技术总结
本发明公开了一种复合式高遮蔽性薄型化电磁干扰屏蔽膜，包括黑色复合绝缘层、金属层和导电胶层，金属层位于黑色复合绝缘层和导电胶层之间；黑色复合绝缘层包括第一绝缘层和第二绝缘层，且第二绝缘层位于第一绝缘层和所述金属层之间，第一绝缘层光泽度为0‑60％(60°)，黑色复合绝缘层硬度为HB‑5H；第二绝缘层与金属层接触的一面为粗糙面且Rz为0.01‑0.5(不含0.5)μm。本发明具有电气特性好、抗化性佳、屏蔽性能高、接着强度佳、传输损失少、传输质量高、吸水率低、信赖度佳等特性，相比一般的电磁屏蔽膜具有更高的可靠度以及操作性且可以调整表面的光泽度值，从而取代一般屏蔽膜材料。
技术研发人员：林志铭;韩贵;周敏;李韦志
受保护的技术使用者：昆山雅森电子材料科技有限公司
技术研发日：2017.03.01
技术公布日：2018.09.14