br>[0029]请参见图1、图2，本实用新型提供了一种抗衰减电容器薄膜，包括基膜1、金属层和硅油保护层，所述金属层设置在所述基膜I上，所述硅油保护层覆盖于所述金属层上，所述基膜上设有多个“干”形隔离带11，所述基膜的一侧的边缘设有条形隔离带12，每个所述“干”形隔离11带包括一条纵向隔离带和两条相互平行的横向隔离带，所述纵向隔离带的一端贯穿其中一条横向隔离带后与另一条横向隔离带连通，所述纵向隔离带的另一端与所述条形隔离带12相连通，所述金属层包括第一铝镀层2和锌镀层3。
[0030]所述金属层还包括第二铝镀层4，所述的第一铝镀层2和第二铝镀层4均为采用磁控溅射技术溅射而成的镀膜层。
[0031]所述的锌镀层3具有下凸形加厚区3a，所述基膜I的宽度为9mm-620mm，所述的锌镀层3凸形加厚区3a为10-20_。
[0032]所述的基膜I的厚度为3-15 μ m0
[0033]作为一种替换方案，所述多个“干”形隔离带11对称设置在所述基膜的中线两侧。
[0034]作为一种替换方案，所述基膜的中线两侧的“干”形隔离带11尾部通过条形隔离带12连通。
[0035]所述的基膜为1-60个，所述的第二铝镀层4具有上凸形加厚区4a。
[0036]所述下凸形加厚区3a位于所述锌镀层3的中心。
[0037]所述上凸形加厚区4a位于所述第二铝镀层4的中心。
[0038]所述的第二铝镀层4的方阻为6?12 Ω /sq0
[0039]所述的第一铝镀层2的方阻为6?12 Ω /sq0
[0040]所述基膜的相对的两侧的边缘均设有条形隔离带12，所述设置在基膜中线两侧的“干”形隔离带11的尾部分别与位置相对应的条形隔离带12相连通。
[0041 ] 所述基膜采用聚酯薄膜或聚丙烯薄膜制成。
[0042]为提高等离子体密度和溅射镀膜速率，磁控溅射技术溅射镀膜为采用气体放电产生等离子体，经电场加速的等离子体中的离子轰击基膜单元，在基膜层上顺序沉积而成；磁控溅射是在基膜单元面加上跑道磁场以控制电子的运动，延长其在基膜单元面的行程，加快溅射镀膜的沉积。
[0043]溅射镀膜具体为阳极上放置工件，与直流电源的正极连接。通常是将镀膜室接地，并与阳极连结，阴极上装置靶材，与直流电源的负极连接。等离子体中的离子被阴极暗区的电场加速后，飞向阴极轰击靶材。离子轰击靶材时，发生两种与溅射镀膜有关的物理现象。首先是离子将原子击出靶面，产生溅射原子。溅射镀膜就是由这些溅射原子在基膜上沉积实现的。其次是，离子将原子击出靶面，产生二次电子。二次电子被阴极暗区的电场加速，成为载能的快电子，快电子与氩气碰撞产生电离，并渐渐损失能量变成热电子。溅射镀膜所依赖的等离子体，就是由快电子，尤其是热电子与氩气的碰撞电离来维持的。
[0044]第二铝镀层放在大气中和氧接触，产生一层致密的氧化层，隔绝里边的锌铝镀层与大气接触，提高金属化膜的抗氧化性能。保证了电容器用金属化薄膜的高品质，降低金属化薄膜由于耐压不足和表面氧化从而造成电容器废品的问题。
[0045]本实用新型的有益效果是:采用了新型隔离带以后，当遇到电源异常时，容量的损失将会是原来的1/2-1/4，这样电容器在保证品质的前提条件下，寿命将大大延长，用此类薄膜生产电容器将广泛应用到生活的各个场所特别是安全防护等，提高功率因数节能减排。
[0046]与现有技术相比，本实用新型采用的基膜不需要进行表面电晕处理，在基膜上同时镀上三层金属，最外面的金属层为氧化层，对镀好的薄膜没有严格的温度，湿度要求，所放置的地方只要净化即可。表面未经电晕处理的基膜，其耐高压性能和清洁度大幅提高，同时在蒸镀过程中，采用磁控溅射技术替代了原来的电阻加热蒸发技术，在镀膜过程中大幅度降低对基膜的热辐射，从而使镀好的薄膜耐压大大提高，同时，将原有的锌铝复合化薄膜进行重大创新，即在原有基础上同时再镀上一层金属，此金属层在接触大气后生成一层致密的氧化层，从而将里边的两层金属层与大气隔绝，从而保证了电容器用金属化薄膜的高品质，彻底改变了原来的金属化薄膜由于耐压不足和表面氧化从而造成电容器废品的问题。
