一种高性能低辐射镀膜玻璃的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种高性能低辐射镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002]低辐射玻璃也称Low-E玻璃，Low-E是英文Low-Emissivity的简称。在建筑应用中，Low-E玻璃的使用可以达到“冬暖夏凉”的效果，具有优异的隔热、保温性能效果。低辐射玻璃是镀膜玻璃家庭中的一员，它的广泛应用是从20世纪90年代欧美发达国家开始的。此玻璃可减低室内外温差而引起的热传递。
[0003]随着国家对建筑节能的要求越来越高，降低镀膜玻璃的遮阳系数已是大势所趋，遮阳系数越小，阻挡阳光热量向室内辐射的性能越好。然而，市场上现有的低辐射镀膜玻璃遮阳系数过高，低辐射镀膜玻璃的透光率一般要求在40~70%之间，特别是透射和反射的颜色都呈偏蓝色系，室外反光率在20~30%之间，室内反光率在20%以下，同时要具有较低的膜层表面辐射率，以获得更好的隔热和保温性能。
[0004]如何在保证透光率的前提下，降低玻璃的遮阳系数是目前急需解决的问题。【实用新型内容】
[0005]为解决上述存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种高性能低辐射镀膜玻璃，降低遮阳系数，降低膜层表面辐射率，增强玻璃的隔热和保温性能，提高玻璃耐候性。
[0006]为达到上述目的，本实用新型的技术方案是:
[0007]一种高性能低辐射镀膜玻璃，包括:玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上的底层电介质膜层、第一阻挡层、银层、第二阻挡层以及顶层电介质膜层；所述底层电介质膜层包括由下至上设置的第一 Si3N4层、第一 ITO氧化铟锡层及第一氧化铬膜层；所述第一、第二阻挡层为Cu-N层或Cu-O层；所述顶层电介质膜层包括由下至上设置的第二氧化铬膜层、第二 ITO氧化铟锡层及第二 Si3N4层。
[0008]进一步，所述银层厚度为15~20nm。
[0009]另，所述底层电介质膜层厚度为40~50nm。
[0010]另有，所述第一、第二阻挡层厚度分别为10~15nm。
[0011]再，所述第一、第二阻挡层中，Cu-N层中N含量为l~5wt%。
[0012]再有，所述第一、第二阻挡层中，Cu-O层中O含量为l~5wt%。
[0013]且，所述顶层电介质膜层厚度为50~70nm。
[0014]本实用新型的有益效果在于:
[0015]将银层厚度提高到15~20nm，使遮阳系数与现有镀膜玻璃相比降低50%，保障均匀性；降低底层电介质膜层的厚度，提高顶层电介质膜层的厚度，以保持玻璃整体颜色呈中性或蓝灰色调。通过银层厚度的提高，膜层表面辐射率将显著下降，玻璃的隔热和保温性能将更好。
[0016]底层电介质膜层，可改善低辐射镀膜玻璃的理化性能，同时又是形成膜层透射和反射颜色的主要组成部分。底层电介质膜层厚度为40~50nm，可提升银层的附着力，进而提升整个膜层的机械强度。
[0017]阻挡层通过在溅射中向Cu层中添加可控的微量的氮或氧，调节Cu层对光的吸收与折射，从而改变其光性能。
[0018]顶层电介质膜层，直接影响膜层的牢度，提升对银层的保护能力，从而提升整个膜层的耐候性(即服役性)。
【附图说明】
[0019]图1为本实用新型实施例所提供的一种高性能低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
【具体实施方式】
[0020]参见图1，本实用新型所述的高性能低辐射镀膜玻璃，包括:玻璃基片I以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片I上的底层电介质膜层2、第一阻挡层3、银层4、第二阻挡层5以及顶层电介质膜层6 ;所述底层电介质膜层2包括由下至上设置的第一 Si3N4层21、第一 ITO氧化铟锡层22及第一氧化铬膜层23 ;所述第一、第二阻挡层3、5为Cu-N层或Cu-O层；所述顶层电介质膜层6包括由下至上设置的第二氧化铬膜层61、第二 ITO氧化铟锡层62 及第二 Si3N4层 63。
