利用纳米结构物的电磁波屏蔽材料的制作方法

本发明涉及一种电磁波屏蔽材料，更详细地，涉及一种利用纳米结构物的透明且能够有效地屏蔽电磁波的电磁波屏蔽材料。

背景技术：

近来，关于包括手机在内的普通电气电子产品等产生的电磁波对人体有害的研究结果在急剧增加，欧洲环境局于2011年通过世界卫生组织国际肿瘤研究机构(whoiarc)，将对人体有害的电磁波归类为可致癌物质。

尤其，存在大脑直接暴露于手机产生的电磁波(以下称为“电磁波”)的问题，且研究结果表明，如果身体持续暴露于这种电磁波，可引起包括记忆力减退、体力下降、集中力下降、头痛、晕眩在内的血液循环系统异常、遗传因子蛋白质损伤、白血病、脑瘤、乳腺癌等。

因此，由于如今无法立刻终止与日常生活有着密切联系的手机、电气电子产品等的使用，因此急需开发一种能够将对人体有害的电磁波屏蔽到对人体无害的最低水平的技术。

紧跟着全世界范围内认可便携式通讯设备的电磁波有害性并强化对电磁波的管制的步伐，正在进行减少电磁波引起的危害的多方面的努力，但至今为止，关于有效的电磁波屏蔽技术的对策少之又少。

在韩国对于电磁波危害的忧虑和关心逐渐变高，且陆续发表电磁波对人体产生负面影响的研究结果，为了保护国民的健康，相关业界正努力开发电磁波屏蔽技术。

电磁波屏蔽技术可大致分为两种方法，一种是屏蔽电磁波产生源的周边来保护外部设备的方法，另一种是将设备存放在屏蔽物质内部，以保护该设备免受外部的电磁波发生源的影响的方法。

为了达到这种目的，至今为止最受关注的方法是有关电磁波屏蔽材料的方法。

并且，现有的电磁波屏蔽技术制定了用于使装置或设备之间的干扰最小化的标准并进行管制，但直到最近才引起电磁波对人体的危害性争论，从而开始关注用于保护人体免受电磁波影响的技术。

参考韩国的相关现有技术文献，在韩国公开专利公报第10-2001-0046524号、韩国授权专利公报第10-1469960号、韩国授权实用新型公报第20-0467426号等中公开了具有电磁波屏蔽功能的手机或手机壳。

所述现有技术文献中提及的对于作为电磁波屏蔽关键的屏蔽材料大部分利用具有导电性的不透明或半透明金属。

并且，在韩国授权专利公报第10-0934292号、韩国授权专利公报第10-1290500、韩国授权专利公报第10-0335346号等中公开了pdp用屏蔽材料，但由于透光率低而不适用于显示用材料。

如上所述，过去为了屏蔽手机、笔记本电脑、电视等产生的对人体有害的电磁波而进行了各种尝试。

大部分的国内外的与电磁波屏蔽相关的执行内容主要是朝改善材料本身的组成成分，或者使手机内部的电子器件之间的通信干扰最小化的方向进行。

但是，这样的技术利用拥有屏蔽性能的具有数十微米(μm)以上的厚度的不透明或半透明屏蔽材料(主要为金属材质)，因此由于显示器具有透明的特性，在应用上存在局限性，且大部分由多层结构构成而厚度厚或者制造工艺复杂，因此无法获得透明且屏蔽功能优异的特性材料。

现有技术文献

专利文献

(专利文献0001)韩国授权实用新型公报第20-0469384号

(专利文献0002)韩国授权专利公报第10-1462302号

(专利文献0003)韩国授权专利公报第10-1389918号

(专利文献0004)日本公开专利公报第2005-213157号

(专利文献0005)日本公开专利公报第2014-170830号

非专利文献

(非专利文献0001)http://en.wikipedia.org/wiki/file:wiregridpolarizer.svg

(非专利文献0002)applicationnote:wiregridpolarizers,niltechnology,june22,2009

(非专利文献0003)hecht,eugene.optics,2nded.,addisonwesley

(1990)isbn0-201-11609-x.chapter8.

