的支架23。待处理物30可为实验用样品，也可以实际生产中的待处理物品。例如，待处理物30的举例:热敏的电子元器件、各种质地的餐具(碗、盘子、刀叉、勺、筷子等)、外科手术用到的各种器具。
[0036]处理室20可以采用不同材料形成的形状各异的封闭腔体。所述处理室20的材料可为石英玻璃、聚四氟、不锈钢、铝等，等离子体气体从第二进气口 21导入，与处理样品进行接触和相互作用，之后通过第二出气口 22导出处理室20。
[0037]进一步地，该封闭循环式等离子体消毒系统100在用于目标处理的过程中气压一般处于一个大气压，但是系统也可以在低于或者高于一个大气压的情况下工作而不明显影响目标的处理效果。建议的气压使用在I千帕至20万帕之间。因此，优选地，所述封闭循环式等离子体消毒系统100的气压在I千帕至20万帕之间。
[0038]进一步地，等离子体发生室10用于等离子体气体的产生，所述等离子体发生室10包括放置于中间的至少一个等离子体电极70以及为所述等离子体电极70供电的高压等离子体电源。高压等离子体电源在图中未示出，但等离子体发生室10上的电源接口 13已示出，以通过该电源接口 13使等离子体发生室10接电。
[0039]所述等离子体电极70可为同轴电极设计，也可以为平板层结构。
[0040]请同时参阅图2，具体地，当所述等离子体电极70为同轴电极时，所述等离子体电极70包括同轴设置的外层的高压电极71、中间的介质层72及内层的栅网电极73，所述高压电极71与所述高压等离子体电源的高压输出端连接，所述栅网电极73接地。在这里，高压电极71由导电性能好的材料如铜、银或者铝制成，中间的介质层72可以采用的介质材料包括石英玻璃、陶瓷、聚四氟等，栅网电极73由金属多孔网或者金属弹簧制成。所述介质层72的厚度在0.1毫米至10毫米之间。其中大气压等离子体在栅网电极73 —侧沿介质表面产生。
[0041]请同时参阅图3，当等离子体电极70为平板三层结构设计时，然后设置在具有第一进气口 11及第一出气口 12和电源接口 13的封闭腔室。所述等离子体电极70包括高压电极71、栅网电极73及夹于所述高压电极71与所述栅网电极73之间的介质层72，所述高压电极71与所述高压等离子体电源的高压输出端连接，所述栅网电极73接地。在这里，高压电极71由导电性能好的材料如铜、银或者铝制成，中间的介质层72可以采用的介质材料包括石英玻璃、陶瓷、聚四氟等，栅网电极73由金属多孔网或者金属弹簧制成。所述介质层72的厚度在0.02毫米至10毫米之间。其中大气压等离子体在栅网电极73 —侧沿介质表面产生。
[0042]对于等离子体发生室10的等离子体电极70来说，无论其为同轴结构还是平板层结构，该等离子体电极70在等离子体发生室10中可以放置不止一个。
[0043]在其他实施例中，所述等离子体电极70的结构可为其他任意类型的电极结构，例如，介质阻挡的沿面放电结构、介质阻挡的空间放电结构、直流电晕放电结构、直流辉光放电结构、直流电弧放电结构、微波辉光放电结构或射频辉光放电结构。同样地，不论何种结构的等离子体电极70来说，等离子体电极70在等离子体发生室10中可以放置不止一个。
[0044]高压等离子体电源可以是商业产品也可以是自行设计的电源模块，其输出电压信号参数如下:
[0045]波形可为正弦、方波、锯齿波或类脉冲信号，频率范围为0.1赫兹到10万赫兹，信号幅度在100伏到20千伏之间。
[0046]泵送件50接入连接管40上，用来在封闭回路中产生循环的气流，使循环回路中的气体流速在I厘米每秒至10米每秒之间。
[0047]质量流量控制器60用来查看系统中气体的流量速度，以便及时调节。
[0048]该封闭循环式等离子体消毒系统100与其他的等离子体消毒设备最重要的不同在于:等离子体发生室10和样品处理室20设计成两个分离的腔室，两者之间通过连接管40连接。等离子体发生室10中产生的等离子体气体通过连接管40输运到样品处理室20，气体经过待处理物30后会再次回到等离子体发生室10进行二次等离子体放电，以增强处理性能。所以该封闭循环式等离子体消毒系统100在消毒处理过程中没有尾气的排放，系统不设置尾气排放口，避免了对周围环境空气的影响以及废气处理的成本。
[0049]该封闭循环式等离子体消毒系统100推荐采用的工作气体是空气，但是也可以在系统中微量掺入其他气体用来提高处理效果。
[0050]该封闭循环式等离子体消毒系统100采用封闭系统进行处理，处理过程中不需要另外的气体注入，所以可以大大减少对周围环境空气和其他特殊气体的消耗。
