低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃的制作方法
【专利摘要】本发明是关于一种低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片，在玻璃基片表面从底层向上依次设置有第一氧化锡膜层、第二氧化锡膜层、铬膜层、银膜层、镍铬膜层及氮化硅膜层。本发明的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃具有辐射率低、遮阳系数低、透光率适中的特点。
【专利说明】低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种镀膜玻璃，特别是涉及一种含有六层膜结构的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002]低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃。低辐射镀膜中空玻璃是目前公认的节能效果最佳的建筑用玻璃。市场上流行的低辐射镀膜玻璃以追求低传热系数也就是u(k)值为目标，实际上对传热系数的追求，更充分的满足了高纬度地区节能需要。在阳光充沛、日照时间长得低纬度地区，遮阳系数Sc绝对是一个不容忽略的因素。
[0003]低遮阳型Low-E玻璃由于Low-E玻璃的隔热性、保温性的特点，使其不仅适用于南方地区，也适用于北方地区，夏季它可有效地阻挡太阳热能进入室内，并反射来自室外的远红外热辐射。虽然冬季它限制了部分太阳热能的进入，但夏季它将阻挡更多的太能热能进入室内，由于冬季的太阳能强度仅为夏季的1/3左右，因此其保温性能也并未受到影响。遮阳型Low-E玻璃所具有的多种反射颜色和适中的透光率，使其具有更加丰富的装饰效果和室外视线遮蔽效果。这一特点使它在国内获得了更加广泛的应用。
[0004]现在生产的低辐射镀膜玻璃遮阳系数较高，无法满足设计要求，研发低遮阳型低福射镀膜玻璃，可适应市场需求，扩大市场份额。
[0005]由此可见，上述现有的低辐射镀膜玻璃在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的低辐射镀膜玻璃，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于，克服现有的低辐射镀膜玻璃存在的缺陷，而提供一种含有六层膜结构的低辐射镀膜玻璃，其中金属铬形成的膜层可有效降低遮阳系数，该产品具有辐射率低、遮阳系数低、透光率适中的特点。
[0007]本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片，在玻璃基片表面从底层向上依次设置有第一氧化锡膜层、第二氧化锡膜层、铬膜层、银膜层、镍铬膜层及氮化硅膜层。
[0008]本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0009]前述的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃，其中所述第一氧化锡膜层的厚度为20-40纳米，第二氧化锡膜层的厚度为20-40纳米，铬膜层的厚度为6-8纳米，银膜层的厚度为9-12纳米，镍铬膜层的厚度为3-6纳米，氮化硅膜层的厚度为40-50纳米。[0010]借由上述技术方案，本发明至少具有下列优点及有益效果:本发明的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃具有辐射率低、遮阳系数低、透光率适中的特点。
[0011]上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]图1为本发明的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
[0013]1:玻璃基片
[0014]2:第一氧化锡膜层
[0015]3:第二氧化锡膜层
[0016]4:铬膜层
[0017]5:银膜层
[0018]6:镍铬膜层
[0019]7:氮化硅膜层
【具体实施方式】
[0020]为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃其【具体实施方式】、结构、特征及其功效，详细说明如后。
[0021]如图1所示，本发明的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃具有玻璃基片1，在玻璃基片I表面从底层向上依次镀制第一氧化锡膜层2、第二氧化锡膜层3、铬膜层4、银膜层5、镍铬膜层6及氮化硅膜层7，从而构成六层膜结构的单银低辐射镀膜玻璃。
[0022]在一实施例中，本发明是在高真空环境下，用磁控溅射镀膜机在浮法玻璃表面上镀制六层纳米材料膜的方法，生产一种具有低辐射率、低遮阳系数、自然光透视性适中、包含一个银层的低辐射镀膜玻璃。
[0023]在一实施例中，本发明所述的低遮阳型单银低辐射镀膜玻璃是在工厂镀膜机上按如下方法完成的:首先镀膜室抽真空至本底真空度5X10_4Pa以下，充入工艺气体(氩气、氮气、氧气)，使镀膜室内工艺气体压力稳定在2.SXKT1Pa左右，接通溅射电源，靶材开始溅射，玻璃经清洗机清洗合格后进入真空室，经过靶材时，靶材原子或其化合物就会沉积到玻璃表面。第一个靶靶材为金属锡，工艺气体为氧气，将氧化锡薄膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度为20-40纳米，形成第一氧化锡膜层；第二个靶靶材为金属锡，工艺气体为氧气，将氧化锡薄膜沉积到玻璃表面为第二层膜，厚度为20-40纳米，形成第二氧化锡膜层；第三个靶靶材为金属铬，工艺气体为氩气，将铬膜沉积到氧化锡表面为第三层膜，厚度为6-8纳米；第四个靶靶材为金属银，工艺气体为氩气，将银薄膜沉积到铬表面为第四层膜，厚度为9-12纳米；第五个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬薄膜沉积到银表面为第五层膜，厚度为3-6纳米；第六个靶靶材为金属硅，工艺气体为氮气，将氮化硅薄膜沉积到镍铬膜层表面为第六层膜，厚度为40-50纳米。
[0024]第四层银膜主要起降低玻璃辐射率的作用，第三层铬膜主要起降低可见光透过率、降低遮阳系数的作用。
[0025]以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
【权利要求】
1.一种低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于其具有玻璃基片，在玻璃基片表面从底层向上依次设置有第一氧化锡膜层、第二氧化锡膜层、铬膜层、银膜层、镍铬膜层及氮化硅膜层。
2.如权利要求1所述的低遮阳系数的单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述第一氧化锡膜层的厚度为20-40纳米，第二氧化锡膜层的厚度为20-40纳米，铬膜层的厚度为6-8纳米，银膜层的厚度为9-12纳米，镍铬膜层的厚度为3-6纳米，氮化硅膜层的厚度为40-50纳米。
【文档编号】B32B33/00GK103847169SQ201310392055
【公开日】2014年6月11日 申请日期:2013年9月2日 优先权日:2013年9月2日
【发明者】潘其真, 孟怡敏, 王红兵, 董明, 孙震 申请人:洛阳新晶润工程玻璃有限公司