专利名称：用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，尤其是在纱线上浆之前设立的一个与上浆机处理同宽度纱线的等离子体处理纱线装置，是为了提高纱线的亲水性能，减少上浆过程中PVA用量，从而实现清洁上浆。
背景技术：
在纺织行业，纺织厂为了顺利织布，要将经纱上浆以提高强力和耐磨性能。在传统的上浆工艺中，由于受纱线亲水性限制，尤其对高织纱和一些涤棉产品，人们不得不加入 PVA(聚乙烯醇)和一些价格昂贵的助剂来实现上浆，这样一是会带来生产成本增加，二是退浆PVA等化学成分所带来严重的环境污染。采用常压等离子体装置处理后的纱线，可以直接使用普通的玉米淀粉浆料上浆， 替代传统上浆所不得不采用的PVA浆料和其它助剂，这样不但节省昂贵的PVA浆料和助剂， 也从源头上治理了由于化学品PVA所带来的污染排放。目前所采用的等离子体一个是在真空室的条件下，尽管处理后的纱线，可以大大减少PVA的使用量，但由于无法实现连续生产，该方法使用太昂贵无法让企业接受。国内外，目前人们关注采用常压等离子体的方法，但所产生的等离子体面积小，不均勻，容易烧断纱线而今没有真正实现产业化。本发明，采用独特的介质阻挡技术，使等离子体的产生面积大，与上浆机能实现同步和同宽度的处理，使处理后的纱线亲水性能大大提高，从而大大减少了传统上浆所使用的PVA量，实现了清洁生产的目的。
发明内容为了达到上述目的，本发明的目的在于提供一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该设备是在纱线上浆之前设立的一个等离子体处理纱线装置，在该装置中使多组纱线并行穿过上下设有导向轴的多个等离子体放电区，该多个等离子体放电区是采用介质阻挡的放电形式，其中一个电极与壳体连接并接地，另一个电极与电源的高压输出端连接，在放电电极之间可以通过进气管道引入工作气体来改善等离子体的辉光度，该多组等离子体是在一个壳体内， 在壳体外设有排气管道。所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该设备是在纱线上浆之前设立的一个等离子体处理纱线装置，可以同时并行处理宽度与上浆机处理同宽一样的多组纱线。所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为在该装置中使多组纱线并行穿过上下设有导向轴的多个等离子体放电区，该多个等离子体放电区是采用介质阻挡的放电形式，可以是单介质阻挡放电，也可以是双介质阻挡放电。
所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该多组等离子体放电电极的连接方式是一个电极与壳体连接并接地，另一个电极与电源的高压输出端连接，该电源的放电频率是 l-30KHz。所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为在放电电极之间可以通过进气管道引入工作气体来改善等离子体的辉光度，该工作气体是采用氩气。所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该多组等离子体是在一个壳体内，在壳体外设有排
气管道。本发明的主要用途是使处理后的纱线亲水性能大大提高，从而大大减少了传统上浆所使用的PVA量，实现了上浆过程的清洁生产。
图1为本发明的实施例一用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统正面结构示意图。图2为本发明的实施例一用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统侧面结构剖视示意图。图3为本发明的实施例二用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统侧面结构剖视示意图。图4为本发明的实施例三用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统侧面结构剖视示意图。图5为本发明的实施例四用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统侧面结构剖视示意图。
