光固化性组合物和使用其制造光学组件的方法_5

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醋单体(组分(A))中的室溫(23度(摄氏))饱和溶解度,所述(甲基)丙 締酸醋单体是含有75重量份丙締酸异冰片醋(由Kyoeisha化emicalCo. ,Ltd.制造,商品 名JB-XA)和 25 重量份 1, 10-癸二醇二丙締酸醋(由化in-NakamuraQiemicalCo. ,Ltd. 制造,商品名:A-DOD-脚的混合溶液。 阳19引称量3克(甲基)丙締酸醋单体(组分(A)),并将PFP在23度(摄氏)和1大气 压下W0.IL/min的流速鼓泡到(甲基)丙締酸醋单体中15分钟。测得的总重量为3. 87邑。 因此,PFP(冷凝性气体)在(甲基)丙締酸醋单体(组分(A))中的饱和溶解度为29重 量%。 阳194] <光固化性组合物(a-1)的制备〉 阳19引混合W下描述的(甲基)丙締酸醋单体(组分(A))、光聚合引发剂(组分度))和 脱模剂(组分(C)),W获得混合溶液。 阳196] 组分(A)(总计:100重量份) 阳197] (A-I)丙締酸异冰片醋(由KyoeishaChemicalCo. ,Ltd.生产,商品名:IB-XA): 75重量份
[0198] (A-2) 1, 10-癸二醇二丙締酸醋(由化in-NakamuraQiemicalCo. ,Ltd.生产,商 品名:A-D0D-N) :25重量份 阳199] 组分度) 阳200] 度-DLucirinTPO(由BASF生产):3重量份 阳2〇U 注意,度-DLucirinTPO是由下式似表示的化合物。 阳2〇2][化学式引 阳203] 悦04] 组分似
阳205] (C-I)BLAUNONSR-705(由AokiOilIndustrialCo. ,Ltd.生产):0.5 重量份 阳206] 注意,(C-I)BLAUNONSR-705是由下式(4)表示的化合物。
[0207][化学式6] 阳20引
阳2〇9] 组分值)
[0210] 值-1) 4, 4-双(二乙氨基)二苯甲酬:0. 5重量份 悦11] 注意,值-1)4, 4-双(二乙氨基)二苯甲酬是由式妨表示的化合物。 阳21引[化学式7] 阳21引
[0214] 接着,通过具有5nm孔径的超高分子量聚乙締过滤器过滤获得的混合溶液。结果, 得到该实例(实施例1)的光固化性组合物(a-1)。
[0215] <光固化性组合物(a-1)的纳米压印图案的表面粗糖度的评价〉
[0216] 通过W下描述的方法形成光固化性组合物(a-1)的纳米压印图案。使用原子力显 微镜评价纳米压印图案的表面粗糖度。 悦17] (1)放置步骤 阳21引通过喷墨法,将总计1440滴光固化性组合物(a-1) (1IpL/滴)滴到300mm的娃晶 片上,在娃晶片上已形成厚度为3nm的粘合促进层作为粘合剂层。液滴W使液滴之间的间 距实质上均匀的方式滴在长度为26mm和宽度为33mm的区域内。
[0219] (2)模具接触步骤和照射步骤
[0220] 接着,将PFP的流速与化的流速之比调节为1:3,W使气氛由PFP和化的混合物 构成。使未进行表面处理且具有28皿的线宽间隔(line-and-spaceHL/S)图案的石英模 具(长度为26mm和宽度为33mm)与娃晶片上的光固化性组合物(a-1)接触。 阳221] 在石英模具与光固化性组合物接触S十秒后,通过使用装备有200W隶氣灯的UV 光源(HOYACANDEOOPTRONICSCORPORATION生产的EXECURE3000),用紫外光穿过石英模 具照射光固化性组合物。在用紫外光照射光固化性组合物时,将选择性使313±5nm波长的 光通过的干设过滤器(VPF-50C-10-25-31300,由SigmaKokiCo.,Ltd.生产)放置在UV光 源与石英模具之间。波长为313nm下直接在石英模具下紫外光的照度为60mW/cm2。在上述 条件下,进行紫外线照射5秒(曝光量:300mJ/cm2)。 悦巧 做脱模步骤
