用于显示设备的滤光器及其制造方法和等离子体显示设备的制作方法

文档序号:2654340阅读:134来源:国知局
专利名称:用于显示设备的滤光器及其制造方法和等离子体显示设备的制作方法
技术领域
本文献涉及一种显示设备,更具体地,涉及一种用于显示设备的滤光器及其制造方法,和等离子体显示设备。
背景技术
在显示设备中,等离子体显示设备包括等离子体显示板和驱动该等离子体显示板的驱动器。
等离子体显示板具有如下结构,在该结构中形成在前板和后板之间的阻挡肋形成单位放电单元或多个放电单元。每个放电单元充满惰性气体,惰行气体包含例如氖(Ne),氦(He)或Ne和He的混合物的主要放电气体和少量氙(Xe)的。
多个放电单元形成一个像素。例如,红色(R)放电单元,绿色(G)放电单元,和蓝色(B)放电单元形成一个像素。
当等离子体显示板通过高频电压放电时,惰性气体产生真空紫外线,真空紫外线由此导致形成在阻挡肋之间的荧光体发射光,从而显示图像。由于等离子体显示板可以制造成薄且轻,因此它作为下一代显示器件已经引起了人们的注意。
显示设备每个具有取决于它们种类的光学特性,并且存在在它们的显示表面中由于外部光而产生的反射光的问题。此外,显示设备存在另一问题,即当显示设备显示图像时,电磁波或近红外线从显示表面发射。
为了减少上述问题,显示设备在显示表面上具有滤光器。滤光器由多个功能层组成,每个功能层分别解决上述问题。
该滤光器通过分别制造每个功能层以及利用粘合剂层叠所制造的功能层来制造。因此,由于形成多个功能层的工序以及层叠多个功能层的工序增加了形成滤光器的工序的数目。这导致产品生产率的下降,以及显示设备的制造成本增加。

发明内容
在一方面,用于显示设备的滤光器包括基膜层,形成在基膜层上的电磁干扰(EMI)屏蔽层,和形成在EMI屏蔽层上的树脂层。
在另一方面,等离子体显示设备包括等离子体显示板,和形成在等离子体显示板上的滤光器,该滤光器包括基膜层,形成在基膜层上的EMI屏蔽层,和形成在EMI屏蔽层上的树脂层。
在又一方面,制造用于显示设备的滤光器的方法包括在基膜层上形成EMI屏蔽层,和在EMI屏蔽层上形成树脂层。


附图用以提供本发明的进一步理解,结合在本说明书中并且构成本说明书的一部分,附示了本发明的实施例,并与描述一起用于解释本发明的原理。在附图中图1图示了根据实施例的用于显示设备的滤光器;图2a至2e图示了根据实施例的制造用于显示设备的滤光器的方法;图3图示了根据另一实施例的用于显示设备的滤光器;及图4图示了根据实施例的等离子体显示设备。
具体实施例方式
现在将给出附图中图示的详细实施例的说明。
用于显示设备的滤光器包括基膜层,形成在基膜层上的电磁干扰(EMI)屏蔽层,和形成在EMI屏蔽层上的树脂层。
EMI屏蔽层可以是网格型或传导型。
树脂层可以是热固性树脂层。
树脂层可以形成在除了EMI屏蔽层的接地部分之外的剩余EMI屏蔽层上。
树脂层可以包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种。
用于显示设备的滤光器可以进一步包括形成在树脂层上的非反射层。
用于显示设备的滤光器可以进一步包括形成在基膜层的背面上的粘合层。
粘合层可以包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种。
等离子体显示设备包括等离子体显示板,和形成在等离子体显示板上的滤光器,该滤光器包括基膜层,形成在基膜层上的EMI屏蔽层,和形成在EMI屏蔽层上的树脂层。
EMI屏蔽层可以是网格型或传导型。
树脂层可以是热固性树脂。
树脂层可以形成在除了EMI屏蔽层的接地部分之外的剩余EMI屏蔽层上。
树脂层可以包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种。
用于显示设备的滤光器可以进一步包括形成在树脂层上的非反射层。
用于显示设备的滤光器可以进一步包括形成在基膜层的背面上的粘合层。
粘合层可以包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种。
制造用于显示设备的滤光器的方法包括在基膜层上形成EMI屏蔽层,和在EMI屏蔽层上形成树脂层。
该方法可以进一步包括在树脂层上形成非反射层,以及在基膜层的背面上形成粘合层。
EMI屏蔽层可以是网格型或传导型,EMI屏蔽层可以利用光刻方法,印刷方法,电镀方法,胶版印刷(off-set)方法,注墨方法,和真空沉积方法中的一种形成。
