其具有极高的硬度和极低的热膨胀系数，实现了膜层的可钢化，有利于 减小膜层在高温下的体型变化，在宏观上该技术效果具体表现为在溅射前后膜层颜色漂移 性小，预期颜色及其它性能可控稳定。
[0028] 上述各实施例中，由于上述介质层成份受气氛影响，物理性质并不十分稳定，最终 表征在产品的各个性质上面；同时氧化反应产生大量的热，严重影响溅射效率及设备的稳 定性；膜层中的富余物氧或氮由于存在迁移还能进入前后金属膜层并产生负面影响。例如： 氧化物中残余的氧可以迁移到银层，导致银层氧化。因此，上述各介质层与功能层之间都层 叠结合有抗氧化层，例如，当n=l时，第一介质层21与第一功能层41之间层叠结合有第一 抗氧化层31 ;当n=2时，第二介质层22与第二功能层42之间层叠结合有第三抗氧化层33 等。该抗氧层隔离介质层与功能层的接触，避免对功能层的污染，影响性能，且能协同控制 镀膜玻璃的干涉效果，有利于本实施例镀膜玻璃的应用。作为优选实施例，上述各实施例中 的抗氧层的材质为耐热性好、且抗腐蚀强的镍铬合金。
[0029] 为使镀膜玻璃达到节能效果，应降低镀膜玻璃的热辐射，并控制遮阳系数，提高可 见光透过率，使得在寒冷天气，镀膜玻璃可有效阻挡室内取暖设备发出的热量向室外传递， 且可将太阳辐射能传入室内，达到节能的目的。因此，上述两层抗氧化层之间都层叠结合有 低辐射率的功能层，如图1和图2所示。作为优选实施例，各功能层优选为表面辐射率低的 金层、银层、铜层、铝层中的任一种。作为进一步的优选实施例，该功能层优选为辐射率超低 且吸收率极小的银层。
[0030] 由于上述各功能层稳定性差，因此需将各功能单元的最外层溅射一层介质层，不 仅可以保护只有一个功能单元时镀膜玻璃不易变形，质量优异，且兼具导电效果。
[0031] 由此，上述一个完整的功能单元5由邻近第一介质层21向外依次层叠结合有抗氧 化层、第一功能层、第二抗氧化层和第二介质层，而为调节镀膜玻璃的干涉、偏色以及辐射 率等性能指标，该功能单元的数目可根据实际需要进行调整。
[0032] 以上所述镀膜玻璃的所有膜层的厚度可根据具体需要，例如当折射率较低时加厚 功能层的厚度提高膜层的折射率，其中，上述同一类型(例如第一介质层与第二介质层，或 者第一功能层与第二功能层）的膜层厚度可以相同也可以不同，只要能调节性能指标，在此 不加以限定。另外，上述镀膜玻璃的所有膜层除掺杂金属的碳化硅膜层(包括第一介质层 21、第二介质层22、第三介质层23等所有介质层2)的制备工艺采用本实施例的技术方案， 其它膜层的镀膜工艺均为现有技术，在此不再赘述。
[0033] 综上，上述镀膜玻璃一方面利用掺杂金属的碳化硅膜层的高折射率显著拓宽了在 可见光区的透射区间，改善目前低辐射玻璃的偏色问题，提高了产品的视觉品质；另一方面 利用碳化硅高硬度和极低的膨胀系数增强新产品膜层的稳定性，为可钢化技术的实现提供 可能；同时，本实施例通过在介质层与功能层之间层叠结合抗氧化层，可进一步防止介质层 对功能层的接触污染，不仅保证各膜层稳定性还可协同调节膜层的折射率；而通过设置多 层抗氧化层、功能层以及掺杂金属的碳化硅膜层来调节各膜层之间的干涉结果的差异，从 而实现最为理想的相干效果。另外，上述掺杂金属的碳化硅膜层的溅射工艺不需额外使用 氧或氮气，使得溅射而成的介质层稳定，进一步消除对功能层的损害，且也保证了溅射工艺 的可操作性和稳定性。
[0034] 相应地，上述镀膜玻璃利用掺杂金属的碳化硅膜层的高折射率、高硬度和低膨胀 系数提高镀膜玻璃的稳定性和可钢化处理性，同时改善其偏色效果，使其可用于制备减反 膜、高反膜、节能膜等产品，并可应用于建筑镀膜产品中。
[0035] 现以一种镀膜玻璃薄膜为例，对本发明进行进一步详细说明，其中，下述掺杂金属 的碳化硅膜层为掺铝碳化硅膜层。
[0036] 实施例1
[0037] -种镀膜玻璃，其含有一个功能单兀，具体结构为：在玻璃基片1 一表面层叠结 合有第一掺错碳化娃膜层，由邻近第一掺错碳化娃膜层向外依次层叠结合有第一镍铬合金 层、第一银层、第二镍铬合金层和第二掺铝碳化硅膜层。
[0038] 上述掺铝碳化硅膜层中，其铝的重量百分含量均为5%，且掺铝碳化硅膜层的溅射 工艺为：惰性气体流量约600SCCM，反应气体流量为60SCCM，真空度为3. 3 X 10_3mba，溅射电 压为600V，其它膜层均采用现有的真空磁控溅射工艺制备。
[0039] 实施例2
[0040] -种镀膜玻璃，其含有两个功能单兀，具体结构为：在玻璃基片1 一表面层叠结 合有第一掺错碳化娃膜层，由邻近第一掺错碳化娃膜层向外依次层叠结合有第一镍铬合金 层、第一银层、第二镍铬合金层、第二掺铝碳化硅膜层、第三镍铬合金层、第二银层、第四镍 铬合金层、第三掺错碳化娃膜层。
