一种瓦楞纸箱压痕装置的制作方法

文档序号:12754465阅读:499来源:国知局

本实用新型涉及瓦楞纸箱领域,尤其涉及一种瓦楞纸箱压痕装置。



背景技术:

瓦楞纸箱是用瓦楞纸板经过模切、压痕、钉箱或粘箱制成的刚性纸质容器,用量一直是各种包装制品之首。瓦楞纸箱除了保护商品、便于仓储、运输之外,还起到美化商品,宣传商品的作用。瓦楞纸箱的压痕处理需运用到压痕装置,传统的压痕装置工作效率低下,且压痕深度可调节性差,而不同厚度的纸板压痕深度不同,在处理不同厚度的纸板时,就需要操作人员人工测量并对压痕轮进行高度调节,加重了操作人员的工作负担,并拖延了生产周期。



技术实现要素:

基于背景技术存在的技术问题,本实用新型提出了一种瓦楞纸箱压痕装置,以解决上述技术问题。

本实用新型提出的一种瓦楞纸箱压痕装置,包括:工作台、机架、气缸、支撑盘、螺杆、电机、滑块、激光测距仪、压痕组件和控制器;工作台沿其长度方向设有滑槽,机架一端位于所述滑槽内,并由驱动装置驱动沿滑槽运动,气缸设置在机架顶端,气缸活塞杆驱动连接支撑盘,并可驱动支撑盘上下运动,支撑盘内设底部敞口的空腔,螺杆转动连接在所述空腔内,并由电机驱动转动,螺杆长度方向与工作台宽度方向一致,滑块配合地设置在螺杆外周,滑块上设有激光测距仪和压痕组件,压痕组件包括支架和压痕轮,支架设置在滑块上,压痕轮转动连接在支架上,其周向设有环形凸起,控制器通讯连接驱动装置、气缸、电机和激光测距仪,并可控制驱动装置、气缸、电机工作。

优选地,工作台上设有分别位于其两侧的导向件,导向件之间的距离与瓦楞纸板宽度值一致。

优选地,气缸设置有两组,并分别位于机架两侧。

优选地,压痕轮通过转轴转动连接在支架内,所述转轴与支架连接处设有轴承。

本实用新型提出的一种瓦楞纸箱压痕装置,将需要压痕的纸箱放置在工作台的上,激光测距仪采集纸箱的纸箱的尺寸信息,并将其发生给控制器,控制器根据激光测距仪的采集信息,确定好纸箱规格后,控制气缸驱动带动压痕轮下行到预定深度,并控制驱动装置驱动带动机架沿工作台长度方向运动,在运动过程中,压痕轮对纸箱施加持续的作用力,在相互接触过程中,实现了对纸箱的压痕处理。当需要对纸箱进行多条压痕处理时,气缸驱动带动压痕轮上行,电机驱动带动压痕轮沿工作台宽度方向运动预定位置后,重复上述压痕操作,即可实现对纸箱的多条压痕处理。本实用新型提出的瓦楞纸箱压痕装置,对不同规格的纸板可实现压痕深度的自动调节,其压痕质量好,工作效率高。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种瓦楞纸箱压痕装置的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示,图1为本实用新型提出的一种瓦楞纸箱压痕装置的结构示意图。

参照图1,本实用新型提出的一种瓦楞纸箱压痕装置,包括:工作台1、机架2、气缸3、支撑盘4、螺杆5、电机6、滑块7、激光测距仪8、压痕组件和控制器11;工作台1沿其长度方向设有滑槽,机架2一端位于所述滑槽内,并由驱动装置驱动沿滑槽运动,气缸3设置在机架2顶端,气缸3活塞杆驱动连接支撑盘4,并可驱动支撑盘4上下运动,支撑盘4内设底部敞口的空腔,螺杆5转动连接在所述空腔内,并由电机6驱动转动,螺杆5长度方向与工作台1宽度方向一致,滑块7配合地设置在螺杆5外周,滑块7上设有激光测距仪8和压痕组件,压痕组件包括支架9和压痕轮1,支架9设置在滑块7上,压痕轮1转动连接在支架9上,其周向设有环形凸起,控制器11通讯连接驱动装置、气缸3、电机6和激光测距仪8,并可控制驱动装置、气缸3、电机6工作。

本方案原理如下:将需要压痕的纸箱放置在工作台1的上,激光测距仪6采集纸箱的纸箱的尺寸信息,并将其发生给控制器11,控制器11根据激光测距仪6的采集信息,确定好纸箱规格后,控制气缸3驱动带动压痕轮10下行到预定深度,并控制驱动装置驱动带动机架2沿工作台1长度方向运动,在运动过程中,压痕轮10对纸箱施加持续的作用力,在相互接触过程中,实现了对纸箱的压痕处理。当需要对纸箱进行多条压痕处理时,气缸3驱动带动压痕轮10上行,电机6驱动带动压痕轮沿工作台1宽度方向运动预定位置后,重复上述压痕操作,即可实现对纸箱的多条压痕处理。

本方案中的工作台1上设有分别位于其两侧的导向件12,导向件12之间的距离与瓦楞纸板宽度值一致,可对瓦楞纸箱进行导向。

气缸3设置有两组,并分别位于机架2两侧,压痕轮10的运行更加平稳,压痕过程中不易发生晃动,保证了压痕宽度均一。

压痕轮10通过转轴转动连接在支架9内,转轴与支架9连接处设有轴承,压痕轮10的运行更加平稳,压痕过程中不易发生晃动,保证了压痕宽度均一。

本实用新型提出的瓦楞纸箱压痕装置,对不同规格的纸板可实现压痕深度的自动调节,其压痕质量好,工作效率高。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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