三室3 之后。当设置第四室4时，其内部设有一包括清洁液13且为超音波清洁的清洁装置，以通 过输出一超音波频率振荡设于该第四室4的清洁液13而超音波清洗去除鞋部件基材6表 面的微小物质，于本实施例中，该第四室4的清洁液13与该第二室2的清洁液7具有相同 成分组成，或者，该第四室4的清洁液13是依据鞋部件基材6的材质特性调整为与第二室2 的清洁液7为不同成分组成，进一步地，第二室2可视实际情况所需，移除清洁剂或利用含 硫清洁分子提升清洁效果。且该第四室4出口处设有一干燥装置14,其包括气刀及近红外 线加热灯用以去除鞋部件基材6表面的残留清洁液13。
[0057] 藉此，本发明通过前述紫外线照射系统提供一种先UV照射后清洁的涂胶工序预 处理方法，其方法步骤包括：
[0058] 提供一已成型的鞋部件基材6,其是选自橡胶、EVA、PU或TPU的材料制成；
[0059] 经一输送装置5输送该鞋部件基材6进入一内设UV照设装置的第一室1，该UV 照射是指以波长200~280nm的紫外线-C (UV-C)进行的照射，令该鞋部件基材6表面为 UV-C照射产生的臭氧激活而产生蚀刻效应；
[0060] 经该输送装置5输送该鞋部件基材6进入一内设清洁装置的第二室2,令该鞋部件 基材6表面的微小物质通过清洁装置而去除；
[0061] 经该输送装置5输送该鞋部件基材6进入一与该第一室1具相同功能的第三室3 进行UV-C照射，重复以臭氧激活该鞋部件基材6表面藉以产生蚀刻效应；
[0062] 经该输送装置5选择性地输送该鞋部件基材6进一与该第二室2具相同功能的第 四室4进行二次清洁。
[0063] 其中，该输送装置5的输送速度设定，是以鞋部件6在第一室1内部的时间能与臭 氧及UV-C照射获得良好反应为准则进行调整。
[0064] 藉此，如图5所示，当本发明用于橡胶制鞋部件基材6的涂胶工序预处理时，仅需 以前述紫外线照射系统自动化进行一 UV照射程序S51后，即可进行主要涂胶S52及其炉内 加热S521，最后完成粘结贴附S53,相较于普通涂胶工序预处理，本发明通过该UV照射程序 S51取代普通底漆涂布，具有明显简化制程的功效。
[0065] 以上所述为本发明鞋部件涂胶工序预处理方法及其紫外线照射系统的具体实施 方式，以下说明本发明紫外线照射程序的反应机制、实施例及其检测结果。
[0066] 如图7所示，说明本发明鞋部件涂胶工序预处理方法中，利用UV照射、臭氧激活鞋 部件基材表面的机制。如图，利用UV-C照射提供氧分子能量，使氧分子分解为氧原子进而 结合生成臭氧，是已广为应用的臭氧生成技术。本发明利用臭氧反应活性强、易分解的特 性，使臭氧在与鞋部件基材6表面接触时，通过UV照射提供足够能量破坏鞋部件基材6的 材料键结结构，释出游离官能基，在鞋部件基材6表面形成蚀刻效应（etching effect),透 过蚀刻后的表面结构，使鞋部件基材6表面达到增加粘固胶与鞋部件基材6的结合能力。进 一步地，在清洁步骤中选择符合勒沙特列原理的清洁液，将在清洁时同时助于释出更多游 离官能基，于本实施例中，该清洁液7、13可为清洁剂及/或水、酸性溶液、碱性溶液或缓冲 溶液。
[0067] 于本发明中，图7、8A、8B，是以橡胶制鞋部件基材6为例说明其与臭氧反应后，使 其中的R-CH3为臭氧破坏，进而生成游离官能基羟基（一 0H)，图8A为橡胶与臭氧反应前具 有平滑表面的显微镜图，图8B为反应后橡胶表面受侵蚀而形成不平整表面的显微镜图。在 勒沙特列原理基础下，降低鞋部件基材6所处环境的pH值，将有助于游离羟基（一 0H)释 出，因此，于本实施例中，以酸性清洁液进行超音波清洁，有助于橡胶制鞋部件基材6表面 释出更多游离羟基（一 0H)，使蚀刻效应更为明显；较佳的，以硫酸（H2S04)做为清洁液具有 在橡胶制鞋部件基材6表面形成更多羧基（一 C00)及羰基（一 C = 0)的功效，而大幅提升 鞋部件基材6与粘固胶的结合能力。