形成树脂层可以包括在除了EMI屏蔽层的接地部分之外的剩余EMI屏蔽层上涂敷热固性树脂,该热固性树脂混合在近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种中,然后使热固性树脂硬化。
下面,将参考附图详细描述本发明的示例性实施例。
图1图示了根据实施例的用于显示设备的滤光器。
如图1中所示,根据实施例的用于显示设备的滤光器包括基膜层110,电磁干扰(EMI)屏蔽层120,和树脂层130。
基膜层110可以由透明材料膜,例如聚乙二醇对苯二甲酸酯(PET)和碳化钽(TAC)形成。
EMI屏蔽层120防止当驱动显示设备时产生的电磁波通过显示设备的显示表面发射到外部。
EMI屏蔽层120直接形成在基膜层110上。这去除了将EMI屏蔽层120形成在基膜层110上的必要的粘合层。
进一步,EMI屏蔽层120形成为网格型。网格型EMI屏蔽层120通过将具有传导性的金属层形成为网格图案形式而形成。网格型EMI屏蔽层120在其端部部分处具有使网格图案的金属层接地的接地部分。
树脂层130防止当驱动显示设备时产生的近红外线通过显示设备的显示表面发射到外部,树脂层130吸收590nm的橙光波长和控制通过显示设备的光学特性表示的颜色。
树脂层130可以由包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种的透明树脂形成。
而且,根据具有滤光器的显示设备的特性,树脂层130可以不包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中不必要的材料。除了必要的材料,树脂层130可以进一步包括具有另一功能的材料。
如上,由于树脂层130具有多种功能,因此减少了滤光器的功能层的数目。功能层的数目减少减少了用于将功能层彼此粘合的粘合层的数目。
具有多种功能材料的树脂层130直接形成在网格型EMI屏蔽层120上。这去除了将树脂层130形成在网格型EMI屏蔽层120上所必要的粘合层。树脂层130不形成在网格型EMI屏蔽层120的接地部分上。
如图1所示,根据实施例的用于显示设备的滤光器可以进一步包括非反射层140和粘合层150。
非反射层140形成在树脂层130上。非反射层140由抗反射层,抗眩光层,或抗反射层和抗眩光层的复层中的至少一种形成。抗反射层利用每个具有不同折射率的多层来使外部光变为零。抗眩光层利用在其表面上形成的具有双凹-凸部分的层漫射外部光。
粘合层150形成在基膜层110的背面上,并用于将滤光器粘合到显示设备。粘合层1 50必要时可以包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种。在该情况下,粘合层150包括的材料可以从形成树脂层130的材料中排除。
图2a至2e图示了根据实施例的制造用于显示设备的滤光器的方法。
如图2a至2e所示,EMI屏蔽层120和树脂层130依照指定的顺序直接形成在基膜层110上。
首先,如图2a所示,形成基膜层110。基膜层110由透明PET膜或透明TAC膜等形成。
如图2b所示,网格型EMI屏蔽层120直接形成在基膜层110上。
网格型EMI屏蔽层120可以通过直接在基膜层110上形成网格图案来形成。而且,网格型EMI屏蔽层120可以通过形成金属层,然后利用刻蚀工序从金属层上去除不必要的部分来形成。网格图案的直接形成利用了电镀方法,胶版印刷方法,注墨方法,电镀方法,真空沉积方法等。
如图2c所示,树脂层130直接形成在EMI屏蔽层120上。树脂层130的直接形成可以使用通过混合每个具有不同功能的材料得到的可固化树脂。
下面,将给出利用热固性树脂的方法的例子的说明。
具有近红外线屏蔽功能的染料或颜料,具有橙光波长吸收功能的染料或颜料,或具有颜色控制功能的染料或颜料中的至少一种混合在热固性树脂中。
热固性树脂涂敷在网格型EMI屏蔽层120上。在该情况下,热固性树脂不涂敷在网格型EMI屏蔽层120的接地部分上。所涂敷的热固性树脂然后被平坦化。
硬化平坦化的热固性树脂以完成树脂层130。可固化树脂可以使用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),丙烯,EVA等。上述种类的染料或颜料可以根据滤光器透射率的设置而改变。
尽管根据实施例的用于显示设备的滤光器包括热固性树脂,但是滤光器可以包括作为树脂层130的另一材料。此外,树脂层130可以利用另一方法形成,只要树脂层直接形成在EMI屏蔽层120上。