技术实现要素：

(一)要解决的技术问题

因此，本发明是为了解决上述现有技术中存在的问题而提出的，其目的在于提供一种透明且能够有效地屏蔽电磁波的电磁波屏蔽材料。

另外，本发明的另一个目的在于，提供一种电磁波屏蔽材料，其制造工艺简单，可减少制造费用及成本。

(二)技术方案

为了实现上述目的，本发明的实施例提供一种利用纳米结构物的电磁波屏蔽材料，其特征在于，包括：支撑基板；及纳米双格结构物(nanodoublelatticestructure)，以具有纳米(nm)级的线宽和高度的纳米金属线形成闭合曲线的状态，接合并固定在所述支撑基板的表面，具有由所述纳米金属线形成的闭合曲线在所述支撑基板的表面上反复排列的结构，在整个所述纳米双格结构物中，与围绕一个闭合曲线的圆中具有最小面积的圆的直径对应的纳米双格特征常数小于或等于要屏蔽的电磁波的波长长度，在所述闭合曲线的排列中，闭合曲线之间的间距小于或等于要屏蔽的电磁波的波长长度，所述纳米双格结构物的纳米金属线的线宽小于或等于所述间距的1/2。

(三)有益效果

因此，根据本发明的电磁波屏蔽材料，包括透明的支撑基板和由具有微细的线宽及高度的金属纳米线构成的纳米双格结构物，从而能够提供透明且有效地屏蔽电磁波的效果。

并且，本发明通过在支撑基板上形成并固定纳米双格结构物的简单工艺来制造电磁波屏蔽材料，从而与现有的屏蔽材料相比，制造工艺整体上简单，且能够减少制造费用及成本。

附图说明

图1是用于说明电磁波通过由纳米金属线构成的单向格子结构物时的电磁波屏蔽效果的图。

图2是用于说明电磁波通过具有纳米金属线相互交叉的结构的双向格子结构物时的电磁波屏蔽效果的图。

图3是表示在本发明的实施例的电磁波屏蔽材料中纳米双格结构物的例子的立体图。

图4是示出本发明的实施例的电磁波屏蔽材料的立体图。

图5及图6是作为本发明的实施例的电磁波屏蔽材料的相比图4缩小纳米双格结构物的线宽和高度的材料的立体图及截面图。

图7是作为本发明实施例的电磁波屏蔽材料的在支撑基板的两面形成纳米双格结构物的电磁波屏蔽材料的截面图。

图8是表示作为本发明的实施例的电磁波屏蔽材料的金属纳米线配置在支撑基板的槽内部的例子的立体图。

图9是表示作为本发明的实施例的电磁波屏蔽材料的固定薄膜层压时的例子的立体图。

图10至图15是例示可适用于本发明的实施例的电磁波材料的各种形状的纳米双格结构物的图。

图16是示意示出在制造本发明的实施例的电磁波屏蔽材料的过程中，利用电子束装置来曝光感光剂的工艺的图。

图17是表示在本发明的实施例的电磁波材料中，纳米金属粒子填充在支撑基板的槽中的状态的示意图。

具体实施方式

下面，参照附图对本发明的实施例进行详细说明，以使本领域技术人员能够容易地实施本发明。但本发明并不限定于在此说明的实施例，可具体化为其他形式。

在整个说明书中，指某个部分“包括”某种组件时，除非另有相反的记载，并不排除其他组件，还可包括其他组件。

现有技术中需要克服的技术问题是要确保具有高透光率的透明性和提高电磁波屏蔽功能等，而现有技术的电磁波屏蔽材料大部分厚度厚或带有金属性，且具有固有颜色，从而难以在特定领域中使用。

尤其，由于几十微米(μm)级线宽或金属厚度，透光率低而导致画面模糊等问题，因此不适合作为显示屏用屏蔽材料使用。

并且，由于大部分具有多层复合结构，因此只能通过复杂的生产工艺制造，导致制造费用及成本高。

首先，参照附图，图1是用于说明电磁波通过由纳米金属线(nanoscalemetalline)构成的单向格子(单向纳米金属格子)结构物a时的电磁波屏蔽效果的图，如图所示，当使电磁波通过单向纳米金属格子结构物a时，垂直于该格子方向的电磁波通过并留下。

