专利名称：图像曝光设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种图像曝光设备，特别是涉及一种图像曝光设备，其中，卤化银光敏材料被曝光于由多个阵列光源中的每一个所发射的并且具有不同波长的光图像。
背景技术：
到目前为止，已经提出的一种图像曝光设备中，为每种记录颜色提供了一种具有多个发光器件的阵列光源，卤化银光敏材料例如相纸被曝光于光图像，并且这种图像曝光设备已经在实际中使用。近年来，已经提出一种图像曝光设备，其中，从阵列光源为每种记录颜色所发射的光被混合而形成一种线形光通量，并且这种线形光通量通过一种聚光装置被聚集在光敏材料上使曝光得以进行(例如，见专利文献1)。作为聚光装置，使用一种自聚焦透镜阵列代表一种线形的尺寸相同的直立图像形成透镜，它由多个安排成单独一排或多排的自聚焦透镜构成。
当使用这种图像曝光设备进行曝光时，需要通过适合的曝光量来建立形成在光敏材料上的一个像素的尺寸。这是因为当像素尺寸太小时会导致很大的像素间距，在有些时候难于获得高密度从而导致图像缺少锐度，当像素尺寸太大时会导致明显的像素重叠，在另一方面，线图像有时会变粗或图像缺少清晰度，从而导致图像质量的下降。
为了给像素尺寸建立一个适合的值以防止图像质量的下降，这就需要为阵列光源的发光器件的尺寸建立一个适合的值。作为阵列光源发光器件的尺寸，最好它与排成一直线的发光器件圆心之间的距离接近。可是，以空间来讲，很难将发光器件排成一直线，因为需要有控制每一发光器件的电线，需要有精确和特定的结构，这导致了制造上的困难以及不理想的产量。因此多个发光器件被安排成多排，并且相邻排中的一排在纵向上被移位呈交错形，从而解决了上述各种问题，可以很容易地建立发光器件的尺寸，从而防止了图像质量的下降。
顺便提及，因为从阵列光源发出的光会发生扩散，所以优选地使得从阵列光源到聚光装置之间的距离尽可能的短。因此，元件的布局非常地受限，包括需要将光混合元件容纳在阵列光源和聚光装置之间的一个小空间中，并且要求混合元件具备紧凑、精确以及特定的结构。另外，因为上述在元件布局上的限制，阵列光源也需要有特定的结构(例如，使用高强度特定材料的薄类型结构)。还有，在与其它元件配合的情况下，需要小公差的精确操作，这导致了制造成本的上升。
为了控制由于元件布局上的限制所导致的制造成本的上升，近年来采用大孔径的透镜用作聚光器件(例如排成多排的自聚焦透镜阵列)。即，当使用一个大孔径的透镜时，有可能使得从阵列光源到透镜之间的距离较长，因此对元件布局的限制较少，从而制造成本的增长可以被控制。
(专利文献)特开第2000-6469(第2页，图9)(本发明所要解决的技术问题)在所述的图像曝光设备中，使用了如上所述的具有多排发光器件的阵列光源和一个大孔径的透镜，防止了图像质量的下降并控制了制造成本。但是，这种图像曝光设备存在着下列问题。
也就是，当使用大孔径的透镜时，每个透镜的特性不同导致了在曝光位置的离散。特别是，当使用多排自聚焦透镜阵列时，每个自聚焦透镜阵特性的不同以及组装误差都可能造成曝光位置的离散。众所周知，自聚焦透镜越长，越容易导致图像形成位置的离散。
另外，当使用一个具有多排发光器件的阵列光源时，各发光器件排的曝光点组合而形成一排曝光线，所以，如果产生了曝光位置的离散，在图像上容易形成“条纹”。
例如，在使用交错布局阵列光源的情况下(见图6a)，其中奇数排的曝光位置是错开的，这样奇数排中的每一个可以被放置在偶数排之间。当奇数排的曝光位置和偶数排的曝光位置偏离时，两个像素重叠部分100和非曝光部分200交替形成，如图6b所示，这些两个像素重叠部分100的扫描线经由副扫描例如光敏材料的运送和阵列光源的运动，形成了有规律间距的“条纹”。这些“条纹”的密度大约是阵列光源写入密度的一半，并且，“条纹”经由卤化银光敏材料的特殊特性被加强，因此，条纹可被人的肉眼分辩出来，从而导致了图像质量的下降。
