一种显示触控面板用高透硬化膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种显示触控面板用高透硬化膜，该高透硬化膜包括基膜、光学匹配硬化层、抗粘连硬化层；基膜具有电晕处理或者底涂处理的第一表面、电晕处理或者底涂处理的第二表面；光学匹配硬化层涂覆于基膜的第一表面，抗粘连硬化层涂覆于基膜的第二表面。本实用新型中，通过涂覆抗粘连硬化层和光学匹配硬化层，有效地提高了透明硬化膜的硬度，解决了硬度不足的问题。同时，由于涂覆多层硬化层，有效地防止薄膜中的助剂、小分子表面迁移，影响到透明硬化膜的雾度，提高了透明硬化膜的清晰度。本实用新型应用光学设计中减反增透原理，通过各层硬化层折射率的变换，以及控制硬化层的厚度，从而达到减少光的反射，提高光的透过效果，进而改善并提高透明硬化膜的透光率、最大限度降低彩虹纹现象。
【专利说明】一种显示触控面板用高透硬化膜
【技术领域】
[0001]本实用新型属于显示屏【技术领域】，涉及一种显示触控面板用高透硬化膜。
【背景技术】
[0002]随着显示屏幕走向轻薄化的趋势，许多显示屏幕逐渐使用塑料薄膜作为屏内应用产品，尤其在触控面板上的应用最为明显。但是塑料薄膜表面硬度低，在加工、运输、组装过程中，塑料薄膜表面容易造成不同程度的磨损，考虑到塑料薄膜的表面硬度低与耐刮性差的问题，需对塑料薄膜表面进行表面硬化处理做成硬化膜，以便有更好的保护作用。
[0003]显示清晰度技术不断的更新迭代，从较低分辨率开始发展到480P，然后到720P分辨率，再到1080P分辨率，现在甚至已经提升到4K、8K分辨率。这项技术的发展，导致显示屏需要透明硬化膜具有高透低雾以及高清晰度与低彩虹纹来体现出显示屏幕的质量与效果。
[0004]现有屏内用塑料薄膜存在硬度不足、透光率较低、影像清晰度不足等缺点。
[0005]造成这些缺点的原因有两个，第一是塑料薄膜的类型，由于塑料薄膜晶体几何外形、相对分子质量、聚酯切片质量参差不齐等因素，影响其硬度不高、光学性能欠佳。第二是硬化层与塑料薄膜匹配性较差，目前透明硬化膜主要对聚酯薄膜进行表面硬化，由于硬化液浊度偏高与折射率偏低、硬化膜结构单一，光学设计不合理，导致透明硬化膜的透光率不高、彩虹纹现象明显、清晰度偏低。
【发明内容】
[0006]针对现有技术的缺点，本实用新型的目的是提供一种高透硬化膜，其硬度高、清晰度好、透光率高。
[0007]为了实现上述目的，本实用新型提供了一种高透硬化膜，该高透硬化膜包括基膜、光学匹配硬化层、抗粘连硬化层，
[0008]基膜具有电晕处理或者底涂处理的第一表面、电晕处理或者底涂处理的第二表面；
[0009]光学匹配硬化层涂覆于基膜的第一表面，抗粘连硬化层涂覆于基膜的第二表面。
[0010]本实用新型中，通过涂覆抗粘连硬化层和光学匹配硬化层，有效地提高了透明硬化膜的硬度，解决了硬度不足的问题。同时，由于涂覆多层硬化层，有效地防止薄膜中的助齐U、小分子表面迁移，影响到透明硬化膜的雾度，提高了透明硬化膜的清晰度。
[0011]本实用新型应用光学设计中减反增透原理，通过各层硬化层折射率的变换，以及控制硬化层的厚度，从而达到减少光的反射，提高光的透过效果，进而改善并提高透明硬化膜的透光率、最大限度降低彩虹纹现象。
[0012]根据本实用新型另一【具体实施方式】，基膜为PET基膜或者TAC基膜，其厚度为30 μ m-188 μ m。
[0013]根据本实用新型另一【具体实施方式】，光学匹配硬化层包括折射率为1.52-1.75的高折硬化层、以及折射率为1.38-1.48的低折硬化层。[0014]根据本实用新型另一【具体实施方式】，高折硬化层的厚度为0.5 μ m-3 μ m，低折硬化层的厚度为100nm-3ym。
