1.一种牙科组合物,其包含:
(a)引发剂体系,所述引发剂体系包含:
(a1)下式(I)敏化剂化合物:
X-R
(I)
其中
X是下式(II)基团:
其中
M是Si或Ge;
R1表示被取代或未被取代的烃基或烃基羰基;
R2表示被取代或未被取代的烃基或烃基羰基;
R3表示被取代或未被取代的烃基;并且
R(i)具有与X相同的含义,由此所述式(I)敏化剂化合物可能是对称或不对称的;或
(ii)是下式(III)基团:
其中
Y表示单键、氧原子或基团NR',其中R'表示被取代或未被取代的烃基;
R4表示被取代或未被取代的烃基、三烃基硅烷基、单(烃基羰基)二烃基硅烷基或二(烃基羰基)单烃基硅烷基;或
(iii)当M是Si时,R可能是被取代或未被取代的烃基,和
(a2)下式(IV)共引发剂化合物:
X'-L-X”
(IV)
其中
X'表示下式(V)或(VI)基团:
其中
点线表示
双键或三键,其中在存在三键的情况下,不存在R8和R9;
锯齿状线指示式(V)和(VI)包括任何(E)或(Z)异构体,
Z'和Z"可能相同或不同,独立地表示氧原子、硫原子或>N-Ro,其中
Ro是氢原子;直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基或酸性基团取代;或下式(VII)基团:
其中
锯齿状线指示式(VII)包括任何(E)或(Z)异构体,
R15和R16
可能相同或不同,独立地表示氢原子;或直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基或酸性基团取代;
R17和R18
可能相同或不同,独立地表示氢原子;或直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基或酸性基团取代;或R17和R18在一起表示与相邻碳原子一起形成羰基的氧原子;
R5和R6
可能相同或不同,独立地表示氢原子;或直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被至少一个选自由羟基、烷氧基或酸性基团组成的群组的部分取代;
R7表示氢原子;或直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基或酸性基团取代;
R8和R9
可能相同或不同,独立地表示氢原子;直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基或酸性基团取代;
R10表示氢原子;或直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基取代;
X”表示选自由羟基、硫醇基、烷氧基和酸性基团组成的群组的部分,或下式(VIII)或(IX)部分:
其中
锯齿状线指示式(VIII)包括任何(E)或(Z)异构体,
Z*和Z**可能相同或不同,独立地表示氧原子、硫原子或>N-R·,其中
R·是氢原子;直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基或酸性基团取代;或R·独立地是如关于Ro所定义的式(VII)基团;
R11和R12
可能相同或不同,独立地表示氢原子;直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被至少一个选自由羟基、硫醇基、烷氧基和酸性基团组成的群组的部分取代;
R13表示氢原子;或直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基或酸性基团取代;
R14表示氢原子;或直链、分支链或环状烷基或烯基,所述基团能够被烷氧基取代;
或替代地,
R5、R6、R7、R8、R9、R10、Ro、R11、R12、R13、R14、R·以及如果存在,R15、R16、R17和R18中的任何两个残基都能够在一起表示亚烷基或亚烯基,其能够被烷氧基、酸性基团或-NR▲R▼基团取代,其中R▲和R▼彼此独立地表示氢原子或烷基;或
R5、R6、R7、R8、R9、R10、Ro、R11、R12、R13、R14、R·以及如果存在,R15、R16、R17和R18中的并非孪位或连位基团的任何两个残基都能够在一起表示单键,
其中所述单键或所述任选地被取代的亚烷基或亚烯基与所述残基所连接的桥接原子一起形成3元到8元饱和或不饱和环,
其中所述式(II)可聚合化合物能够包含所述3元到8元饱和或不饱和环中的一个或多个;并且
L可能存在或不存在,当存在时表示二价连接基团,并且当不存在时,X'和X”通过单键直接键结。
2.根据权利要求1所述的牙科组合物,其中在所述式(IV)共引发剂化合物中,L是下式(X)基团
其中
m、n和o可能相同或不同,是0到3的整数;并且p是0、1或2。
3.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其中所述式(I)敏化剂化合物是(叔丁基二甲基硅烷基)乙醛酸叔丁酯(DKSi)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其中所述式(IV)共引发剂化合物具有烯丙基和/或C-H键解离能小于95千卡/摩尔的C-H键,
优选地,所述式(IV)共引发剂化合物是N,N'-二烯丙基-1,4-双丙烯酰氨基-(2E)-丁-2-烯(BAABE)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其不含有芳香族胺化合物。
6.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其进一步包含
(b)一种或多种具有至少一个可聚合双键的可聚合化合物。
7.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其中所述引发剂体系以以下摩尔比包含组分(a1)和(a2):((a1):(a2)为1:(0.0到3.0))。
8.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其进一步包含溶剂和/或微粒填料。
9.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其进一步包含一种或多种选自以下的组分:
(a3)碘鎓盐、锍盐和鏻盐。
10.根据权利要求9所述的牙科组合物,其中所述碘鎓盐选自二苯基碘鎓六氟磷酸盐和(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘鎓六氟磷酸盐。
11.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其进一步包含:
(a4)下式(XI)芳香族叔膦化合物:
Z”'-R19
(XI)
其中
Z”'是下式(XII)基团
R20(Ar)P-
(XII)
其中
R20表示被取代或未被取代的烃基;
Ar表示被取代或未被取代的芳基或杂芳基;
R19是被取代或未被取代的烃基或基团L'Ziv,其中
L'是被取代或未被取代的二价烃基,其能够含有选自以下的键:醚键、硫醚键、酯键、酰胺键和氨基甲酸酯键,并且
Ziv具有与Z”'相同的含义,其中Z”'和Ziv可能相同或不同;
其中所述基团R19和Ar能够被一个或多个选自以下的基团取代:羟基、氧代基团、-NR21R22基团(其中R21和R22可能相同或不同,选自氢原子和C1-6烷基)、羧基和具有可聚合双键的基团,并且
R19和L'能够被一个或多个选自以下的基团取代:羟基、氧代基团、-NR21R22基团(其中R21和R22可能相同或不同,选自氢原子和C1-6烷基)、羧基和具有可聚合双键的基团。
12.根据前述权利要求中任一项所述的牙科组合物,其中所述牙科组合物是牙科修复体或牙科假体组合物。
13.根据权利要求12所述的牙科组合物,其选自牙科粘合剂组合物、牙科复合组合物、树脂改性的牙科粘固剂、窝沟封闭剂、脱敏剂以及保护漆。
14.一种引发剂体系,其基本上由以下组成:
(a1)如由权利要求1所定义的式(I)敏化剂化合物,和
(a2)其中C-H键解离能小于95千卡/摩尔的共引发剂。
15.一种根据权利要求14所述的引发剂体系的用途,其用于制备牙科组合物。