尽管上述提及的“条纹”是由于曝光位置离散造成的，起源于使用具有多排发光器件的阵列光源以及大孔径的透镜，并且是由卤化银光敏材料的特性导致的，可是制造和选择具有各透镜特性差异小的透镜和减少组装误差会带来成本的增加。进一步，改善卤化银光敏材料的特性是非常困难的，因为需要从细节上搞清楚光敏机理才能开始进行。
发明内容
本发明的目的是通过防止由曝光位置离散而形成的“条纹”的出现，防止图像质量的下降。这种离散起源于使用具有多排发光器件的阵列光源和大孔径透镜以及卤化银光敏材料的特性。
上述目的可以由下列结构而解决。
(结构1)一种图像曝光设备，包括阵列光源，其中排列有多排发光器件，多个发光器件被排成一条线的形式，并且邻近发光器件排在纵向上被移开形成交错状；以及一个聚光器件，将发射的光会聚在卤化银光敏材料上，其中呈交错形的阵列光源的发光器件排的间距被设置成在500微米之内。
(结构2)一种图像曝光设备，包括阵列光源组，其中排列有多排发光器件，多个发光器件被排成一条线的形式，邻近发光器件排中的一个在纵向上被错开而形成交错状；混光装置(器件)，混合从阵列光源组发出的光并以一条线的形式形成发射光；聚光装置(器件)，将由光混合装置形成的发射光会聚在卤化银光敏材料上，其中，呈交错形的阵列光源的发光器件排的间距被设置成在500微米之内。
在结构1和2中，可能停止从阵列光源组发出光的曝光位置离散所形成的“条纹”现象的发生，因为呈交错形的阵列光源的发光器件排的间距被设置在一定的范围内(在500微米以内)。于是，防止了图像质量的下降。
(结构3)
根据结构1或2的图像曝光设备，其中，聚光装置(器件)是自聚焦透镜阵列，其中布置有多排自聚焦器件(元件)。
在结构3中，因为使用每个透镜具有大孔径的多排自聚焦透镜阵列作为聚光器件，所以可以使得从阵列光源组至聚光器件之间的距离可以较长并且对元件布置的限制较小。其结果是，可以控制制造成本的增加。
(结构4)根据结构1至3中任何一个图像曝光设备，其中阵列光源的写入密度被设定在210dpi或更多。
在结构4中，因为阵列光源组的写入密度被设置在210dpi或更高，所以可能防止扫描线的出现。也就是说，当用于阵列光源组的写入密度少于210dpi时，扫描线会变得明显，因此即使在“条纹”现象尚未形成时，图像的质量也会降低。可是，通过将阵列光源组的写入密度设置在210dpi或更高就可以使扫描线不会变得明显。因此，可以防止图像质量的下降。
(结构5)根据结构1至4中任何一个图像曝光设备，其中阵列光源的写入密度被设定在440dpi或更少。
通常，当写入密度是440dpi或更少时，条纹会变得明显。可是通过结合结构1至4中任何一个的限制，可以使条纹现象变得不明显。
图1是本发明第一实施例的图像曝光设备中阵列光源附近结构的示意性透视图；图2是图1所示图像曝光设备整体结构的示意性侧视图(阵列光源附近的结构除外)；图3是图1所示图像曝光设备中阵列光源的发光器件的布局示意图；图4是图1所示图像曝光设备电气构造的方块图；图5a和图5b的每一个都是本发明第二实施例的图像曝光设备中阵列光源的发光器件的布局示意图；图6a和图6b的每一个都是当使用传统曝光设备时条纹现象形成过程的示意图。
具体实施例方式
本发明的一个实施例将通过附图进行详细解释。在本实施例中，将对一个曝光设备进行解释，其中所述的曝光是指对卤化银光敏材料(一种相纸)的曝光。
(第一实施例)首先，参考图1至图4对第一实施例的曝光设备的整体结构进行解释。