[0015]根据本实用新型另一【具体实施方式】，抗粘连硬化层为折射率为1.46-1.53的层状，其厚度为3 μ m-5 μ m。
[0016]根据本实用新型另一【具体实施方式】，基膜的第一表面和/或第二表面涂敷有折射率为1.46-1.53的底涂层，底涂层的厚度为4011111-111111。通过涂敷底涂层，可提高硬化层与基膜尤其是PET基膜的附着力、降低彩虹现象。
[0017]根据本实用新型另一【具体实施方式】，基膜的第一表面和第二表面均涂敷有底涂层，两个底涂层的厚度相同或者不同，两个底涂层的折射率相同或者不同。
[0018]根据本实用新型另一【具体实施方式】，抗粘连硬化层和低折硬化层为硬度2H-3H的层状。
[0019]与现有技术相比，本实用新型具备如下有益效果:
[0020]本实用新型中，通过涂覆抗粘连硬化层和光学匹配硬化层，有效地提高了透明硬化膜的硬度，解决了硬度不足的问题。同时，由于涂覆多层硬化层，有效地防止薄膜中的助齐U、小分子表面迁移，影响到透明硬化膜的雾度，提高了透明硬化膜的清晰度。本实用新型应用光学设计中减反增透原理，通过各层硬化层折射率的变换，以及控制硬化层的厚度，从而达到减少光的反射，提高光的透过效果，进而改善并提高透明硬化膜的透光率、最大限度降低彩虹纹现象。
[0021]下面结合附图对本实用新型作进一步的详细说明。
【专利附图】
【附图说明】
[0022]图1是实施例1的高透硬化膜的结构示意图；
[0023]图2是实施例2的高透硬化膜的结构示意图；
[0024]图3是实施例3的高透硬化膜的结构示意图；
[0025]图4是实施例4的高透硬化膜的结构示意图。
【具体实施方式】
[0026]实施例1
[0027]如图1所示，本实施例的高透硬化膜包括基膜11、光学匹配硬化层12、抗粘连硬化层13。光学匹配硬化层12包括高折硬化层121和低折硬化层122。
[0028]其中，基膜11选用PET基材，基膜11具有第一表面111和第二表面112，在第一表面111和第二表面112进行电晕处理。
[0029]电晕处理后在第一表面111涂覆厚度为1.5 μ m、折射率为1.65的高折硬化层121，在高折硬化层121表面涂覆厚度为3 μ m、折射率为1.45、硬度为3H的低折硬化层122。
[0030]在电晕处理后的第二表面112涂覆厚度为4.5 μ m、折射率为1.52、硬度为3H的抗粘连硬化层13。
[0031]实施例2
[0032]如图2所示，本实施例的高透硬化膜包括基膜21、光学匹配硬化层22、抗粘连硬化层23。光学匹配硬化层22包括高折硬化层221和低折硬化层222。[0033]其中，基膜21选用TAC基材，基膜21具有第一表面211和第二表面212。在第一表面211进行电晕处理，电晕处理后在第一表面211上涂覆厚度为1.5 μ m、折射率为1.60的高折硬化层221，在2层表面涂覆厚度为3.5 μ m、折射率为1.43、硬度为3H的低折硬化层222。
[0034]在第二表面212进行底涂处理，涂覆厚度为200nm、折射率为1.48的底涂层24。在底涂层24的表面涂覆厚度为4.5 μ m、折射率为1.48、硬度为3H的抗粘连硬化层23。
[0035]实施例3
[0036]如图3所示，本实施例的高透硬化膜包括基膜31、光学匹配硬化层32、抗粘连硬化层33。光学匹配硬化层32包括高折硬化层321和低折硬化层322。
