1.一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：该系统包括洗涤塔和乙二胺四乙酸钠配液罐；
所述洗涤塔用于将通过泄漏物料进料管线进入洗涤塔中的氯硅烷及高聚物进行处理，所述泄漏物料进料管线上设有进料阀门，所述洗涤塔内设有第一塔板和第一再沸器，所述洗涤塔上设有第一温度计，所述洗涤塔底部设有第一排废管线，所述第一排废管线上设有第一排废阀门；
所述乙二胺四乙酸钠配液罐用于配置清理氯硅烷及高聚物的乙二胺四乙酸钠液体，所述乙二胺四乙酸钠配液罐顶部设有乙二胺四乙酸钠进料管线，所述乙二胺四乙酸钠进料管线上设有乙二胺四乙酸钠进料阀门，所述乙二胺四乙酸钠配液罐的两侧分别设有第一进液管线和进水管线，所述进水管线上设有进水阀门，所述第一进液管线上设有第一进液阀门，所述第一进液管线与洗涤塔上方相连，所述第一进液阀门与洗涤塔之间设有洗涤塔液位指示器。
2.如权利要求1所述的一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：该系统还包括蒸馏塔；
所述蒸馏塔用于将洗涤塔处理过的氯硅烷及高聚物进行二次清理，所述蒸馏塔内设有第二塔板和第二再沸器，蒸馏塔上设有第二温度计，所述蒸馏塔的底部设有第二排废管线，所述第二排废管线上设有第二排废阀门，所述蒸馏塔与洗涤塔之间连接有第一气相出口管线，所述蒸馏塔与乙二胺四乙酸钠配液罐之间连接有第二进液管线，所述第二进液管线上设有第二进液阀门，所述第二进液阀门与蒸馏塔之间设有蒸馏塔液位指示器。
3.如权利要求2所述的一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：该系统还包括气体过滤器、冷凝罐和回流泵；
所述气体过滤器与蒸馏塔之间连接有第二气相出口管线，所述气体过滤器的一端设有排气管线，所述气体过滤器与冷凝罐之间连接有过滤管线，所述冷凝罐与回流泵之间连接有冷凝出口管线，所述回流泵与洗涤塔之间连接有回流出口管线。
4.如权利要求3所述的一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：所述冷凝罐内设有冷凝器。
5.如权利要求1所述的一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：所述第一进液阀门与洗涤塔液位指示器之间联锁控制。
6.如权利要求2所述的一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：所述第二进液阀门与蒸馏塔液位指示器之间联锁控制。
7.如权利要求1所述的一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：所述第一再沸器使用釜式再沸器。
8.如权利要求2所述的一种氯硅烷及高聚物泄露清理系统，其特征在于：所述第二再沸器使用卧式再沸器。