[0223] W0. 5mm/s的速度拉起石英模具,W使模具与光固化膜分离。
[0224] (4)纳米压印图案的表面粗糖度的评价 阳225] 使用Nanoscope测定从模具分离后光固化膜的表面粗糖度PV(峰至谷)值,其中 Nanoscope为由VeecoInstrumentsInc.生产的原子力显微镜(测量范围:2微米X2微 米)。 阳226]PV值为 15nm。 阳227][比较例1]
[022引 < 脱模剂(组分似)在冷凝性气体中的饱和溶解度的测定〉 阳229] 在5摄氏度和1大气压下,测定在5度(摄氏)下的由式(6)表示的十五乙二 醇单-1H, 1H, 2H, 2H-全氣辛基酸(F(CFz)6邸2邸2(0邸2邸2)i5〇H或DICCo巧oration生产的 Mega化CeEXP.TF-2067)在液态的冷凝性气体PFP中的饱和溶解度。
[0230][化学式8] 阳 231]
阳232] 在样品罐中,称入1.OOgMega化CeEXP.TF-2067,并在5摄氏度和1大气压下,向 其中添加0. 48g的PFP液体。Mega化CeEXP.TF-2067不溶解。向其中进一步添加PFPW使PFP的总量为 0.62g。结果,MegafaceEXP.TF-2067 完全溶解。因此,MegafaceEXP. TF-2067 (脱模剂(组分(C))在PFP(冷凝性气体)中的饱和溶解度为62重量%W上且小 于68重量%。 阳23引 < 光固化性组合物化-?的制备〉 阳234] 除不添加BLAUNONSR-705 (C-I)和添加1. 1重量份氣基系表面活性剂Mega化Ce EXP.TF-2067W外,如实施例1制备光固化性组合物化-。。 阳235] <光固化性组合物化-2)的光固化膜的表面粗糖度的评价〉 阳236] 如实施例1制备通过使用光固化性组合物化-2)制备的光固化膜的表面。PV值为 25nm〇 阳237] 虽然参考示例性的实施方式已描述了本发明,但将理解本发明不局限于所公开的 示例性的实施方式。权利要求的范围符合最宽泛的解释,W包括所有此类改变W及等同的 结构和功能。 阳23引本申请要求2013年6月26日提交的日本专利申请号2013-133539、2013年11 月29日提交的日本专利申请号2013-247134和2014年5月27日提交的日本专利申请号 2014-109338的权益,运些W其整体方式通过引用并入本文中。
【主权项】
1. 一种光固化性组合物,其用于在含有冷凝性气体的气氛中进行压印,其特征在于,所 述光固化性组合物包含: 组分A,其为(甲基)丙烯酸酯单体; 组分B,其为光聚合引发剂;和 组分C,其为脱模剂, 其中在5摄氏度和1大气压下所述组分C在所述冷凝性气体中的饱和溶解度为5重 量%以下,所述冷凝性气体在5摄氏度和1大气压下为液态。2. 根据权利要求1所述的光固化性组合物,其中在5摄氏度和1大气压下所述组分C 在液态的所述冷凝性气体中的饱和溶解度小于1重量%。3. 根据权利要求1或2所述的光固化性组合物,其中所述组分C包含烯化氧基或烯化 氧基的重复结构和烃基。4. 根据权利要求1至3任一项所述的光固化性组合物,其中所述组分C是由下式(3) 表示的化合物:其中,R。表示具有5个以上且50个以下的碳原子的单价烃基,R a表示亚烷基,m表示1 以上的整数,和X表示选自烷氧基、羟基、羧基、吡啶基、硅烷醇基和磺基中的一种。5. 根据权利要求4所述的光固化性组合物,其中R。表示具有10个以上且30个以下的 碳原子的单价直链烃基,和Ra表示亚乙基。6. 根据权利要求1至5任一项所述的光固化性组合物,其中所述组分C是由下式(4) 表示的化合物:7. 根据权利要求1至6任一项所述的光固化性组合物,其中所述组分C相对于所述光 固化性组合物的总重量的存在比为0. 01重量%以上且5重量%以下。8. 根据权利要求1至7任一项所述的光固化性组合物,其中在5摄氏度和1大气压下 所述组分C在液态的所述冷凝性气体中的饱和溶解度高于在5摄氏度和1大气压下所述组 分A在液态的所述冷凝性气体中的饱和溶解度。