[0051]以附着在不锈钢表面的Enterococcus Faecium (屎肠球菌)在干燥环境下的处理结果作为对照，本发明通过采用多次等离子体循环增强的方法，可以大大提高等离子体的消毒效果。实验数据表明10分钟的等离子体处理可以把不锈钢材料表面的细菌载量灭绝5个数量级以上。
[0052]该封闭循环式等离子体消毒系统100在待处理物30的处理过程中，待处理物30远离等离子体发生室10，从而使处理室20没有任何的电磁干扰以及处于室温，所以适合热敏的电子元器件和生物样品的表面消毒。
[0053]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述封闭循环式等离子体消毒系统包括等离子体发生室、用于消毒待处理物的处理室及连接于所述等离子体发生室与所述处理室之间的连接管，所述等离子体发生室与所述处理室二者相互独立，所述连接管上串接有泵送件及质量流量控制器，所述连接管、所述等离子体发生室与所述处理室共同形成封闭的管道，所述泵送件驱使等离子体在所述管道内循环流动。
2.如权利要求1所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述等离子体发生室具有第一进气口及第一出气口，所述处理室具有第二进气口及第二出气口，所述连接管包括连接于所述第二出气口及所述第一进气口之间的第一管路及连接于所述第一出气口及所述第二进气口之间的第二管路，所述质量流量控制器串接于所述第一管路上，所述泵送件串接于所述第二管路上。
3.如权利要求1所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述处理室内设置有用来放置所述待处理物和在处理过程中对所述待处理物进行翻转以提高处理效率的支架。
4.如权利要求1所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述封闭循环式等离子体消毒系统的气压在I千帕至20万帕之间。
5.如权利要求1所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述等离子体发生室包括放置于中间的至少一个等离子体电极以及为所述等离子体电极供电的高压等离子体电源。
6.如权利要求5所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述等离子体电极为同轴电极，所述等离子体电极包括同轴设置的外层的高压电极、中间的介质层及内层的栅网电极，所述高压电极与所述高压等离子体电源的高压输出端连接，所述栅网电极接地。
7.如权利要求5所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述等离子体电极为平板三层结构，所述等离子体电极包括高压电极、栅网电极及夹于所述高压电极与所述栅网电极之间的介质层，所述高压电极与所述高压等离子体电源的高压输出端连接，所述栅网电极接地。
8.如权利要求5所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述等离子体电极的结构为介质阻挡的沿面放电结构、介质阻挡的空间放电结构、直流电晕放电结构、直流辉光放电结构、直流电弧放电结构、微波辉光放电结构或射频辉光放电结构。
9.如权利要求6或7所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述介质层的厚度在0.02毫米至10毫米之间。
10.如权利要求1-8任一项所述的封闭循环式等离子体消毒系统，其特征在于:所述泵送件中流过的气流流速在I厘米每秒至10米每秒之间。
【专利摘要】本实用新型提供了一种封闭循环式等离子体消毒系统，其包括等离子体发生室、用于消毒待处理物的处理室及连接于所述等离子体发生室与所述处理室之间的连接管，所述等离子体发生室与所述处理室二者相互独立，所述连接管上串接有泵送件及质量流量控制器，所述连接管、所述等离子体发生室与所述处理室共同形成封闭的管道，所述泵送件驱使等离子体在所述管道内循环流动。采用等离子体发生室和处理目标分离，两个腔室通过连接管连接，整个系统构成一个封闭的循环，内部的气体流动通过泵送件抽动产生，等离子体在系统中循环放电消毒，可以在4分钟左右的时间内提高灭菌效率达到3个数量级，8分钟内达到5个数量级，并且不会有废气的排放和控制等问题。
【IPC分类】A61L2-14
【公开号】CN204542941
【申请号】CN201520126657
【发明人】李阳芳
【申请人】南京克普医疗科技有限公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年3月4日