[0041] 上述掺铝碳化硅膜层中，其铝的重量百分含量均为10%，且掺铝碳化硅膜层的溅射 工艺为：惰性气体流量约600SCCM，反应气体流量为25SCCM，真空度为3. 3 X 10_3mba，溅射电 压为600V，其它膜层均采用现有的真空磁控溅射工艺制备。
[0042] 对比实施例1
[0043] -种镀膜玻璃，其含有两个功能单兀，具体结构为：在玻璃基片1 一表面层叠结 合有第一氧化锡层，由邻近第一氧化锡层向外依次层叠结合有第一镍铬合金层、第一银层、 第二镍铬合金层、第二氧化锡层、第三镍铬合金层、第二银层、第四镍铬合金层、第三氧化锡 层。
[0044] 上述掺铝碳化硅膜层的溅射工艺为：惰性气体流量约600SCCM，反应气体流量为 255011，真空度为3.3\10_ 311*&，溅射电压为600￥，其它膜层均采用现有的真空磁控溅射工 艺制备。
[0045] 对比实施例2
[0046] -种镀膜玻璃，其含有两个功能单兀，具体结构为：在玻璃基片1 一表面层叠结合 有第一掺错碳化娃膜层，由邻近第一掺错碳化娃膜层向外依次层叠结合有第一银层、第二 掺铝碳化硅膜层、第二银层、第三掺铝碳化硅膜层，其中，第一掺铝碳化硅膜层和第二掺铝 碳化硅膜层的溅射工艺与实施例1相同。
[0047] 性能测试：
[0048] 将上述实施例1-2及对比实施例1-2进行下述性能测试：
[0049] (1)观察外观；
[0050] (2)测试各镀膜玻璃的辐射率。
[0051] 上述实施例1-2及对比实施例1-2的测试结果如下表1所示：
[0052] 表 1
【主权项】
1. 一种镀膜玻璃，包括玻璃基片和在所述玻璃基片一表面层叠结合的第一介质层，其 特征在于：所述第一介质层外表面层叠结合至少一个功能单元，所述每一功能单元由邻近 所述第一介质层向外依次层叠结合有第一抗氧化层、第一功能层、第二抗氧化层和第二介 质层，其中，所述第一介质层和所述第二介质层均为掺杂金属的碳化硅膜层。
2. 根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述掺杂金属的碳化硅膜层中金属 的重量百分含量为0. 5~18%。
3. 根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能单元的数量为1~3个。
4. 根据权利要求1~3任一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一抗氧层和所述第 二抗氧层的材质均为镍铬合金。
5. 根据权利要求1~3任一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一功能层为金层、 银层、铜层、铝层中的任一种。
6. 根据权利要求5所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一功能层为银层。
7. 根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述掺杂金属碳化硅膜层是采用掺 杂铝-碳化硅为靶材以真空磁控溅射镀膜而成。
8. 根据权利要求7所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述真空磁控溅射镀膜的工艺条件 为：惰性气体流量约600-800SCCM，反应气体流量为20-30SCCM，真空度为3. 3X 10_3mba，溅 射电压低于680V。
9. 根据权利要求7所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述靶材的结构为平面靶或旋转靶。
10. 如权利要求1~9任一所述的镀膜玻璃在建筑镀膜产品中的应用。
【专利摘要】本发明公开了一种镀膜玻璃，包括玻璃基片和在所述玻璃基片一表面层叠结合的第一介质层，其特征在于：所述第一介质层外表面层叠结合至少一个功能单元，所述每一功能单元由邻近所述第一介质层向外依次层叠结合有第一抗氧化层、第一功能层、第二抗氧化层和第二介质层，其中，所述第一介质层和所述第二介质层均为掺杂金属的碳化硅膜层。本发明的镀膜玻璃通过将介质层限定为折射率高、硬度大和膨胀系数低的碳化硅膜层改善目前低辐射玻璃的偏色问题，提高产品的整体性能，获得一种全新的镀膜玻璃产品。同时，该技术可用于制备减反膜、高反膜、节能膜等产品，并可应用于建筑镀膜产品领域。
【IPC分类】B32B33-00, C03C17-36, B32B17-06
【公开号】CN104875444
【申请号】CN201410073394
【发明人】易镜明
【申请人】易镜明
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2014年2月28日