光敏印章机曝光通用模板的制作方法

本实用新型涉及光敏印章机机械模具领域，尤其是涉及一种光敏印章机曝光通用模板。

背景技术：

光敏印章机是一种新型的印章制作设备，其基本原理是通过曝光实现光敏印垫上印章图案的制作，具有适用范围广、实用强、操作使用简单等优点。但是，光敏印章机在工作的过程中存在是否压紧的隐患，其光敏印垫的压缩尺寸对曝光效果存在较大的影响，同时，因缺乏通用的光敏印垫固定模具，光敏印垫与印章图案样稿的对正需靠人工操作实现，对正质量受操作人员操作水平的影响严重，工作效率较低。

技术实现要素：

为了解决现有技术的不足，本实用新型提供一种光敏印章机曝光通用模板，通过将光敏印垫固定在固定模具中，并将固定模具定位连接在通用模板座上，实现光敏印垫与印章图案样稿的自动对正，其自动对正的精度高，操作简单，提高了生产效率及生产质量，同时，可利用不同的固定模具实现光敏印垫的批量生产，节约人员成本。

本实用新型解决技术问题的技术方案为：

一种光敏印章机曝光通用模板，包括通用模板座、固定模具、缓冲垫，所述通用模板座的底面设有矩形凹槽，所述矩形凹槽的底面均匀设有定位孔；所述固定模具的顶端为定位销，所述定位销与定位孔卡紧连接，固定模具的底端为矩形块，所述矩形块的底面设有固定槽；所述缓冲垫均匀覆盖在矩形凹槽外侧通用模板座的底面上。

进一步的，所述固定模具底端的固定槽的形状与光敏印垫的形状相配合。

进一步的，所述缓冲垫的形状为矩形薄环，其外侧矩形尺寸与光敏印章机感光玻璃的尺寸相配合。

本实用新型提供的光敏印章机曝光通用模板的有益效果是：

1、所述通用模板通过定位孔实现固定模具的定位，进而实现光敏印垫的定位，确保光敏印垫与印章图案样稿的自动对正，定位精度高，操作简单，提高了生产效率及生产质量。

2、所述固定槽的形状与光敏印垫的形状相配合，根据光敏印垫的生产需求制定相应的固定槽形状及固定模具底端矩形块的尺寸，可实现光敏印垫的批量生产，节约人员成本。

3、所述缓冲垫与光敏印章机感光玻璃的尺寸相配合，实现了感光玻璃的密封，避免了光敏印章机强散光的外泄。

4、所述通用模板放置在感光玻璃上完成相应操作，通用模板座的自重可实现光敏印垫的压缩，避免了光敏印垫的压缩尺寸对曝光效果的影响。

附图说明

图1为实用新型结构正视图。

图2为实用新型结构仰视图。

图中：1通用模板座；11矩形凹槽；12定位孔；2固定模具；21定位销；22固定槽；3缓冲垫；4固定模具二；5固定模具三。

具体实施方式

本实用新型的保护主体及实施方案如下：

本实用新型提供的光敏印章机曝光通用模板，包括通用模板座1、固定模具2、缓冲垫3，所述通用模板座1的底面设有矩形凹槽11，所述矩形凹槽11的底面均匀设有定位孔12，所述定位孔12在水平及竖直方向上阵列分布，且定位孔12的尺寸相同，用于实现固定模具2在通用模板座1上不同位置的固定。

所述固定模具2的顶端为定位销21，所述定位销21与定位孔12之间为卡紧连接，操作人员在操作使用时，只需将固定模具2的定位销21插入或拔出定位孔12，即可实现固定模具2在通用模板座1上的连接或拆卸，操作简单。

进一步的，所述固定模具2的底端为矩形块，所述矩形块的底面设有固定槽22，所述固定槽22的形状与光敏印垫的形状相配合，根据光敏印垫的生产需求，确定相应的底端矩形块尺寸，完成固定模具二4、固定模具三5等不同固定模具2制作，用于实现光敏印垫的批量生产。

所述缓冲垫3均匀覆盖在矩形凹槽11外侧通用模板座1的底面上，缓冲垫3的形状为矩形薄环，其外侧矩形尺寸与光敏印章机感光玻璃的尺寸相配合，将通用模板放置在感光玻璃上完成相应操作时，可实现光敏印章机感光玻璃的密封，避免光敏印章机强散光的外泄。

本实用新型的具体工作过程如下：

根据光敏印垫的生产需求，确定相应的底端矩形块尺寸，并在矩形块的底面均匀布置并制定相应形状的固定槽22，完成相应的固定模具2的制作。同时，根据矩形块底面固定槽22的分布，制定相应的印章图案样稿，所述样稿的尺寸与感光玻璃的尺寸相配合，其上印章图案的定位以相应定位孔12的圆心为基准。

在具体操作时，首先通过定位销21与定位孔12的卡紧连接，将固定模具2固定在通用模板座1上，并将光敏印垫固定在固定槽22中。然后，将相应的印章图案样稿平铺到光敏印章机的感光玻璃上，并将带有光敏印垫的通用模板放置到印章图案样稿上。此时，光敏印垫与印章图案自动对正，通用模板实现感光玻璃的密封及光敏印垫的压缩。最后，操作光敏印章机，实现光敏印垫的曝光。

上面所述的实施案例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域相关技术人员对本实用新型的各种变形和改进，均应扩到如本实用新型权利要求书所确定的保护范围内。