9. 根据权利要求1至7任一项所述的光固化性组合物,其中所述组分A含有丙烯酸异 冰片酯和1,10-癸二醇二丙烯酸酯。10. 根据权利要求1至9任一项所述的光固化性组合物,其中所述含有冷凝性气体的气 氛为含有所述冷凝性气体和非冷凝性气体的混合气体。11. 根据权利要求10所述的光固化性组合物,其中所述非冷凝性气体为氦气。12. 根据权利要求1至11任一项所述的光固化性组合物,其中所述冷凝性气体为选自 氯氟烃、氟烃、氢氯氟烃、氢氟烃和氢氟醚的一种。13. 根据权利要求1至11任一项所述的光固化性组合物,其中所述冷凝性气体为 1,1,1,3, 3-五氟丙烷。14. 一种固化产物,其通过使根据权利要求1至13任一项所述的光固化性组合物固化 而得到。15. -种用于制造图案化膜的方法,所述方法包括: 将光固化性组合物放置到基板上的步骤; 在含冷凝性气体的气氛中,使所述光固化性组合物与模具接触的步骤,所述模具具有 用于转印图案形状的原始图案; 用光照射所述光固化性组合物以形成固化膜的步骤;和 将所述固化膜与所述模具彼此分离的步骤, 其特征在于,所述光固化性组合物是根据权利要求1至13任一项所述的光固化性组合 物。16. 根据权利要求15所述的方法,其中所述冷凝性气体是在使所述光固化性组合物与 模具接触的步骤中当所述光固化性组合物渗入所述基板与所述模具之间的间隙和所述模 具的表面上的微细图案中的凹部时产生的压力下冷凝并液化的气体。17. 根据权利要求15或16所述的方法,其中所述模具的原始图案的表面由石英组成。18. 根据权利要求15至17任一项所述的方法,其中所述含冷凝性气体的气氛为含有所 述冷凝性气体和非冷凝性气体的混合气体。19. 根据权利要求18所述的方法,其中所述非冷凝性气体为氦气。20. 根据权利要求14至18任一项所述的方法,其中所述冷凝性气体为选自氯氟烃、氟 烃、氢氯氟烃、氢氟烃和氢氟醚的一种。21. 根据权利要求15至19任一项所述的方法,其中所述冷凝性气体为1,1,1,3, 3-五 氣丙知1。22. -种制造光学组件的方法,其特征在于,该方法包括: 通过根据权利要求15至21任一项所述的方法,在基板上获得图案化膜的步骤。23. -种制造光学组件的方法,其特征在于,该方法包括: 通过根据权利要求15至21任一项所述的方法获得图案化膜的步骤;和 通过使用所获得的图案化膜的图案形状作为掩模,在基板上进行蚀刻或离子注入的步 骤。24. -种制造电路板的方法,其特征在于,该方法包括: 通过根据权利要求15至21任一项所述的方法获得图案化膜的步骤;和 通过使用所获得的图案化膜的图案形状作为掩模,在基板上进行蚀刻或离子注入的步 骤。25. -种制造电子组件的方法,其特征在于,该方法包括: 通过根据权利要求24所述的方法获得电路板的步骤;和 在所述电路板上形成电子构件的步骤。
【专利摘要】使用冷凝性气体工艺的压印方法具有抗蚀固化膜的表面粗糙的问题。这通过用于在含冷凝性气体的气氛中进行压印的光固化性组合物来解决。所述光固化性组合物含有组分(A)(甲基)丙烯酸酯单体、组分(B)光聚合引发剂和组分(C)脱模剂。在5度(摄氏)和1大气压下所述组分(C)在所述冷凝性气体中的饱和溶解度为5重量%以下,所述冷凝性气体在5度(摄氏)和1大气压下为液态。
【IPC分类】C08F2/44, B29C59/02, H01L21/027, C08F20/50
【公开号】CN105340061
【申请号】CN201480036474
【发明人】米泽诗织, 伊藤俊树, 山下敬司, 千叶启子, 川崎阳司
【申请人】佳能株式会社
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2014年6月19日
【公告号】EP3000121A1, US20160144554, WO2014208065A1
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