射源，其中所述部件包括辐射收集器，所 述辐射收集器被布置为收集由所述等离子体形成位置处的等离子体发出的辐射并且由此 形成辐射束。
17. 根据权利要求12至16中任一项所述的辐射源，其中所述部件包括传感器。
18. 根据权利要求12至17中任一项所述的辐射源，其中所述部件包括观察窗，并且所 述部件的所述光活性表面包括所述观察窗的窗口。
19. 根据权利要求12至18中任一项所述的辐射源，其中所述辐射源包括污染物阱，所 述污染物阱被布置为降低由等离子体生成的碎片的传播；并且 其中所述碎片接收表面包括所述污染物阱的表面的至少一部分。
20. 根据权利要求19所述的辐射源，其中所述污染物阱包括多个叶片，并且所述碎片 接收表面包括所述多个叶片中的一个叶片的至少一部分。
21. 根据权利要求12至20中任一项所述的辐射源，其中所述辐射源进一步包括气体屏 障。
22. 根据权利要求21所述的辐射源，其中所述气体屏障包括氢气屏障。
23. 根据权利要求12至22中任一项所述的辐射源，进一步包括： 喷嘴，被配置为沿着朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的流； 其中所述碎片接收表面包括所述喷嘴的表面的至少一部分。
24. 根据权利要求12至23中任一项所述的辐射源，其中所述碎片接收表面已经被抛光 或者微抛光。
25.-种生成福射的方法，包括： 向根据权利要求1至24中任一项所述的辐射源内的等离子体形成位置提供激发束；以 及 在所述等离子体形成位置处提供燃料； 其中所述激发束激发所述燃料以使得所述燃料形成辐射发射等离子体。
26. 根据权利要求25所述的方法，其中在所述等离子体形成位置处提供燃料包括沿着 护罩引导所述燃料。
27. 根据权利要求25或者26所述的方法，其中从所述辐射发射等离子体生成的辐射由 辐射收集器收集，所述辐射收集器被布置为向中间焦点引导所述辐射。
28. 根据权利要求25至27中任一项所述的方法，其中从所述辐射发射等离子体生成的 所述辐射是EUV辐射。
29. -种生成辐射的方法，包括从根据任一项前述权利要求所述的辐射源的围闭件中 的燃料生成等离子体，所述围闭件包括气体，其中所述辐射从所述等离子体发出， 其中，在使用时，所述碎片接收表面被保持在足够高的温度，以将所述燃料层保持为液 态，并且提供比在超过所述燃料的所述熔点20°C的温度的所述液态燃料层内的所述气体的 泡的形成率显著更低的所述液态燃料层内的所述气体的泡的所述形成率。
30. 根据权利要求29所述的方法，其中所述燃料是锡。
31. 根据权利要求29或者权利要求30所述的方法，其中所述气体包括氢气或者基本上 由氢气组成。
32. 根据权利要求29至31中任一项所述的方法，其中所述碎片接收表面在使用时被保 持在300°C或者更高的温度。
33. 根据权利要求29至32中任一项所述的方法，其中所述碎片接收表面在使用时被保 持在足够高的温度以防止所述液态燃料层内的所述气体的泡的形成。
34. 根据权利要求29至33中任一项所述的方法，其中所述碎片接收表面在使用时被保 持在550°C或者更高的温度。
35. 根据权利要求29至34中任一项所述的方法，其中从所述等离子体生成的所述辐射 包括EUV辐射。
36. -种诸如光刻设备之类的设备，所述设备被布置为将经调节的辐射束投射到衬底 上，其中所述设备包括根据权利要求1至24中任一项所述的辐射源。
37. 根据权利要求36所述的设备，进一步包括： 照射系统，被配置为调节由所述辐射源生成的所述辐射以形成经调节的辐射束； 支撑件，被构造为支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在所述辐射束的截面中 给予所述辐射束以图案，以形成图案化的辐射束； 衬底台，被构造为保持衬底；以及 投射系统，被配置为将所述图案化的辐射束投射到所述衬底的目标部分上。
38. 根据权利要求37所述的设备，其中所述设备包括另外的碎片接收表面，所述另外 的碎片接收表面被定位和/或定向以使得在使用时所述初级碎片的发射引起具有燃料层 的所述碎片接收表面的污染， 其中所述碎片接收表面被布置为保持在足够高的温度，以将所述燃料层保持为液态， 并且在使用时提供比在超过所述燃料的所述熔点20°C的温度的所述液态燃料层内的所述 气体的泡的形成率显著更低的所述液态燃料层内的所述气体的泡的所述形成率。
39. -种器件制造方法，包括使用根据权利要求36至38中任一项所述的设备生成辐 射。
40. 根据权利要求38所述的器件制造方法，进一步包括： 使用所述辐射源生成EUV辐射的束； 在所述照射系统中调节所述辐射束并且将所述辐射束引导至由所述支撑结构支撑的 图案形成装置上；以及 借助于所述投射系统，将图案化的辐射束投射到由所述衬底台保持的衬底上。
【专利摘要】一种适用于向光刻设备提供辐射的辐射源从等离子体(12)生成辐射，等离子体从包括气体的围闭件内的燃料(31)生成。等离子体生成初级燃料碎片，初级燃料碎片被收集为碎片接收表面((33a)、(33b))上的燃料层。碎片接收表面被加热到一定温度，以将燃料层保持为液态，并且提供液态燃料层内的降低的或者零气泡形成率，以便降低由源于从液态燃料层的气泡喷发的次级碎片对光学表面(14)的污染。附加地或者备选地，辐射源可以具有被定位和/或定向以使得垂直于碎片接收表面的基本上所有的线不与辐射源的光活性表面相交的碎片接收表面。
【IPC分类】H05G2-00
【公开号】CN104798445
【申请号】CN201380059635
【发明人】H·席梅尔, M·里彭, R·吉利森, D·德格拉夫
【申请人】Asml荷兰有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2013年10月23日
【公告号】WO2014075881A1