另一方面，图2是用于说明电磁波通过具有纳米金属线相互交叉的结构的双向格子(双向纳米金属格子)结构物b时的电磁波屏蔽效果的图，如图所示，当使电磁波通过双向纳米金属格子结构物b时，所有方向上的电磁波可被屏蔽。

如图2所示，在与要屏蔽的电磁波的行进方向正交的截面的水平x方向和垂直y方向上，在整个面积上排列双向纳米金属格子之后，在双向纳米金属格子后方测量电磁波，结果可控制或屏蔽来自所有方向的特定波长的电磁波。

如上所述，将通常由具有小于数微米(μm)且无法用眼睛识别的纳米级(nanoscale)尺寸的金属线构成的格子按特定方向排列时，可向该特定方向屏蔽或过滤特定波长的电磁波。

因此，公开一种具有由纳米金属线构成的双向格子结构物的电磁波屏蔽材料及其制造方法。

下面，在本发明中将由纳米金属线构成的双向格子结构物称为纳米双格(nanodoublewire-grid)结构物。

图3是表示在本发明的实施例的电磁波屏蔽材料中纳米双格结构物的例子的立体图。

图3是例示由具有纳米(nm)级线宽b和高度h的金属线，即由纳米金属线构成的纳米双格结构物4的图，其例示在x轴方向和y轴方向上延伸得较长的金属纳米线以形成格子(grid)形状的方式交叉配置而构成的纳米双格结构物4。

参照图3，纳米双格结构物4的结构为在x轴方向和y轴方向上重复排列多边形，例如四边形的结构，并且具有预定的线宽b和线高h、四边形排列的x轴方向间距px和y轴方向间距py。

排列相同形状的多边形的结构物中，当多变形为正方形或长方形时，特定方向的间距，例如，如图3所示的相邻的多边形的x轴方向间距px和y轴方向间距py与纳米金属线直角交叉形成的四边形的边长(长方形时长边和短边的长度)相同。

当然，不是四边形而是圆时，所述间距可以是直径，椭圆时所述间距可以是长轴的长度和短轴的长度，如三角形、五边形、六边形等多边形时，所述间距可以定义为由相邻的两个多边形的中心(在此，中心可以是重心)之间的距离。

并且，本发明的电磁波屏蔽材料的纳米双格结构物4具有以x轴方向和y轴方向及其他特定方向的直线轴为基准闭合曲线反复排列的结构，在本发明中，在排列作为纳米双格结构物4的最小基本单位的闭合曲线时，将围绕该闭合曲线的圆中具有最小面积的圆的直径定义为纳米双格的特征常数。

需要说明的是，所述闭合曲线是指包括三角形或四边形、五边形、六边形等多边形，闭合曲线包括多边形是在闭合曲线的定义中周知的内容。

另外，如上所述，由金属纳米线构成的纳米双格结构物需要与可保持其形状的另外的结构物接合，这种结构物可以是具有预定厚度的薄膜(film)形状的结构物。

下面，在本发明中，将接合在纳米双格结构物的薄膜形状的结构物称为支撑基板。

结果，本发明的电磁波屏蔽材料包括由纳米金属线构成的纳米双格结构物和接合在该纳米双格结构物的支撑基板。

图4及图5是示出本发明的实施例的电磁波屏蔽材料的立体图，例示电磁波屏蔽材料10，其包括由纳米金属线1、3构成的纳米双格结构物4和接合在该纳米双格结构物4的支撑基板2。