图1是本实施例的图像曝光设备中阵列光源附近的结构示意性透视图，而图2是图1所示图像曝光设备整体结构的示意性侧视图(阵列光源附近的结构除外)。图3是图1所示图像曝光设备中阵列光源的发光器件的布局示意图。图4是图1所示图像曝光设备电气构造的方块图。
如图1和图2所示，本实施例中的图像曝光设备设有纸盒11，在其上代表卤化银光敏材料的相纸10盘绕成卷状并且被保持；驱动辊12a、12b、12c和12d，以设定的传送速度传送相纸10；切纸刀13，以设定的尺寸切割已曝光的相纸。
如图1所示，本实施例的图像曝光设备设有第一阵列光源21，由阵列形式的发光器件组成，用第一光(红光)进行曝光；第二阵列光源22，由阵列形式的发光器件组成，用第二光(绿光)进行曝光；第三阵列光源23，由阵列形式的发光器件组成，用第三光(蓝光)进行曝光。这些第一阵列光源21至第三阵列光源23是本发明中的阵列光源组的一个例子。
第一阵列光源21由一个代表以阵列形式排列的发光器件的真空荧光印制头(真空荧光印制头下面简称为VFPH)以及一个可将从VFPH发射的光转化成红光的红色光滤光器所组成。如图3中所示，第一阵列光源21具有一个交错布局，其中由尺寸为85微米乘85微米的发光器件所组成的两排发光器件按设定间距d布置。也就是，如果按图3所示给发光器件编号，则每个奇数排包括一组每个发光器件都为奇数的发光器件，每个偶数排包括一组每个发光器件都为偶数的发光器件，奇数排发光器件在纵向上与偶数排发光器件交错地布置。顺便提及，在每个奇数排和偶数排中的相邻发光器件中心之间的距离被设定成85微米。
进一步，第二阵列光源22由VFPH和绿光滤光器所组成，而第三阵列光源23由VFPH和蓝光滤光器所组成。这些第二阵列光源22和第三阵列光源23都具有交错布局，其中由尺寸为85微米乘85微米的发光器件所组成的两排发光器件按设定间距d布置，与第一阵列光源21中的一样。
如图1和图2所示，涉及本实施例的图像曝光设备设有二向色棱镜30(混光装置)，对于每种记录颜色，混合发射于阵列光源的光通量，使具有不同颜色的各光通量通过一个相同的通道显现出来。二向色棱镜30设有长的三角棱镜形状的第一透明元件31，长的五边棱镜形状的第二透明元件32，以及长的方形(quadratic)棱镜形状的第三透明元件33，各透明棱镜的长的侧表面彼此之间接合在一起。
在二向色棱镜30的第一透明元件31和第二透明元件32之间的接合表面上以及在第二透明元件32和第三透明元件33之间的接合表面上，分别提供有一个第一光选择薄膜和一个第二光选择薄膜(未示出)，每一个光选择薄膜都可以根据波长有选择地透射或反射光。第一光选择薄膜可以透射第一光(红光)、反射第三光(蓝光)，而第二光选择薄膜可以透射第一光(红光)和第三光(蓝光)、反射第二光(绿光)。
如图1和图2所示，涉及本实施例的图像曝光设备具有自聚焦透镜阵列40(聚光装置)。自聚焦透镜阵列40将具有由二向色棱镜30混合的各记录颜色的光通量会聚在光敏材料上，用于曝光。在本实施例中，所使用的自聚焦透镜阵列40是4排或6排。
如图4所示，涉及本实施例的图像曝光设备包括中央处理器50，作为控制各个部分的控制装置；头驱动器控制电路(HDC电路)60，从外部接收图像数据并产生图像信号来驱动每种颜色的阵列光源；头驱动器电路(HD电路)71，接收来自于HDC电路31的第一光(红色)图像信号并产生光发射信号，用于使第一阵列光源21的发光器件按灰度发光；头驱动器电路(HD电路)72，接收来自于HDC电路32的第二光(绿色)图像信号并产生光发射信号，用于使第二阵列光源22的发光器件按灰度发光；头驱动器电路(HD电路)73，接收来自于HDC电路33的第三光(蓝色)图像信号并产生光发射信号，用于使第三阵列光源23的发光器件按灰度发光；以及相纸传输机构80，具有驱动马达和驱动辊12a、12b、12c和12d。
