一种自动电瓷加工的上釉装置的制作方法

本实用新型涉及电瓷产品的上釉领域，具体涉及一种自动电瓷加工的上釉装置。

背景技术：

目前，电瓷生产的劳动强度较大，工艺要求比较高，对产品的质量要求比较严格，不能存在任何的缺陷。因此对生产工艺的操作是相当高的，而电瓷的施釉工序一般采用人工施釉，手工浸釉生产效率低，而且由于在施釉过程中手指接触坯体，使得坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量，另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。

本实用新型诣在解决上述技术问题。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供的自动电瓷加工的上釉装置。

为解决上述技术问题，本实用新型提出的技术方案为：

一种自动电瓷加工的上釉装置，包括夹坯机构和设置在夹坯机构下方的上釉机架，所述上釉机架上设置有顶升板，所述顶升板下方设置有顶升气缸，所述顶升板上方设置有釉盆，所述上釉机架一侧设置有储釉盆，所述储釉盆与所述釉盆之间通过供釉管连接，所述釉盆外围还设置有余料回收框，所述余料回收框的出口设置在储釉盆正上方。

进一步地，所述储釉盆内设置有抽釉泵。

进一步地，所述夹坯机构包括方管架，所述方管架上穿设有至少一根导杆，所述导杆两侧设置有滑动侧板，所述滑动侧板相对两侧上设置有直线轴承，所述导杆两端分别插入对应一侧的直线轴承内，所述滑动侧板上还均连接有平移驱动件，所述滑动侧板相对的一侧均设置有多个顶杆，两所述滑动侧板的顶杆均一一对应设置，所述顶杆连接有自转驱动件。

进一步地，所述自转驱动件包括涡轮减速电机、传动杆、主动轮、与顶杆相互配合的从动同步轮，所述传动杆水平穿设于方管架以及两侧滑动侧板上，所述传动杆连接涡轮减速电机，且所述传动杆两侧均连接有主动轮，所述主动轮通过同步带连接对应一侧的其中一个从动同步轮，同一侧的从动同步轮之间通过同步带联动连接。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

本实用新型提供的自动电瓷加工的上釉装置，包括夹坯机构和设置在夹坯机构下方的上釉机架，上釉机架上方设有顶升板，可实现其上下升降，其顶升板上设有釉盆，上釉机架一侧设置有储釉盆，储釉盆与釉盆之间通过供釉管连接，釉盆外围还设置有余料回收框，储釉盆源源供给釉料至釉盆中，当釉盆中的釉料过多溢出可直接溢出至余料回收框，其余料回收框的出口端设置在储釉盆正上方，又可将余料直接倒入储釉盆中，从而实现了釉料的供给循环。

其作为自动电瓷加工线的一部分，实现了电瓷的自动上釉，简化了电瓷加工的生产流程，提高了其生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构图。

图2为本实用新型的侧视图。

图3本实用新型中夹坯机构的结构示意图。

具体实施方式

以下结合说明书附图和具体优选的实施例对本实用新型作进一步描述，但并不因此而限制本实用新型的保护范围。

结合图1-3所示的一种自动电瓷加工的上釉装置，包括夹坯机构2和设置在夹坯机构2下方的上釉机架50，上釉机架50上设置有顶升板51，顶升板51上方设置有釉盆52，上釉机架50一侧设置有储釉盆53，储釉盆53与釉盆52之间通过供釉管54连接，釉盆52外围还设置有余料回收框55，余料回收框55的出口设置在储釉盆53正上方。

其储釉盆52内设置有抽釉泵56。

其夹坯机构2包括方管架20，方管架20上平行穿设有两根导杆21，导杆21两侧设置有滑动侧板22，滑动侧板22相对两侧上设置有直线轴承23，其导杆21两端分别插入对应一侧的直线轴承23内，滑动侧板22上还均连接有平移驱动件，滑动侧板22相对的一侧均设置有四个顶杆24，且两滑动侧板22上的顶杆24一一对应设置。

顶杆24连接有自转驱动件，其具体结构包括涡轮减速电机25、传动杆26、主动轮27、与顶杆24相互配合的从动同步轮28，传动杆26水平穿设于方管架20以及两侧滑动侧板22上，涡轮减速电机25为中空输出轴，传动杆26穿过涡轮减速电机25的中空输出轴，传动杆26两侧均连接有主动轮27，主动轮27通过同步带29连接对应一侧的其中一个从动同步轮28，同一侧的从动同步轮28之间通过同步带29联动连接，传动杆26在涡轮减速电机25的带动下旋转并带动主动轮27进而通过同步带29的传送使得顶杆24能够旋转。

其平移驱动件为夹紧气缸200，其夹紧气缸200一端固定于方管架20上，另一端与对应的滑动侧板22连接，滑动侧板22在夹紧气缸200的带动下，其沿导杆21方向进行夹紧和松开动作。

上料工位时，夹坯机构2夹紧电瓷坯件，顶升板51带动釉盆52上升，使其夹坯机构2上的电瓷坯件与釉盆内的釉料接触，驱动顶杆24使得电瓷坯件旋转使得与电瓷坯件与釉料360°接触，从而达到充分上釉，其当釉盆52中的釉料过多溢出可直接溢出至余料回收框53，其余料回收框55的出口端设置在储釉盆53正上方，又可将余料直接倒入储釉盆53中，从而实现了釉料的供给循环。

上述只是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型作任何形式上的限制。虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均应落在本实用新型技术方案保护的范围内。