其中，纳米双格结构物4使用图3中例示的形态，但在本发明中纳米双格结构物4并不限定于图3中例示的四边形的排列方式，可变更为各种形式。

所述支撑基板2可由透明材质制造，如上所述，包括透明材质的支撑基板2的电磁波屏蔽材料10，可适用于手机或智能手机等的电气电子产品的显示屏。

即，可将具有透明的支撑基板2的电磁波屏蔽材料10接合在显示屏的表面上使用，且接合在显示屏表面的电磁波屏蔽材料10可屏蔽通过显示屏放射的电磁波。

此时，支撑基板2可以是薄且透明的合成树脂薄膜(例如聚酯(pet)薄膜)或玻璃基板，在这种透明支撑基板2上形成纳米双格结构物4来制造透明且电磁波屏蔽功能优异的电磁波屏蔽材料10，将该电磁波屏蔽材料10粘附在手机或笔记本电脑、电视等各种电气电子产品的显示屏上使用。

在这种透明的电磁波屏蔽材料10中，缩小纳米金属线1、3的线宽(图3中的b)和高度h时，即，如图5及6所示，纳米双格结构物4的线宽和高度越小，作为每单位面积的非金属部分的面积比的开口率增加而能够提高透光率。

因此，能够提供透明且充分满足电磁波屏蔽功能的电磁波屏蔽材料10，透光率越优异，作为粘附在显示屏表面来使用的电磁波屏蔽材料，变得更加有用。

并且，图4至图6的实施例示出纳米双格结构物4固定在支撑基板2的一侧表面的结构，但如图7所示，构成纳米双格结构物4的纳米金属线中，至少一部分的纳米金属线1可固定在支撑基板2的一侧表面，其余纳米金属线3固定在支撑基板2的相反侧表面。

在这种情况下，接合在支撑基板2的一侧表面的纳米金属线1和接合在支撑基板的相反侧表面的纳米金属线3，隔着支撑基板2相互交叉配置，结果，构成配置在支撑基板2的两侧表面的两侧纳米金属线1、3呈相互交叉的形状的纳米双格结构物。

并且，作为本发明的优选实施例，如图8所示，可在由所述纳米金属线1、3构成的闭合曲线的内侧空间(开口的空间)形成填充部。

即，换句话说，如图8所示，在支撑基板2形成纳米金属线1、3可位于内部的纳米双格图案形状的槽2b，且以所述纳米金属线1、3位于这种纳米双格图案形状的槽2b内部的形态构成纳米双格结构物4。

或者，如图9所示，可在支撑基板2上堆叠具有可放置纳米金属线1、3的槽2b的另外的槽结构物2a。

即，在支撑基板2上堆叠另外的槽结构物2a，其形成有纳米金属线1、3可位于内部的纳米双格图案形状的槽2b，且以所述纳米金属线1、3位于这种纳米双格图案形状的槽2b内部的形态构成纳米双格结构物4。

如上所述，所述槽2b可直接形成在支撑基板2上，但如后面所述，也可以在镀覆在支撑基板2上后固化的uv固化剂部分(参照后述的制造工艺)形成，其中，形成槽2b的uv固化剂部分为槽结构物2a。

在所述实施例中，更优选地，电磁波屏蔽材料10还可包括薄膜状结构物5，所述薄膜状结构物隔着配置在所述槽2b内部的纳米金属线1、3，接合并层压在所述支撑基板2或槽结构物2a上，从而将金属线1、3完全固定并保持在支撑基板2上。

下面，在本发明中，将接合在支撑基板2上从而将纳米金属线1、3即由纳米金属线1、3构成的纳米双格结构物4固定在所述支撑基板2上的薄膜状结构物5称为固定薄膜。

并且，此时包括支撑基板2、槽结构物2a、纳米双格结构物4及固定薄膜5的电磁波屏蔽材料10被制造成用于显示屏的材料时，所述固定薄膜5可以是隔着纳米双格结构物4接合并层压在支撑基板2或槽结构物2a的一侧面的透明薄膜。

所述固定薄膜5可通过将预先制造的透明薄膜通过热熔接或粘附等方式层压在支撑基板2或槽结构物2a的一侧面的方法来设置，或者，可通过在纳米双格结构物4上镀覆树脂并固化的薄膜形状的树脂层来实现。

图10至图15是例示各种形状的纳米双格结构物4的图，图10表示纳米金属线形成多边形的一种的三角形，并以该三角形的纳米金属线为最小基本单位图形(闭合曲线)来反复排列三角形纳米金属线的结构的纳米双格结构物4。