[0068] 以下藉表一至表三的检测结果，说明本发明以橡胶制鞋部件基材6实施例与粘 固胶的结合能力。其中，表一至表三是将鞋部件基材6于第一室1中，以2.0~5. OJ/ cm UV-C进行照射，产生臭氧30-80ppm ;于第二室2中，以清洁剂及水进行超音波震洗；于 第三室3中，以2. 0~5. OJ/cm UV-C进行照射，产生臭氧30-80ppm ;最后于第四室4中， 以清水进行超音波震洗后，制得的鞋部件的常温拉力测试（pulling)、水洗后拉力测试_ (washing+pulling)、水解后拉力测试 _(hydrolysis+pulling)检测结果。
[0072] 综上所述，本发明通过前述鞋部件涂胶工序预处理方法及其紫外线照射系统，达 到以一贯连通的自动化产线完成预处理，且在未大幅增加设备成本的前提下，利用UV-C照 射、臭氧激活形成蚀刻效应，确实且有效提升粘固胶与鞋部件基材的结合强度，此外，本发 明提供的先UV照射后清洁的紫外线照射系统，对于材质特性相异的鞋部件基材6,可直接 通过复制增设用以UV-C照射臭氧激活的反应室及/或用以清洁的反应室，达到增加紫外线 照射系统的适用广度，且可通过超过一次以上的UV-C照射及清洁提高鞋部件基材6表面的 激活程度，提升后续涂胶工序中粘固胶与鞋部件基材的胶结品质。
【主权项】
1. 一种鞋部件涂胶工序预处理方法，其是于制鞋工序中的鞋部件冲压成型步骤与涂胶 步骤之间进行，其特征在于：所述预处理方法步骤包括： 提供一鞋部件基材； 经一输送装置输送该鞋部件基材进入一内设UV照设装置的第一室，该UV照射是指以UV-C进行的照射，令该鞋部件基材表面为UV照射产生的臭氧激活而产生蚀刻效应； 经该输送装置输送该鞋部件基材进入一内设清洁装置的第二室，令该鞋部件基材表面 的因蚀刻而产生的微小物质通过清洁装置而去除； 经该输送装置输送该鞋部件基材进入一与该第一室具相同功能的第三室进行UV-C照 射，重复以臭氧激活该鞋部件基材表面藉以产生蚀刻效应；以及 经该输送装置选择性地输送该鞋部件基材进一与该第二室具相同功能的第四室进行 二次清洁。2. 如权利要求1所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：所述鞋部件基材是 由选自橡胶、EVA、PU或TPU的材料制成。3. 如权利要求1所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：所述清洁装置为一 超音波清洁装置，其是通过输出一超音波频率振荡设于该第二室的清洁液，以超音波清洗 去除鞋部件基材表面的微小物质。4. 如权利要求3所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：当该第四室接设于 该第三室之后时，该第四室内部设有一与该第二室相同的清洁装置，该清洁装置为一超音 波清洁装置，其是通过输出一超音波频率振荡设于该第四室的清洁液，以超音波清洗去除 鞋部件基材表面的微小物质，该第四室的清洁液与该第二室的清洁液具有相同成分组成， 或者，该第四室的清洁液是依据鞋部件基材的材质特性调整为与第二室的清洁液为不同成 分组成。5. 如权利要求3或4所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：所述清洁液为 清洁剂及/或水。6. 如权利要求3或4所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：所述清洁液为 缓冲溶液、酸液或碱液。7. 