[0021]进一步，所述银层4厚度为15~20nm。
[0022]另，所述底层电介质膜层厚度为40~50nm。
[0023]另有，所述第一、第二阻挡层3、5厚度分别为10~15nm。
[0024]再，所述第一、第二阻挡层3、5中，Cu-N层中N含量为l~5wt%。
[0025]再有，所述第一、第二阻挡层3、5中，Cu-O层中O含量为l~5wt%。
[0026]且，所述顶层电介质膜层厚度6为50~70nm。
[0027]其中，所述第一、第二阻挡层3、5采用磁控溅射法在Cu层中添加l~5wt%的氮或氧形成。
[0028]所述高性能低辐射镀膜玻璃的制造工艺如下:
[0029]玻璃一表面清洗一设定镀膜参数一镀膜一检验相关指标(均匀性、辐射率、膜层牢度)。
[0030]本实用新型所提供的一种高性能低辐射镀膜玻璃，将银层厚度提高到15~20nm，使遮阳系数与现有镀膜玻璃相比降低50% ;降低底层电介质膜层的厚度，提高顶层电介质膜层的厚度，以保持玻璃整体颜色呈中性或蓝灰色调。通过银层厚度的提高，膜层表面辐射率将显著下降，玻璃的隔热和保温性能将更好。
[0031]底层电介质膜层，可改善低辐射镀膜玻璃的理化性能，同时又是形成膜层透射和反射颜色的主要组成部分。底层电介质膜层厚度为40~50nm，可提升银层的附着力，进而提升整个膜层的机械强度。
[0032]阻挡层通过在溅射中向Cu层中添加可控的微量的氮或氧，调节Cu层对光的吸收与折射，从而改变其光性能。
[0033]顶层电介质膜层，直接影响膜层的牢度，提升对银层的保护能力，从而提升整个膜层的耐候性(即服役性)。
[0034]需要说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制。尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围中。
【主权项】
1.一种高性能低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括: 玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上的底层电介质膜层、第一阻挡层、银层、第二阻挡层以及顶层电介质膜层； 所述底层电介质膜层包括由下至上设置的第一 Si3N4层、第一 ITO氧化铟锡层及第一氧化铬膜层； 所述第一、第二阻挡层为Cu-N层或Cu-O层； 所述顶层电介质膜层包括由下至上设置的第二氧化铬膜层、第二 ITO氧化铟锡层及第二 Si3NJl。2.根据权利要求1所述的高性能低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述银层厚度为15?20nmo3.根据权利要求1所述的高性能低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述底层电介质膜层厚度为40~50nmo4.根据权利要求1所述的高性能低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一、第二阻挡层厚度分别为10~15nmo5.根据权利要求1所述的高性能低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述顶层电介质膜层厚度为50~70nmo
【专利摘要】本实用新型提供一种高性能低辐射镀膜玻璃，包括：玻璃基片以及由下至上层叠设置于所述玻璃基片上的底层电介质膜层、第一阻挡层、银层、第二阻挡层以及顶层电介质膜层；所述底层电介质膜层包括由下至上设置的第一Si3N4层、第一ITO氧化铟锡层及第一氧化铬膜层；所述第一、第二阻挡层为Cu-N层或Cu-O层；所述顶层电介质膜层包括由下至上设置的第二氧化铬膜层、第二ITO氧化铟锡层及第二Si3N4层。所述玻璃可有效降低遮阳系数，降低膜层表面辐射率，增强玻璃的隔热和保温性能，提高玻璃耐候性。
【IPC分类】C03C17/36
【公开号】CN204689889
【申请号】CN201520396968
【发明人】顾黎明, 徐峰
【申请人】太仓耀华玻璃有限公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年6月11日