[0047]本实用新型在整个金属层上设置一层硅油保护层，形同与空气隔绝，避免铝和锌被空气氧化，从而提高金属化薄膜的抗氧化能力，避免在制作电容器的过程出现薄膜被氧化被击穿，大大提高了该金属化膜制作的电容器的品质，同时也解决了大容量电容器容量过大，热量难散发导致击穿的问题，硅油保护层起到了紧密结合和散热功能，增加各镀层之间的牢固性，有效防止金属层脱落。
[0048]以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.抗衰减电容器薄膜，其特征在于，包括基膜(I)、金属层和硅油保护层(5)，所述金属层设置在所述基膜(I)上，所述硅油保护层覆盖于所述金属层上，所述基膜上设有多个“干”形隔离带(11)，所述基膜的一侧的边缘设有条形隔离带(12)，每个所述“干”形隔离(II)带包括一条纵向隔离带和两条相互平行的横向隔离带，所述纵向隔离带的一端贯穿其中一条横向隔离带后与另一条横向隔离带连通，所述纵向隔离带的另一端与所述条形隔离带(12)相连通，所述金属层包括第一铝镀层(2)和锌镀层(3)。2.根据权利要求1所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述金属层还包括第二铝镀层⑷。3.根据权利要求2所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述的锌镀层(3)具有下凸形加厚区(3a)。4.根据权利要求1或2所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述的基膜(I)的厚度为 3-15 μπι。5.根据权利要求3所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述多个“干”形隔离带对称设置在所述基膜(I)的中线两侧。6.根据权利要求5所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述基膜(I)的宽度为9mm-620mmo7.根据权利要求5或6所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述的基膜为1-60个，所述的第二铝镀层(4)具有上凸形加厚区(4a)。8.根据权利要求7所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述下凸形加厚区(3a)位于所述锌镀层(3)的中心。9.根据权利要求7所述的抗衰减电容器薄膜，其特征在于:所述上凸形加厚区(4a)位于所述第二铝镀层(4)的中心。
【专利摘要】本实用新型公开了一种抗衰减电容器薄膜，包括基膜、金属层和硅油保护层，所述金属层设置在所述基膜上，所述硅油保护层覆盖于所述金属层上，所述基膜上设有多个“干”形隔离带，所述基膜的一侧的边缘设有条形隔离带，所述“干”形隔离带的尾部与所述条形隔离带相连通，所述金属层包括第一铝镀层和锌镀层。本实用新型在整个金属层上设置一层硅油保护层，形同与空气隔绝，避免铝和锌被空气氧化，从而提高金属化薄膜的抗氧化能力。采用了“干”型隔离带以后，当遇到电源异常时，容量的损失将会是原来的1/2-1/4，寿命将大大延长，提高功率因数节能减排。
【IPC分类】H01G4/14, H01G4/008, H01G4/005, H01G4/33
【公开号】CN204809039
【申请号】CN201520537572
【发明人】徐明强
【申请人】南通百正电子新材料股份有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年7月22日