如图2d所示,非反射层140形成在树脂层130上。如图1所示,非反射层140由抗反射层,抗眩光层,或抗反射层和抗眩光层复层中的至少一种形成。
抗反射层和抗眩光层的复层通过涂敷抗眩光层然后涂敷抗反射层形成。可以使用干涂敷方法或湿涂敷方法。
如图2e所示,粘合层150形成在基膜层110的背面上。尽管在制造滤光器的方法中最后进行形成粘合层150的工序,但必要时,形成粘合层150的工序可以首先进行或可以在制造滤光器的上述工序之间进行。
在粘合层150包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种的情况下,树脂层130不包括粘合层150所包括的材料。
如上,由于功能层的数目和层叠功能层的工序数目减少,因此产品的生产率增加,并且显示设备的制造成本减少。
图3图示了根据另一实施例的用于显示设备的滤光器。
如图3所示,根据另一实施例的用于显示设备的滤光器包括基膜层110,EMI屏蔽层320,和树脂层330。对图3中所示的与图1中一致或等效的结构和元件进行简要描述或完全省略描述。
EMI屏蔽层320直接形成在基膜层110上。因此,可以去除将EMI屏蔽层320形成在基膜层110上所必要的粘合层。
EMI屏蔽层320形成为传导型。传导型EMI屏蔽层320具有介电层D和金属层M的层叠结构((DMD)n)。
介电层D由透明导电材料如铟锡氧化物(ITO)和ZnO形成。金属层M由具有低阻抗的金属例如Ag形成。由于层叠结构((DMD)n)中的“n”值增加(即形成EMI屏蔽层320的层的数目增加),同时EMI屏蔽层320的阻抗降低,生产成本增加。因此,考虑上述条件确定“n”的最佳值。
由于传导型EMI屏蔽层320不仅具有EMI屏蔽功能而且具有近红外吸收功能,因此树脂层330可以不包括近红外屏蔽材料。
在该情况下,传导型EMI屏蔽层320通过利用溅射方法重复层叠Ag和ITO形成。
图4示出了根据实施例的等离子体显示设备。
如图4所示,根据实施例的等离子体显示设备包括等离子体显示板和安置在等离子体显示板上的滤光器500。
等离子体显示板包括前板410和后板420,前板410和后板420以它们之间给定的距离彼此平行相对结合。前板410包括为显示图像的显示表面的前基底401。后板420包括构成后表面的后基底411。多个扫描电极402和多个维持电极403成对形成在前基底401上以形成多个维持电极对。多个地址电极413布置在后基底411上以与多个维持电极对相交。
扫描电极402和维持电极403每个包括由透明ITO材料构成的透明电极402a和403a以及由金属材料构成的总线电极(bus electrode)402b和403b。扫描电极402和维持电极403用上介电层404覆盖,保护层405形成在上介电层404上。
后板420包括隔开放电单元的阻挡肋412。多个地址电极413平行于阻挡肋412排列。红色(R),绿色(G)和蓝色(B)荧光体414涂敷在地址电极413上。
下部的介电层415形成在地址电极413和荧光体414之间。图4已经图示了等离子体显示板的结构的一个例子。因此,阻挡肋结构的电极结构必要时可以改变。
形成在前板410和后板420之间的阻挡肋412形成单位放电单元或多个放电单元。每个放电单元充满惰性气体,惰行气体包含例如氖(Ne),氦(He)或Ne和He的混合物的主要放电气体和少量氙(Xe)。
当等离子体显示板通过高频电压放电时,惰性气体产生真空紫外线,由此引起形成在阻挡肋412之间的荧光体414发射光,因此显示图像。
框架(未示出)和驱动器(未示出)等安装在等离子体显示板的后表面上以制造等离子体显示模块。确定外部形状的外壳(未示出)安装在等离子体显示模块中以完成等离子体显示设备。
由于产生等离子体放电的高频电压的应用,具有上述结构的等离子体显示设备显示图像,因此通过等离子体显示设备的显示表面发射的电磁波比在阴极射线管(CRT)或液晶显示器(LCD)中大得多。
等离子体显示设备发射从惰性气体例如Ne和Xe诱发的近红外线,并且近红外线的波长非常接近于电子家用器件的遥控器的波长。因此,有可能引起电子家用器件的故障。进一步,由于等离子体显示设备的荧光体的特性,从等离子体显示设备发射的具有橙光波长的光量大于例如CRT和LCD的显示设备中的光量。
因此,根据实施例的等离子体显示设备包括图1或3中所示的在等离子体显示板上的用于显示设备的滤光器。