现在，对本实施例的曝光设备的操作进行解释。首先，中央处理器50通过相纸传输机构80以预定的速度供纸10。然后，来自于外部相机和图像处理电路的色彩图像数据在HDC电路60中被分解成每种颜色的图像信号。
然后，按同一个时序从HDC电路61接收各颜色图像信号的HD电路71至73，产生发光信号，使阵列光源的发光器件按图像信号的灰度发光。从HD电路71到73收到发光信号的第一阵列光源21至第三阵列光源23根据每种颜色的图像信号按同一时序发光。
从第一阵列光源21至第二阵列光源23同时发出的光从多个入射端进入二向色棱镜30。然后，每个有不同颜色的多个入射光通过在棱镜30的第一光选择薄膜和第二光选择薄膜处进行透射和反射而被混合，然后从一单独的出射端作为出射光输出。根据图像数据完成图像曝光后的相纸被切纸刀切成一定的尺寸，并由未示出的冲冼装置进行冲冼。
下面对一个实验(下称第一实验)进行解释。该实验建立了涉及本发明曝光设备的一个阵列光源组(第一阵列光源21至第三阵列光源23)的发光器件排的间距d的数值。
(第一实验的背景)以下对第一实验的背景进行介绍。当象本实施例的情形那样使用交错布局的阵列光源(第一阵列光源21至第三阵列光源23)时，各发光器件排中的曝光点组合而形成在一排中的曝光线。因此，如果前面提到的曝光位置发生离散时，在图像上很容易形成“条纹”。
尤其是在使用卤化银光敏材料(相纸10)时，这种“条纹”受到了加强。对这种现象原因猜测如下。尽管曝光能量由光源亮度和曝光时间的乘积表示，但是，通常，卤化银光敏材料有着复杂的特性(曝光能量和密度之间的关系)，在对相同颜色间歇地执行两次曝光的情况下，颜色形成特性与执行一次曝光的情况是不同的，与两种情况下都相同的总曝光能量无关。而且，因为卤化银光敏材料是在称为载体的纸基上形成多层构成的，所以，卤化银光敏材料有一个特点，由于各层间以及层的内部的反射和散射、纸基上的反射和散射，用于曝光的光被漫射，因此，所形成的图像是发散的。
在这种情况下，如果象本实施例那样使用具有多排发光器件的阵列光源，对于每一排的发光器件的曝光时序是不同的，导致间歇曝光。因此，曝光位置的偏差导致的两像素重叠部分100的温升大小和非曝光部分200密度下降的数量，都便大了，大于根据卤化银光敏材料特征曲线上估计的数量，卤化银光敏材料特有的特性产生的影响成为一个主要因素(这还仅仅是猜测，详细的机理目前还不清楚)。
因此，在本实施例中，根据第一实验的结果，通过为第一阵列光源至第三阵列光源的发光器件排的间距d建立一个适当的值，可以在图像中防止“条纹”的出现。
(第一实验的布骤和评估方法)下面，将对第一实验的布骤和评估方法进行解释。首先，准备多个第一光源阵列21、第二光源阵列22和第三光源阵列23。其中，将发光器件排的间距d的数值设成不同的值。然后，在分开奇数排和偶数排的情况下形成用于测量的图像。
然后，通过一种扫描类型的反射显像密度计测量上面所形成的用于测量的图像，而且获得奇数排和偶数排曝光位置之间的位置关系，来计算与设计值之间差别(像素偏差量δ，如图6b)的最大值。对50个自聚焦透镜阵列40(4排)中的每一排都进行这种像素偏差量δ的计算，以获得一种分布，然后将标准偏差加倍后与平均值相加获得一个数值，作为评估数值(像素偏差量的评估)。
进一步，形成均匀密度为0.8的灰度实心图像。然后，在对所形成的灰度实心图像进行观察后，进行评估。其中，“NG”代表看到“条纹”的情况，“G”代表没有看到“条纹”的情况(视觉评估)。
(第一实验的结果)由上述过程所形成的第一实验的结果在表1中示出。顺便提出，在本实施例中，发光器件排的间距d的设立有五种类型，包括“150微米”、“250微米”、“500微米”、“1000微米”和“1500微米”(见表1)。
