基、烷氧基、 化晚基和硅烷醇基。
[0074] 在5度（摄氏）和1大气压下组分（C)在液态的冷凝性气体中的饱和溶解度为5 重量％^下，优选1.0重量％^下，更优选小于1.0重量％。
[007引由于在5度（摄氏）和1大气压下组分似在液态的冷凝性气体中的饱和溶解度 为5重量％ ^下，因而通过在W下描述的冷凝性气体气氛中进行的压印工艺而获得的抗蚀 剂固化膜的表面粗糖度降低。
[0076] 其理由大概如下。
[0077] 根据通过使用该实施方式的光固化性组合物制造W下描述的图案化膜的方法，在 模具接触步骤[2]中，组分（C)在光固化性组合物与模具之间的界面偏析。此时，通过当光 固化性组合物与模具接触且渗入基板与模具之间的间隙W及模具上的凹部时而产生的毛 细管压力，使冷凝性气体冷凝并液化。
[007引由于在5度（摄氏）和1大气压下组分似在液态的冷凝性气体中的饱和溶解度 为5重量％ ^下，因而冷凝性气体几乎不溶于脱模层。
[0079] 由于冷凝性气体几乎不溶于脱模层，因而在光固化性组合物光固化后，从固化膜 中蒸发的液化的冷凝性气体的量减少。结果，从固化膜蒸发液化的冷凝性气体而导致的表 面粗糖度被抑制，且固化膜的表面粗糖度降低。
[0080] 组分（C)可由一种脱模剂或两种W上脱模剂组成。
[0081] 相对于该实施方式的光固化性组合物的总重量，组分（C)的共混比（换句话说，当 光固化性组合物的总重量假定为1时，组分（C)在光固化性组合物中的存在比）为，例如， 0.0 l重量％W上且20重量％ ^下，优选0.0 l重量％W上且5重量％ ^下，更优选0. 1重 量％W上且5重量％ ^下，最优选0.5重量％W上且3重量％ ^下。当共混