并且，图11表示具有纳米金属线在纵向(x轴方向)和横向(y轴方向)上交叉的结构的纳米双格结构物4，表示具有四边形纳米金属线排列的结构的纳米双格结构物4。

与此类似地，图12例示具有五边形纳米金属线排列的结构的纳米双格结构物4，图13例示具有六边形纳米金属线排列的结构的纳米双格结构物4。

并且，图14例示具有八边形纳米金属线排列的结构的纳米双格结构物4，图15例示具有十二边形纳米金属线排列的结构的纳米双格结构物4。

如上所述，构成纳米双格结构物4的纳米金属线的闭合曲线的形状可以是多种形状，在本发明中并不限定于三角形、四边形、六边形等特定形状。

并且，纳米金属线的形状也可以是除上述多边形以外的闭合曲线中的圆形。

另外，在本发明中，为了使所述纳米双格结构物发挥电磁波屏蔽功能，作为纳米双格结构物的最小基本单位的闭合曲线，应是具有纳米双格的特征常数小于或等于要屏蔽的电磁波的波长长度的形状的闭合曲线。

并且，在纳米双格结构物中，闭合曲线的间距(图3的例中的px、py)应小于或等于要屏蔽的电磁波的波长长度，此时，构成纳米双格子结构物4的纳米金属线1、3的线宽b应小于或等于间距的1/2。

并且，在本发明的实施例的电磁波屏蔽材料中，构成闭合曲线的纳米金属线的线宽b优选为10μm以下，更详细地，可以具有5nm～10μm范围的线宽。

虽然纳米金属线可以具有小于5nm的线宽，但这种微细线宽的纳米金属线存在制造工艺困难的问题，且难以在不损坏的情况下保持其形状。

并且，线宽b大于10μm时，作为每单位面积的非金属部分的面积比的开口率变得过低而难以达到所要求的透光率，不适合用于显示屏。

并且，特征常数根据要屏蔽的电磁波的波长而确定，在接合在支撑基板2的状态下，以支撑基板2的接合面为基准的纳米金属线1、3的高度h优选为10μm以下，更详细地，可以具有5nm～10μm范围的线高度。

纳米金属线1、3的高度h更优选为250nm～300nm。

并且，构成纳米双格结构物4的纳米金属线1、3可由具有纳米(nm)级尺寸(可以是直径)的纳米金属粒子形成，如图8及图9所示，插入在支撑基板2或槽结构物2a的槽2b中的纳米金属线1、3可沿着槽2b填充金属纳米粒子来构成。

构成纳米双格结构物4的纳米金属粒子可以是具有至少80nm以下的直径的纳米粒子，可以是选自银、铜、金、铝、镍、铬、铂金、钯等导电金属中的金属粒子。

以上，对本发明的实施例的电磁波屏蔽材料的构成进行了详细说明，以下对这种电磁波屏蔽材料的制造工艺进行说明。

基本上，以由纳米金属线1、3构成的闭合曲线为最小基本单位，在支撑基板2的表面上形成所述最小基本单位的闭合曲线反复排列而成的纳米双格结构物4来制造电磁波屏蔽材料10(参照图4、图5及图8)。

此外，也可以制造具有将固定薄膜5层压在支撑基板2以能够覆盖纳米双格结构物4的结构的电磁波屏蔽材料10。

对制造工艺进行更加详细的说明，在清洁度为2000级(class)，更优选在清洁度500级以下的清洁室(cleanroom)中清洗可操作的薄膜或晶片、玻璃基板(例如，横竖7英寸或8英寸尺寸的玻璃基板)或圆筒金属材料来进行准备。