表1
其中，G代表没有“条纹”被发现；NG代表“条纹”被发现。
如表1所示，当发光器件排的间距d不大于500微米时，“条纹”肯定不会出现在灰度实心图像中(视觉评估“G”)。顺便提到，应该认识到当发光器件排间的距离d不大于500微米时，像素偏差是一个非常小的数值(10微米或更小)。在另一方面，可以肯定的是当发光器件排间的距离d大于500微米时，“条纹”在灰度实心图像中会被观察到(视觉评估“NG”)。使用6排50个自聚焦透镜阵列40进行第一实验，可以获得完全相同的结果。
从上述第一实验的结果来看，可以肯定的是，从阵列光源组发出的光的曝光位置发散所导致的“条纹”现象，可以通过将第一阵列光源21至第三阵列光源23中发光器件的排间间距d设成500微米或更小来防止。如上述防止“条纹”发生的一个大概的原因是，当发光器件排的间距d为500微米或更小时，卤化银光敏材料特有的色彩特征在间歇曝光中的影响变小了。
在本实施例中，除上面所述的第一实验以外，还进行了用于建立图像曝光设备的阵列光源组(第一阵列光源21至第三阵列光源23)的写入密度(dpi)的实验(以下称为“第二实验”和“第三实验”)。下面将对第二实验和第三实验进行解释。
(第二实验的过程和评估方法)首先，对第二实验的过程和评估方法进行解释。首先，准备多个第一光源阵列21、第二光源阵列22和第三光源阵列23。其中，写入密度D被设成不同的值。顺便提出，假设在使用这些阵列光源组时像素偏差量δ被设置成基本可以被忽略的数值(1微米或更小)并且没有“条纹”形成。
然后，对于每个写入密度D，使用4排自聚焦透镜阵列40形成均匀密度为0.8的灰度实心图像。之后，观察所形成的灰度实心图像并进行评估。其中，“NG”代表在图像中观察到扫描线的情况，“G”代表没有看到扫描线的情况(视觉评估)。
(第二实验的结果)通过上述步骤所得到的第二实验的结果示出在表2中。顺便提及，在本实施例中，对于发光器件排的间距d，有五种类型的写入密度，包括“180dpi”，“210dpi”，“300dpi”，“440dpi”，“520dpi”(见表2)。另外，每种写入密度D的发光器件的尺寸和发光器件之间的间距示出在表2中。
表2
如表2清楚所示，可以肯定的是，当写入密度D小于210dpi时，可以观察到扫描线(视觉评估“NG”)，当写入密度D不小于210dpi时，观察不到扫描线(视觉评估“G”)。也就是说，应该理解到当写入密度D小时，即使因像素的偏差量δ基本上可以被忽略而没有形成“条纹”，扫描线也会很明显而使图像质量降低。因此，在本实施例中，第一阵列光源21至第三阵列光源23的写入密度D被设定成210dpi或更高。
(第三实验的过程和评估方法)下面，对第三实验的过程和评估方法进行解释。首先，准备多个第一光源阵列21、第二光源阵列22和第三光源阵列23。其中，写入密度D被设定为不同的数值。进一步，阵列光源组中发光器件的排间间距d被设置成大约为1000微米，这样有意地形成“条纹”。
然后，对于每个写入密度D，使用4排自聚焦透镜阵列40形成均匀密度为0.8的灰度实心图像。之后，观察所形成的灰度实心图像并进行评估。其中，“NG”代表在图像中观察到条纹的情况，“G”代表没有看到条纹的情况(视觉评估)。
(第三实验的结果)通过所述的步骤所得到的第三实验的结果示出在表3中。在本实施例中，写入密度D有五种类型，包括“180dpi”，“210dpi”，“300dpi”，“440dpi”，“520dpi”(见表3)。