[0037]其中，基膜31选用PET基材，基膜31具有第一表面311和第二表面312，在第一表面311进行底涂处理，第二表面312进行电晕处理。
[0038]在第一表面311进行底涂处理，涂覆厚度为150nm、折射率为1.52的底涂层34，在底涂层34表面涂覆厚度为2 μ m、折射率为1.65的高折硬化层321，在高折硬化层321表面涂覆厚度为2 μ m、折射率为1.45、硬度为2H的低折硬化层322。
[0039]在电晕处理后的第二表面312涂覆厚度为4 μ m、折射率为1.52、硬度为3H的抗粘连硬化层33。
[0040]实施例4
[0041]如图4所示，本实施例的高透硬化膜包括基膜41、光学匹配硬化层42、抗粘连硬化层43。光学匹配硬化层42包括高折硬化层421和低折硬化层422。
[0042]其中，基膜41选用PET基材，基膜41具有第一表面411和第二表面412，在第一表面411和第二表面412均进行底涂处理。
[0043]在第一表面411进行底涂处理，涂覆厚度为300nm、折射率为1.52的底涂层441，在底涂层441表面涂覆厚度为1.5 μ m、折射率为1.65的高折硬化层421，在高折硬化层421表面涂覆厚度为3.5 μ m、折射率为1.45、硬度为3H的低折硬化层422。
[0044]在第二表面412进行底涂处理，涂覆厚度为300nm、折射率为1.52的底涂层442，在底涂层442的表面涂覆厚度为4 μ m、折射率为1.52、硬度为3H的抗粘连硬化层43。
[0045]虽然本实用新型以较佳实施例揭露如上，但并非用以限定本实用新型实施的范围。任何本领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的发明范围内，当可作些许的改进，即凡是依照本实用新型所做的同等改进，应为本实用新型的范围所涵盖。
【权利要求】
1.一种显示触控面板用高透硬化膜，其特征在于，所述高透硬化膜包括基膜、光学匹配硬化层、抗粘连硬化层； 所述基膜具有电晕处理或者底涂处理的第一表面、电晕处理或者底涂处理的第二表面； 所述光学匹配硬化层涂覆于所述基膜的第一表面，所述抗粘连硬化层涂覆于所述基膜的第二表面。
2.如权利要求1所述的高透硬化膜，其特征在于，所述基膜为PET基膜或者TAC基膜，其厚度为 30μπι-188μπι。
3.如权利要求1所述的高透硬化膜，其特征在于，所述光学匹配硬化层包括折射率为1.52-1.75的高折硬化层、以及折射率为1.38-1.48的低折硬化层。
4.如权利要求3所述的高透硬化膜，其特征在于，所述高折硬化层的厚度为0.5 μ m-3 μ m,所述低折硬化层的厚度为lOOnm-3 μ m。
5.如权利要求1所述的高透硬化膜，其特征在于，所述抗粘连硬化层为折射率为1.46-1.53的层状，其厚度为3 μ m-5 μ m。
6.如权利要求1所述的高透硬化膜，其特征在于，所述基膜的第一表面和/或第二表面涂敷有折射率为1.46-1.53的底涂层，所述底涂层的厚度为40nm-l μ m。
7.如权利要求1所述的高透硬化膜，其特征在于，所述基膜的第一表面和第二表面均涂敷有底涂层，两个所述底涂层的厚度相同或者不同。
8.如权利要求3所述的高透硬化膜，其特征在于，所述抗粘连硬化层和所述低折硬化层为硬度2H-3H的层状。
【文档编号】B32B33/00GK203805433SQ201420099385
【公开日】2014年9月3日 申请日期:2014年3月5日 优先权日:2014年3月5日
【发明者】周锰, 招润华, 李宏 申请人:佛山佛塑科技集团股份有限公司