具体实施例方式一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电单元， 请参阅图1和图2，每个等离子体放电单元111是由一个高压电极104和地电极106构成， 该两个电极之间设有一个介质阻挡层107，纱线100是穿过介质107和金属板电极104之间。参阅图1和图3，为清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统的第二个实施例，等离子体放电单元111是采用双介质阻挡的放电形式，即在电极104和106之间采用两个介质分别为107和110，放电是在这两个电极之间进行的，纱线100是穿过介质107和介质110 之间。参阅图1和图4，为清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统的第三个实施例，每个放电单元的等离子体放电形式是单介质阻挡的放电形式，如图4所示，该形式是采用被介质301所包围的电极棍302和一个金属板电极304之间进行的，纱线100是穿过介质301 和金属板电极304之间。参阅图1和图5，为清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统的第三个实施例，每个放电单元的等离子体放电形式是采用双介质阻挡的放电形式，如图5所示，该放电形式是分别采用电极棍402和电极辊403之间进行的，介质401和405分别包覆在这两个电极辊 402和403上，纱线100是穿过两个介质401和405之间，。在以上四种实施方式中，高压电源103分别与两个电极连接，其中一个地电极是连接外壳体并101与接地连接。高压电源的放电频率是1-30KHZ，输出峰-峰值电压是大于 8000 伏。多个等离子体放电组是安装在一个外壳体101内，在外壳体101内，还有另外一个内置壳体108，在外壳体101和内置壳体108之间可以通过进气管道109引入工作气体氩气来改善等离子体的辉光度。纱线100是通过导向轴102穿过等离子体放电区间的。在壳体的两侧还设有两个排气罩105，以便排出所产生的废气。壳体材料用铁板、铝板或不锈钢板制成，电极辊302、402、403以及电极板104、107 和304是用金属铝或铜材料制成。上面结合具体的实施例对本发明进行了描述，对于本领域的技术人员而言，在不脱离本发明的精神和范围情况下，可以对上述实施例作出改变和修改，这些改变和修改都在本发明的权利要求限定范围内。
权利要求
1.一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、 导向轴以及支架等，其特征为该设备是在纱线上浆之前设立的一个等离子体处理纱线装置，在该装置中使多组纱线并行穿过上下设有导向轴的多个等离子体放电区，该多个等离子体放电区是采用介质阻挡的放电形式，其中一个电极与壳体连接并接地，另一个电极与电源的高压输出端连接，在放电电极之间可以通过进气管道引入工作气体来改善等离子体的辉光度，该多组等离子体是在一个壳体内，在壳体外设有排气管道。
2.如权利要求1所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该设备是在纱线上浆之前设立的一个等离子体处理纱线装置，可以同时并行处理宽度与上浆机处理同宽一样的多组纱线。
3.如权利要求1所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为在该装置中使多组纱线并行穿过上下设有导向轴的多个等离子体放电区，该多个等离子体放电区是采用介质阻挡的放电形式， 可以是单介质阻挡放电，也可以是双介质阻挡放电。
4.如权利要求1所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该多组等离子体放电电极的连接方式是一个电极与壳体连接并接地，另一个电极与电源的高压输出端连接，该电源的放电频率是 l-30KHz。
5.如权利要求1所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为在放电电极之间可以通过进气管道引入工作气体来改善等离子体的辉光度，该工作气体是采用氩气。
6.如权利要求1所述的一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该多组等离子体是在一个壳体内，在壳体外设有排气管道。
全文摘要
本发明涉及一种用于清洁上浆纱线的常压等离子体处理系统，包括多组等离子体放电板、电源、导向轴以及支架等，其特征为该设备是在纱线上浆之前设立的一个等离子体处理纱线装置，在该装置中使多组纱线并行穿过上下设有导向轴的多个等离子体放电区，该多个等离子体放电区是采用介质阻挡的放电形式，其中一个电极与壳体连接并接地，另一个电极与电源的高压输出端连接，在放电电极之间可以通过进气管道引入工作气体来改善等离子体的辉光度，该多组等离子体是在一个壳体内，在壳体外设有排气管道。该设备主要是用于上浆前，对纱线的表面前处理，提高纱线的亲水性能，减少上浆过程中PVA用量，从而实现清洁上浆。
文档编号H05H1/24GK102373598SQ20101025548
公开日2012年3月14日 申请日期2010年8月18日 优先权日2010年8月18日
发明者王守国, 王玉国 申请人:嘉兴江林电子科技有限公司