如表3所示，可以肯定的是，当写入密度D不大于440dpi时，可以观察到“条纹”(视觉评估“NG”)，当写入密度D超过440dpi时，观察不到“条纹”(视觉评估“G”)。也就是说，应该理解的是当第一阵列光源21、第二阵列光源22和第三阵列光源23的写入密度D超过440dpi时，即使发光器件排的间距d被设置成1000微米有意形成“条纹”时，“条纹”也会变小而且人的肉眼无法进行识别。
因此，当第一阵列光源21至第三阵列光源23的写入密度D不大于440dpi时，特别地，需要将发光器件排的间距d设置成500微米或更小以防止“条纹”的形成。
因为交错布局的阵列光源(第一阵列光源21至第三阵列光源23)中发光器件排的间距d被设置在500微米以内，在所述实施例的曝光设备中，可以防止出现由于从阵列光源组发出的光的曝光位置离散所造成的“条纹”，因此，防止了图像质量的下降。
在本实施例的图像曝光设备中，可以使从阵列光源组(第一阵列光源21至第三阵列光源23)至自聚焦透镜阵列40的空间较长，因此减少了对零件布局的限制。因此，制造成本的增加可以得到控制。
在本实施例的图像曝光设备中，通过将阵列光源组(第一阵列光源21至第三阵列光源23)的写入密度设置成210dpi或更高(300dpi)，可以防止扫描线的出现。也就是说，当阵列光源组(第一阵列光源21至第三阵列光源23)的写入密度低于210dpi时，甚至在没有“条纹”的时候，图像的质量也会降低，因为此时的扫描线很明显。但是，可以通过将阵列光源组(第一阵列光源21至第三阵列光源23)的写入密度设置成210dpi或更高，就可以使扫描线变得不明显，因此可以防止图像质量的下降。
下面将参看图5对第二实施例的图像曝光设备进行解释。本实施例的图像曝光设备中，图像曝光设备的阵列光源的结构相对于第一实施例进行了修改，而其它的结构完全相同。因此对重复结构的描述就此省略。图5是本实施例图像曝光设备中阵列光源的发光器件的布局示意图。
在本实施例中，第一阵列光源由阵列型的发光器件组成，针对第一光(红色)进行曝光。该第一阵列光源包括由尺寸为65微米乘65微米的LED排列构成的单排发光器件，如图5a所示。顺便提及，一排中发光器件中心之间的距离被设定为85微米。
进一步，第二阵列光源由VFPH和绿色光滤光器所组成，第三阵列光源23由VFPH和蓝色滤光器所组成。如图5b示，第二阵列光源22和第三阵列光源23都是交错布局，其中，两排排好的尺寸为67微米乘108微米的发光器件按一预定间距d顺序放置。顺便提及，在每一奇数排和偶数排中相邻发光器件的中心之间的距离被设定为85微米。
下面解释设定第一阵列光源至第三阵列光源中发光器件的排间间距d的数值的实验(下文称“第四实验”)。顺便提及，因为第四实验的背景与第一实施例中的第一实验的背景相同，所以省略解释。
(第四实验的过程和评估方法)首先，准备多个第一光源阵列、第二光源阵列和第三光源阵列。其中，发光器件排的间距d的数值是彼此不同的。而且，在阵列光源组中发光器件的排间间距d被设置成大约1000微米，故意使“条纹”形成。然后，对于每个发光器件的排间间距d，在排被分为奇数排和偶数排的情况下，形成用于测量的图像。
然后，通过一种扫描类型的反射显像密度计测量用于测量的图像，得到奇数排和偶数排曝光位置之间的位置关系，计算与设计值之间差别(像素偏差量δ，如图6b)的最大值。对每一个50个自聚焦透镜阵列40(4排)进行这种像素偏差量δ的计算，以获得一种分布，将标准偏差加倍后与平均值相加获得的数值作为评估数值(像素偏差量的评估)。
接着，形成均匀密度为0.8的灰度实心图像。然后，对所形成的灰度实心图像进行观察后，进行评估，其中，“NG”代表观察到“条纹”的情况，“G”代表没有观察到“条纹”的情况(视觉评估)。