下面，将所述薄膜、晶片、玻璃基板、或圆筒金属材料统称为基板，更加详细地，将所述薄膜、晶片、玻璃基板称为平面基板，将所述圆筒金属材料的基板称为圆筒金属基板。

准备如上所述的适当尺寸的基板后，在镀覆机(coater)上对基板的表面镀覆预定厚度的感光剂，接着在热板上进行干燥。

其中，作为感光剂可使用电子感光剂(例如，zep520a)，感光剂的镀覆厚度可考虑纳米双格结构物的线高度(或线宽)而定。

之后，如图16所示，对表面镀覆有感光剂12的基板11，即，平面基板或圆筒金属基板，利用电子束(ebeam)打火机或电子束装置来按规定的轨道照射电子束，从而在基板(图8中附图标记2)上，将对应于除了槽(图8中附图标记2a)以外的剩余部分(相当于图8中附图标记2b的填充部)的基板上的感光剂部分以预定的图案尺寸和深度进行曝光。

图16中的附图标记20表示从电子束装置的电子枪发射的电子束，附图标记13表示感光剂12的被曝光部分。

接着，利用显影液(例如，zedn50)来对曝光的部分进行蚀刻从而制造预定的阴刻图案。

其中，感光剂12的阴刻部分具有与支撑基板2的填充部2b对应的(或相同的)的形状，阳刻部分具有纳米双格结构物4的纳米金属线1、3的图案形状，即具有放置纳米金属线1、3的支撑基板2或槽结构物2a的槽2b的图案形状。

其次，作为第一实施例，在形成有阳刻的纳米双格图案的平面基板的表面，沉积100～700埃(angstrom)厚度的铬等金属来赋予导电性后制造电铸模具。

这种电铸模具可直接以平板使用，或缠绕在缸体上使用为圆筒形模具。

作为其他方法，在第二实施例中，圆筒金属基板的情况下，在镀覆感光剂后，将通过曝光及显影而感光剂被蚀刻去除的图案部分作为牺牲层，并通过等离子蚀刻来制造圆筒形纳米双格模具。

此时，在圆筒形纳米双格模具上，所述图案部分被等离子蚀刻而形成阴刻的金属槽。

其中，作为阴刻部分的所述金属槽部分具有与支撑基板2对应的填充部2b的形状，阳刻部分具有纳米双格结构物4的纳米金属线1、3的图案形状，即具有放置纳米金属线1、3的支撑基板2或槽结构物2a的槽2b的图案形状。

在所述圆筒形纳米双格模具中感光剂可被去除。

作为又一种方法，在第三实施例中，将镀覆感光剂后通过曝光及显影工艺而图案部分的感光剂被蚀刻去除的圆筒金属基板用作圆筒模具，在平板薄膜上镀覆公知的uv固化剂(或公知的uv墨水)后，在镀覆有uv固化剂的平板薄膜上挤压所述圆筒模具的表面的同时，照射uv(紫外线)来对uv进行干燥，由此制造形成有阴刻的主模(mastermold)。

所述主模的阴刻部分被圆筒模具的阳刻部分挤压而形成为与圆筒模具的阳刻部分相反的槽形状。

在所述第三实施例中，在圆筒金属基板上通过曝光及显影而蚀刻去除感光剂的图案部分，与第一实施例及第二实施例相反地，成为对应于纳米双格结构物的纳米金属线的部分。

因此，在第三实施例中，与第一实施例的电铸模具及第二实施例的圆筒形纳米双格模具相同地，主模的阴刻部分对应于除纳米双格结构物的纳米金属线以外的部分。

即，在第一实施例的模具、第二实施例的模具及第三实施例的模具中，阳刻部分均具有对应于纳米双格结构物的纳米金属线的图案(与支撑基板或槽结构物的槽的图案相同)形状的形状。

接着，在利用模具印章的紫外线固化压印工艺中，将所述第一实施例的平板形态的电铸模具或缠绕在缸体而制成的圆筒形模具，或第二实施例的圆筒形纳米双格模具、第三实施例的主模用作紫外线固化压印工艺中的模具。

在该工艺中，在pet薄膜或玻璃基板等支撑基板上镀覆几μm至几十μm厚度的公知的透明uv固化剂，接着进行将第一实施例的模具，或第二实施例的模具，或第三实施例的模具的表面，即形成有所述阴刻和阳刻部分的模具的表面接触在镀覆有所述uv固化剂的支撑基板的表面的模具印章工艺的同时，施加uv或热来固化支撑基板上的uv固化剂，在所述支撑基板上印刷与所述模具表面阴阳相反的图案。

