部为晶体物质"是指：制作 与晶体生长方向平行的截面并获得EBSP图案时，从晶体生长开始的根部也可得到清晰的 EBSP图案。非晶质的情况下，不能得到清晰的EBSP图案。
[0105] 在从荧光体柱状晶体的根部直至50μπι的膜厚范围内，在与晶体生长方向垂直的 截面中的荧光体总投影面积的60%以上中，通过使用了EBSP图案的晶体取向分析得到的 (200)晶体取向优选为10°以下，更优选为5°以下。通过将晶体取向分析得到的（200)晶 体取向设为所述范围，可以良好地维持支持体和荧光体等的密合性、即膜附着性，且可以提 供亮度及清晰性优异的放射线图像转换面板。
[0106] <其它层>
[0107] 衬底层
[0108] 为了提高支持体和荧光体层的粘接性，优选在支持体和荧光体层之间设置衬底 层。衬底层对于荧光体层从其根部开始生长晶体物质的柱状晶体，且使之与支持体具有良 好的密合性（膜附着性）起到重要的作用。即，本发明中的荧光体层优选经由形成在上述 支持体表面的薄衬底层而形成在该衬底层的表面。
[0109] 经由这样衬底层而形成荧光体层的情况下，荧光体和衬底层的密合性、即膜附着 性会由于衬底层表面部分的物性（底涂物性）而显著地变动。起因于该衬底层的表面物性 变动的特性为弹性模量，但由于该衬底层非常薄，并且即使为相同的厚度也会因为初期形 成状态不同而显著地变动，因此，为了测定衬底层的特性，采用JisC2318那样的以往通常 所采用的弹性模量的测定方法是不妥当的。特别是膜吸引性显著地影响在衬底层蒸镀极初 期温度下衬底层表面部分的弹性模量。在测定本发明的衬底层这样的局部粘弹性行为时， 可以采用适于局部力学物性测定的纳米压痕（压入）法，可以得到精度更高的特性，而不是 采用以往的方法。
[0110] 这里采用的纳米压痕法是指：连续地测定锐角压头对原材料的压入负载和深度， 由描绘与锐角压头的压入深度相对应的压入负载的关系而得到的曲线求出原材料的硬度 (压痕硬度）、复合弹性模量及屈服应力等的方法。在纳米压痕法中，可以根据使用的压头 的种类评价各种各样的力学特性，通过使用可以控制试样温度的环境控制纳米压痕仪和锐 角压头（Berkovich压头）而以适当的压入负载进行测定，可以评价蒸镀初期温度下的底涂 物性。因此，在本发明中采用的纳米压痕法中，不进行使用光学显微镜等的视觉观察。
[0111] 对本发明中采用的纳米压痕法，示出具体测定方法的一例。
[0112] 装置使用Hysitron公司制造的纳米压痕仪（Triboscope)，将其设置于环境控制 室，并将试样调整为期望的温度。锐角压头使用Berkovich压头（锐角压头：三棱锥形金钢 石制造）。将试样固定于操作台上，进行压入测定各3次。条件如下，以负载的压入速度为 300nm/sec，直至最大压入深度300nm，以相同速度接触负载。对得到的负载位移曲线进行分 析，算出硬度及复合弹性模量。需要说明的是，测定值利用熔融石英的标准试样进行修正。
[0113] 本发明中，优选使用由纳米压痕法测定的初期基板温度下的衬底层弹性模量通常 为1~15GPa以下的原材料，优选为1~lOGPa的原材料。
[0114] 使用这样的由纳米压痕法测定的初期基板温度下的衬底层弹性模量在上述范围 的原材料形成衬底层的话，如上所述，荧光体柱状晶体的集合体即晶畴可以具有〇. 2~ 10μm的平均直径，优选具有0. 2~7μm的平均直径。而且，从晶体开始的根部直至50μm 的膜厚范围内的各晶畴的平均直径为〇· 3~3μm，优选为0· 3~1μm，变异系数为50 % 以下、优选35 %的范围内。而且，形成晶体结构非常一致的形状，从根部直至50μπι的 膜厚范围内与晶体垂直的截面的荧光体整体投影面积的60%以上、优选75%以上中，用 EBSP(Electron Back Scattering Pattern)法测定的晶体取向衍射中的（200)晶体取向的 斜率为通常10%以下、优选6%以下的范围内。