(第四实验的结果)由上面所述过程所形成的第四实验的结果在表4中示出。在本实施例中，发光器件的排间间距d被设置成两种类型，包括253.8微米和1945.8微米(见表4)。
表4
如表4清楚所示，可以肯定的是，当发光器件排的间距d不大于500微米时，“条纹”肯定不会出现在灰度实心图像中(视觉评估“G”)，而当发光器件排的间距d大于500微米时，“条纹”会被观察到(视觉评估“NG”)。使用6排50个自聚焦透镜阵列40进行第四实验，可以获得完全相同的结果。
从上述第四实验的结果来看，可以肯定的是，从阵列光源组发出的光的曝光位置发散所导致的“条纹”现象，可以通过将第一阵列光源至第三阵列光源中发光器件排的间距d设成500微米或更小来防止。
在上面所述实施例的图像曝光设备中，用于呈交错布局的阵列光源(第二阵列光源和第三阵列光源)的发光器件排的间距d被设定成500微米内，因此，可以防止出现由于从阵列光源组发出的光的曝光位置离散所造成的“条纹”，于是，可以防止图像质量的下降。
顺便提及，尽管在上述实施例中应用二向色棱镜作为混光装置，但是，也可以采用二向色镜和一组光纤作为混光装置，来混合进入多个入射端的光通量并将它们传送至一个出射端。
(发明的效果)结构1中所述的本发明中，呈交错布局的阵列光源中发光器件排的间距d被设定在一定的范围内(在500微米以内)，因此，可以防止由于从阵列光源组发出的光的曝光位置离散所造成的“条纹”的出现，可以了防止图像质量的下降。
结构2中所述的本发明中，每个都是大孔径透镜的多排自聚焦透镜阵列作为聚光装置，因此，可以使从阵列光源组至聚光装置的距离较长，减少了对零件布局的限制。因此，制造成本的增长可以得到控制。
结构3中所述的本发明中，因为阵列光源组的写入密度被设定成210dpi或更高，因此，可以防止扫描线的出现，防止了图像质量的下降。
权利要求
1.一种用于在卤化银光敏材料上曝光图像的图像曝光设备，包括一个或多个用于发光的阵列光源，每个阵列光源包括多排发光器件，多排发光器件中的每一排具有多个排成一条直线的发光器件，多排发光器件中相邻两排的至少一排在纵向方向移位形成发光器件的交错布局；聚光器件，将从阵列光源发出的光图像会聚在卤化银光敏材料上，其中，多排发光器件中各排间的间距不大于500微米。
2.如权利要求1所述的图像曝光设备，其中，图像曝光设备包括多排阵列光源，还包括混光器件，用于混合从多排阵列光源发出的光图像而形成并向聚光器件发出线状的光图像。
3.如权利要求1或2所述的图像曝光设备，其中，聚光器件是一个自聚焦透镜阵列，其中排列有多排的自聚焦透镜元。
4.如权利要求1或2所述的图像曝光设备，其中，阵列光源的写入密度不小于210dpi。
5.如权利要求3所述的图像曝光设备，其中，阵列光源的写入密度不小于210dpi。
6.如权利要求1或2所述的图像曝光设备，其中，阵列光源的写入密度不大于440dpi。
7.如权利要求3所述的图像曝光设备，其中，阵列光源的写入密度不大于440dpi。
8.如权利要求4所述的图像曝光设备，其中，阵列光源的写入密度不大于440dpi。
全文摘要
本发明涉及一种用于在卤化银光敏材料上曝光图像的图像曝光设备，包括一个或多个用于发射光图像的阵列光源，每个阵列光源具有多排发光器件，多排中每一排具有被排成一条直线的多个发光器件，并且多排发光器件的相邻两排的其中一排在纵向上被移位形成发光器件的交错布局；以及一个聚光器件，用于将从阵列光源发出的光图像会聚到卤化银光敏材料上。其中，多排发光器件中各排间的间距不大于500微米。
文档编号B41J2/44GK1534376SQ200410028
公开日2004年10月6日 申请日期2004年3月17日 优先权日2003年3月28日
发明者铃木厚司, 服部毅 申请人:柯尼卡美能达控股株式会社