如权利要求1所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：所述输送装置的输 送速度设定，是以鞋部件在第一室内部的时间能与臭氧及UV-C照射获得良好反应为准则 进行调整。8. 如权利要求1所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：所述第二室及其他 与其功能相同的反应室是于出口处设有一干燥装置，令该鞋部件基材输出进入下一反应室 时，经该清洁装置而残留于该鞋部件基材表面的清洁液为该干燥装置干燥去除。9. 如权利要求1所述的鞋部件涂胶工序预处理方法，其特征在于：所述方法是依据该 鞋部件基材的材质特性，通过在输送装置上成组地重复设置功能与第一室相同的UV-C照 射反应室以及工能与第二室相同的洗净反应室，以令不同材质的鞋部件基材与臭氧充分反 应产生蚀刻效应。10. -种用于如权利要求1所述的鞋部件涂胶工序预处理方法的紫外线照射系统，用 以对鞋部件基材进行涂胶工序预处理，其特征在于：所述系统包括： 一输送装置，用以输送该鞋部件基材； 一第一室，设于该输送装置上，内部设有UV灯用以输出UV-C照射产生浓度30至80ppm的臭氧，且该第一室顶部设有一排气口，供排放臭氧； 一第二室，接设于该第一室之后地设于该输送装置上，内部设有一包括清洁液的清洁 装置； 一第三室，接设于该第二室之后地设于该输送装置上，内部设有UV灯用以输出UV-C照 射产生30至80ppm的臭氧,且该第三室顶部设有一排放口，供排放臭氧； 令该鞋部件基材经该输送装置输送，使鞋部件基材表面在该第一室内为UV-C照射而 被臭氧激活产生蚀刻效应，并于该第二室内为清洁装置去除表面微小物质，且鞋部件基材 表面在第三室内再次经UV-C照射而被臭氧二次激活产生蚀刻效应。11. 如权利要求10所述的紫外线照射系统，其特征在于：所述鞋部件基材是由选自橡 胶、EVA、PU或TPU的材料制成。12. 如权利要求10所述的紫外线照射系统，其特征在于：所述第二室出口处设有一干 燥装置，该干燥装置包括一供输出小股强劲气流的气刀以及多个近红外线加热灯，令大部 分残留在鞋部件表面的清洁液通过该干燥装置的气刀及近红外线加热灯而被去除。13. 如权利要求10所述的紫外线照射系统，其特征在于：更包括一第四室接设于该第 三室之后地设于该输送装置上，该第四室内部设有一包括清洁液的清洁装置，且该第四室 出口处设有一干燥装置，该干燥装置包括一供输出小股强劲气流的气刀以及多个近红外线 加热灯，令大部分残留在鞋部件表面的清洁液通过该干燥装置的气刀及近红外线加热灯而 被去除。14. 如权利要求10或13所述的紫外线照射系统，其特征在于：所述清洁液为清洁剂及 /或水，该清洁剂是选自含硫缓冲液、酸液或碱液。15. 如权利要求10或13所述的紫外线照射系统，其特征在于：所述清洁装置为一超音 波清洁装置，其是通过输出一超音波频率振荡该清洁液，以超音波清洗去除鞋部件基材表 面的微小物质。
【专利摘要】本发明公开了一种鞋部件涂胶工序预处理方法及其系统，其主要是利用UV照射程序取代普通在鞋部件基材涂布底漆的涂胶工序预处理，通过提供一种先UV-C照射后清洁的涂胶工序预处理，达到在未大幅增加设备成本的前提下，确实且有效提升粘固胶与鞋部件基材结合强度；另，通过一输送装置输送鞋部件基材依序通过进行UV-C照射、臭氧激活以及进行清洁的反应室，并藉重复设置前述反应室达到提高鞋部件基材表面的激活程度，提升后续涂胶工序中粘固胶与鞋部件基材的胶结品质。
【IPC分类】A43D25/18
【公开号】CN104921411
【申请号】CN201410106646
【发明人】陈均远, 林怡伶
【申请人】欧利速亚洲有限公司
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2014年3月21日