根据实施例的等离子体显示设备的滤光器500包括基膜层,直接形成在基膜层上的EMI屏蔽层,和直接形成在EMI屏蔽层上的树脂层,树脂层包括近红外线屏蔽材料,橙光波长吸收材料,或颜色控制材料中的至少一种。
由于滤光器500的结构和制造方法在图1至3中完全描述,因此省略其描述。如上,由于等离子体显示设备包括根据实施例的用于显示设备的滤光器,因此与例如CRT和LCD的显示设备相比,等离子体显示设备在电磁波的屏蔽方面具有更好的效果。此外,等离子体显示设备的的生产率增加,并且等离子体显示设备的制造成本减少。
图4已经图示了滤光器500直接附加到等离子体显示板的情况。然而,滤光器500可以与等离子体显示板分离配置。
在根据实施例的用于显示设备的滤光器500中,用于改善等离子体显示设备的功能层不单独制造,并且功能层直接形成在一个基膜层上。
用于等离子体显示设备中的滤光器需要具有比用于显示设备中的滤光器更多的功能。
因此,由于等离子体显示设备包括根据实施例的用于显示设备的滤光器,产品的生产率增加,并且等离子体显示设备的制造成本减少。
前述实施例和优点只是示例性的,并不用于限制本发明。本教导可以容易地应用于其它类型的设备。前述实施例的描述是说明性的,不限制权利要求的范围。许多代替,修改,和变化对本领域技术人员是显而易见的。
权利要求
1.一种用于显示设备的滤光器,包括基膜层;形成在所述基膜层上的电磁干扰(EMI)屏蔽层;和形成在所述EMI屏蔽层上的树脂层。
2.根据权利要求1的用于显示设备的滤光器,其中所述EMI屏蔽层是网格型或传导型。
3.根据权利要求1的用于显示设备的滤光器,其中所述树脂层是热固性树脂层。
4.根据权利要求1的用于显示设备的滤光器,其中所述树脂层形成在除了EMI屏蔽层的接地部分之外的剩余EMI屏蔽层上。
5.根据权利要求1的用于显示设备的滤光器,其中所述树脂层包括近红外线屏蔽材料、橙光波长吸收材料或颜色控制材料中的至少一种。
6.根据权利要求1的用于显示设备的滤光器,进一步包括形成在所述树脂层上的非反射层。
7.根据权利要求1的用于显示设备的滤光器,进一步包括形成在所述基膜层的背面上的粘合层。
8.根据权利要求7的用于显示设备的滤光器,其中所述粘合层包括近红外线屏蔽材料、橙光波长吸收材料或颜色控制材料中的至少一种。
9.一种等离子体显示设备,包括等离子体显示板;及形成在所述等离子体显示板上的滤光器,所述滤光器包括基膜层,形成在所述基膜层上的EMI屏蔽层以及形成在所述EMI屏蔽层上的树脂层。
10.根据权利要求9的用于显示设备的滤光器,其中所述EMI屏蔽层是网格型或传导型。
11.根据权利要求9的用于显示设备的滤光器,其中所述树脂层是热固性树脂层。
12.根据权利要求9的用于显示设备的滤光器,其中所述树脂层形成在除了EMI屏蔽层的接地部分之外的剩余EMI屏蔽层上。
13.根据权利要求9的用于显示设备的滤光器,其中所述树脂层包括近红外线屏蔽材料、橙光波长吸收材料或颜色控制材料中的至少一种。
14.根据权利要求9的用于显示设备的滤光器,进一步包括形成在所述树脂层上的非反射层。
15.根据权利要求9的用于显示设备的滤光器,进一步包括形成在所述基膜层的背面上的粘合层。
16.根据权利要求15的用于显示设备的滤光器,其中所述粘合层包括近红外线屏蔽材料、橙光波长吸收材料或颜色控制材料中的至少一种。
17.一种制造用于显示设备的滤光器的方法,包括在基膜层上形成EMI屏蔽层;及在所述EMI屏蔽层上形成树脂层。
18.根据权利要求17的方法,进一步包括在所述树脂层上形成非反射层,及在所述基膜层的背面上形成粘合层。
19.根据权利要求17的方法,其中所述EMI屏蔽层是网格型或传导型,并且所述EMI屏蔽层利用光刻方法,印刷方法,电镀方法,胶版印刷方法,注墨方法,和真空沉积方法中的一种形成。
20.根据权利要求17的方法,其中形成树脂层包括在除了EMI屏蔽层的接地部分之外的剩余EMI屏蔽层上涂敷热固性树脂,所述热固性树脂混合在近红外线屏蔽材料、橙光波长吸收材料或颜色控制材料中的至少一种中,及固化所述热固性树脂。
全文摘要
本发明公开了一种用于显示设备的滤光器及其制造方法,和等离子体显示设备。所述用于显示设备的滤光器包括基膜层,电磁干扰(EMI)屏蔽层,和树脂层。EMI屏蔽层形成在基膜层上。树脂层形成在EMI屏蔽层上。
文档编号G09F9/00GK101071709SQ200710105379
公开日2007年11月14日 申请日期2007年4月28日 优先权日2006年4月28日
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