结果，在支撑基板上堆叠并固定有既是uv固化剂被固化的状态的层，也是形成有具有纳米双格结构物的纳米金属线的图案形状的槽的uv固化层，如此形成有槽的uv固化剂层成为所述槽结构物。

在这种紫外线固化压印工艺中，为了在支撑基板或槽结构物的表面形成如上所述的槽而使用了第一实施例、第二实施例及第三实施例的模具，但是替代这种模具，也可将具有镀覆感光剂后通过曝光及显影来蚀刻去除感光剂的图案部分的平面基板或圆筒金属基板直接用作印章模具来进行紫外线固化压印工艺。

在这种情况下，平面基板或圆筒金属基板被制造成表面的阳刻部分具有纳米双格结构物的纳米金属线的图案(支撑基板或槽结构物的槽的图案)形状，将该平面基板或圆筒金属基板用作印章模具，并且如上述的方法一样，利用uv印刷方法来在支撑基板表面的uv固化剂部分形成纳米金属线图案形状的槽，即纳米双格图案形状的槽。

接着，对形成有所述纳米双格图案形状的槽2b的支撑基板2和槽结构物2a进行丝网印刷(screenprint)作业，从而在所述槽2b的内部填充直径为纳米(nm)级尺寸的纳米金属粒子。

与图7一样，图17是表示为了制造在支撑基板2的两面配置有纳米金属线1、3的电磁波屏蔽材料，在支撑基板2的两面或两面上的槽结构物通过相同的方法形成槽后，在槽内部分别填充金属粒子1a、3a(例如，银纳米粒子)的状态的截面图。

填充在所述支撑基板2或槽结构物(由uv固化剂形成的部分)的槽内部的纳米金属粒子1a、3a形成具有所需的图案形状的纳米金属线，这种纳米金属线在支撑基板上构成上述的纳米双格结构物。

接着，将作为所述固定薄膜5的公知的硬镀覆薄膜以覆盖填充纳米粒子1a、3a(形成纳米金属线1、3)表面的方式层压在基板2或槽结构物2a来制造电磁波屏蔽材料，例如制造可粘附在显示屏上表面而使用的电磁波屏蔽薄膜(参照图9)。

当然，如上所述，被提供为显示屏用电磁波屏蔽材料时，所述支撑基板和固定薄膜需使用透明材质。

并且，可使用本发明的电磁波屏蔽材料来制造电气电子产品的外壳，例如，为了制造手机壳，利用膜内装饰技术(imd，inmolddecoration)或膜内标签(iml，inmoldlabel)方式，将填充有纳米金属粒子的支撑基板配置在注塑机的模具内侧后，将熔融树脂注入模具内而形成壳，然后将注塑成型的产品从模具中取出，从而能够获得电磁波屏蔽用手机壳。

如上所述，本发明的具有纳米双格结构物的电磁波屏蔽材料可适用于手机、平板电脑、笔记本电脑、电视、可穿戴式设备等，另外，也可适用于电磁波屏蔽用眼镜、围裙、帽子、服装、汽车玻璃、建筑材料用玻璃窗等。

另外，在吹风机、电饭锅、电热毯等家电产品中可用于屏蔽电磁波，此外，可适用于工业用电磁波屏蔽板、工业用电磁波保护设备、军用服装、军用设备和装备等，不限制其适用对象，可适用于各种领域。

以上，对本发明的实施例进行了详细说明，但本发明的权利范围并不限定于此，本领域技术人员利用权利要求书中定义的本发明的基本概念而进行的各种变形及改进方式也包括在本发明的权利范围。

附图说明标记

1、3：纳米金属线

1a、3a：纳米金属粒子

2：支撑基板

2a：槽结构物

2b：槽

4：纳米双格结构物

5：固定薄膜

10：电磁波屏蔽材料

11：基板

12：感光剂

13：感光剂曝光部分

20：电子束

b：纳米金属线的宽度

h：纳米金属线的高度

px：x轴方向间距

py：y轴方向间距