技术总结
本实用新型为涉及一种微纳米臭氧气泡的足浴盆，包括：壳体、足浴池、循环管路、微纳米气泡生产装置；其中，足浴池设置所述壳体内，在所述足浴池上设有循环进水口、循环出水口和排水口；所述足浴池内设有按摩脚底穴位的按摩轮；循环管路分别与循环进水口和循环出水口相连接，在所述循环管路上设有调速水泵，以调节水流速度；微纳米气泡生产装置设置在所述循环管路上，所述微纳米气泡生产装置的进气口与臭氧发生装置相连通。有益效果是：臭氧溶解度高，通过臭氧能够清除足浴盆内滋生的细菌、真菌，能缓解脚气病的发生；通过按摩轮可以实现对穴位的刺激。
技术研发人员：沈蕾
受保护的技术使用者：上海奈菱机电科技有限公司
文档号码：201620990820
技术研发日：2016.08.30
技术公布日：2017.10.03