[0115] 本发明中，作为形成如上所述的衬底层的材料，可列举例如：聚氨酯、氯乙烯共聚 物、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-偏氯乙烯共聚物、氯乙烯-丙烯腈共聚物、丁二 烯-丙烯腈共聚物、聚酰胺树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚酯、Vylon?、纤维素衍生物（硝基纤维 素等）、苯乙烯-丁二烯共聚物、各种合成橡胶类树脂、酚醛树脂、聚对二甲苯、环氧树脂、尿 素树脂、三聚氰胺树脂、苯氧基树脂、有机硅树脂、丙烯酸树脂及脲甲酰胺树脂等高分子粘 结材料（以下，也称为"粘合剂"）。其中，优选聚氨酯、聚酯、Vylon?、聚对二甲苯、有机硅树 月旨、丙烯酸树脂及聚乙烯醇缩丁醛。另外，这些粘合剂也可以混合使用两种以上。
[0116] 从提高支持体和荧光体层的粘接性的观点出发，优选粘合剂的玻璃化转变温度 (Tg)为 100°C以下。
[0117]另外，为了辅助发出的光的反射，可以在本发明的衬底层上配合白色颜料。作为这 里使用的白色颜料，可以列举氧化钛（IV) (Ti02)。例如，在聚酯中添加固化剂使得初期基板 温度下的弹性模量为1~15GPa，优选1~lOGPa的范围，同时，相对于树脂100重量份，以 100~5000重量份的范围内的量添加氧化钛（IV) (Ti02)，使其固化并使得基底层的厚度优 选成为1~50μm的厚度。调整固化剂的添加量使得此时形成衬底层的树脂的玻璃化转变 温度（Tg)为0~50°C，优选5~40°C。
[0118] 作为这里使用的固化剂，例如形成由聚酯构成的衬底层的情况下，可列举异氰酸 酯类及三聚氰胺化合物等。另外，用其它原材料形成衬底层的情况下，将适量使用与其原材 料对应的固化剂而得到的初期基板温度下由纳米压痕法测定的弹性模量调整至上述范围。
[0119] 本发明中衬底层可以通过用溶解或分散于溶剂的高分子粘结材料进行涂布并干 燥来形成，此外，可以通过气相法进行成膜。即，例如就衬底层的涂布方式而言，例如可以采 用照相凹版、模涂、逗号涂布器、棒涂、浸渍涂布、喷涂、旋涂等通常的方法，此外，还可以采 用CVD法等方法。
[0120] 作为可以用于形成衬底层的溶剂，可列举：甲醇、乙醇、正丙醇及正丁醇等低级醇； 二氯甲烷及二氯乙烷等含有氯原子的烃；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮及环己酮等酮； 环己烷；甲苯、苯及二甲苯等芳香族化合物；醋酸甲酯、醋酸乙酯及醋酸丁酯等低级脂肪酸 与低级醇形成的酯；二噁烷、乙二醇单乙基醚、乙二醇单甲基醚、甲氧基丙醇、丙二醇单甲基 醚及丙二醇单甲基醚乙酸酯等醚以及它们的混合物。
[0121] 衬底层的膜厚通常为0. 1~10μπι，优选为0. 5~5μπι。通过将衬底层的膜厚设 为0. 1μm以上，与荧光体层的粘接性提高，通过将衬底层的膜厚设为10μm以下，抑制衬底 层内的光散射，提高清晰性。
[0122] 另外，为了防止荧光体层发出的光的散射并提高清晰性等，可以在本发明的衬底 层中含有氧化钛等的颜料或染料。
[0123] 通过将如上所述形成的初期衬底层的由纳米压痕法测定的衬底层硬度调整为如 上所述的通常1~15GPa、优选1~lOGPa的范围内，可以良好地维持形成在该表面的荧光 体层的膜附着性。因此，根据本发明，可以提供亮度及清晰性优异的放射线图像转换面板。
[0124] 反射层
[0125] 在支持体和荧光体层之间，除衬底层之外，还优选具有反射层。具体而言，优选在 支持体和衬底层之间设置反射层。通过设置反射层，可以非常有效地导出荧光体层中发出 的光，飞跃性地提尚壳度。
[0126] 构成反射层的材料可列举：铝、银、铂、钯、金、铜、铁、镍、铬、钴及不锈钢等金属材 料。其中，从反射率或耐腐蚀性的观点出发，特别优选以铝或银为主要成分的金属材料。另 外，可以形成两层以上由这样的金属材料构成的薄膜。
[0127] 作为在支持体上覆盖所述金属材料的方法，可以采用蒸镀、溅射或贴合金属箱等， 没有特别的限制，从密合性的观点出发，最优选溅射。
