1.一种壳体的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
将陶瓷板置于热弯模具中,在1000℃~1200℃下进行预弯;及
升温至1300℃~1500℃,在1300℃~1500℃下对预弯后的所述陶瓷板进行热弯,得到壳体。
2.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,预弯的温度为1050℃~1150℃。
3.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,热弯的温度为1350℃~1450℃。
4.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,热弯后的所述陶瓷板的边缘的弯折角度在90°以下,且不为0。
5.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述在1300℃~1500℃下对预弯后的所述陶瓷板进行热弯的步骤包括:在1300℃~1500℃下对预弯后的所述陶瓷板施加热弯压力,以使预弯后的所述陶瓷板热弯,所述热弯压力为1n~100n。
6.根据权利要求5所述的壳体的制备方法,其特征在于,预弯后的所述陶瓷板的厚度为0.15mm~0.20mm,所述热弯压力为5n~20n,热弯后的所述陶瓷板的边缘的弯折角度在90°以下,且不为0;
或者,预弯后的所述陶瓷板的厚度为0.3mm~0.4mm,所述热弯压力为30n~50n,热弯后的所述陶瓷板的边缘的弯折角度在90°以下,且不为0;
或者,预弯后的所述陶瓷板的厚度为0.6mm~0.7mm,所述热弯压力为70n~90n,热弯后的所述陶瓷板的边缘的弯折角度在90°以下,且不为0。
7.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,热弯的时间为10min~60min。
8.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述升温至1300℃~1500℃的步骤中,升温的速率为5℃/min~20℃/min。
9.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述在1300℃~1500℃下对预弯后的所述陶瓷板进行热弯的步骤之后,还包括如下步骤:将热弯后的所述陶瓷板以5℃/min~20℃/min的速率降温至1000℃~1200℃,再随炉冷却。
10.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述在1300℃~1500℃下对预弯后的所述陶瓷板进行热弯的步骤之后,还包括对热弯后的所述陶瓷板进行精加工的步骤。
11.根据权利要求1所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述在1000℃~1200℃下进行预弯的步骤包括:在1000℃~1200℃下对所述陶瓷板施加预弯压力,以使所述陶瓷板预弯,所述预弯压力为1n~100n。
12.根据权利要求11所述的壳体的制备方法,其特征在于,预弯的时间为1h~3h。
13.根据权利要求1~12任一项所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述陶瓷板的致密度大于99.5%。
14.根据权利要求13所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述陶瓷板的材料为氧化锆陶瓷材料。
15.根据权利要求14所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述陶瓷板中,单斜相的氧化锆的质量百分含量小于25%。
16.根据权利要求14所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述陶瓷板中,氧化锆晶粒的平均直径小于600nm。
17.根据权利要求13所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述陶瓷板的厚度为0.15mm~0.8mm。
18.根据权利要求1~12任一项所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述壳体的厚度为0.1mm~0.65mm。
19.一种壳体,其特征在于,由权利要求1~18任一项所述的壳体的制备方法制备得到。
20.一种电子设备,其特征在于,包括:
权利要求19所述的壳体;
显示组件,与所述壳体连接,所述显示组件和所述壳体之间限定出安装空间;及
电路板,设置在所述安装空间内且与所述显示组件电连接。