[0128] 作为构成反射层的材料，可以列举所述金属材料，此外，还可列举金属氧化物及光 散射微粒等。即，通过涂布将金属氧化物及光散射微粒等混合在粘合剂中而得到的材料，可 以形成反射层。
[0129] 作为所述金属氧化物，从反射率提高的观点出发，可列举二氧化硅（Si02)及氧化 钛（IV) (Ti02)等金属氧化物。这些物质既可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
[0130] 作为所述光散射微粒，可以使用例如氧化钛（IV) (Ti02)(锐钛矿型、金红石 型）、氧化镁（MgO)、碱式碳酸铅（II) (PbC03 ·Pb(0H)2)、硫酸钡（BaS04)、氧化铝（A1203)、 M(II)FX(其中，M(II)为选自钡、锶及钙中的至少一种原子，X为氯原子或溴原子）、碳 酸钙（CaC03)、氧化锌（ZnO)、三氧化锑（Sb203)、二氧化硅（Si02)、氧化锆（Zr02)、锌钡白 (BaS04 ·ZnS)、硅酸镁、碱式硅硫酸盐、碱式磷酸铅、硅酸铝等白色颜料。其中，作为氧化钛 (IV)的晶体结构，从与各种树脂的折射率之比大、可以实现高亮度方面考虑，优选金红石 型。作为氧化钛（IV)，具体而言，可列举用盐酸法制造的CR-50、CR-50-2、CR-57、CR-80、 CR-90、CR-93、CR-95、CR-97、CR-60-2、CR-63、CR-67、CR-58、CR-58-2、CR-85、用硫酸法制造 的R-820、R-830、R-930、R-550、R-630、R-680、R-670、R-580、R-780、R-780-2、R-850、R-855、 A-100、A-220、W-10 (以上商品名：石原产业（株）制造）等。氧化钛（IV)的一次粒径通常 0. 1~0. 5μm，优选0. 2~0. 3μm。另外，作为氧化钛（IV)，为了提高与聚合物的亲和性以 及分散性，或为了抑制聚合物的劣化，特别优选用铝、硅、锆及锌等的氧化物进行了表面处 理的氧化钛。
[0131] 在反射层中通常含有40~95重量％氧化钛（IV)，优选含有60~90重量％。氧 化钛（IV)的含量低于40重量％时，亮度降低，当其超过95重量％时，有时与支持体或荧光 体层的粘接性降低。
[0132] 由于这些白色颜料的隐蔽力强、折射率大，因此，通过反射光、或使光发生折射，可 以容易地散射荧光体层中发出的光，显著地提高得到的放射线图像转换面板的灵敏度。
[0133] 作为其它光散射性粒子，例如玻璃珠、树脂珠、在粒子内存在中空部的中空粒子、 在粒子内存在许多中空部的多中空粒子及多孔粒子等均可以使用。
[0134] 所述光散射性粒子既可以单独使用、或也可以组合使用。
[0135] 作为所述粘合剂，可列举易粘接性的聚合物、例如聚氨酯、氯乙烯共聚物、氯乙 烯-醋酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-偏氯乙烯共聚物、氯乙烯-丙烯腈共聚物、丁二烯-丙烯 腈共聚物、聚酰胺树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚酯、纤维素衍生物（硝基纤维素等）、苯乙烯-丁 二烯共聚物、各种合成橡胶类树脂、酚醛树脂、环氧树脂、尿素树脂、三聚氰胺树脂、苯氧基 树脂、有机硅树脂、丙烯酸树脂及脲甲酰胺树脂等。其中，优选使用聚氨酯、聚酯、有机硅树 月旨、丙烯酸树脂及聚乙烯醇缩丁醛。另外，这些粘合剂也可以混合使用两种以上。
[0136] 涂布型的反射层可以通过对至少含有光散射粒子、粘合剂及溶剂的组成物进行涂 布并进行干燥而形成。至于涂布方式，没有特别限制，可以使用例如照相凹版涂布、模涂、逗 号涂布、棒涂、浸涂、喷涂及旋涂等通常的方式。
[0137] 作为用于反射层制作的溶剂，可列举：甲醇、乙醇、正丙醇及正丁醇等低级醇；二 氯甲烷及二氯乙烷等含有氯原子的烃；丙酮、甲基乙基酮、环己