多层体的制造方法及多层体的制作方法

专利名称：：多层体的制造方法及多层体的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种多层体的制造方法，该多层体包含载体层和设置在该载体层上和/或中的单层的或多层的装饰层，本发明还涉及采用此方法制成的多层体。
背景技术：
：为了下述目的通常使用光学安全元件，就是加强对文件或产品的复制难度，借以防止其滥用。因此，光学安全元件可用于文件、纸币、信用卡和银行卡、证件、高价值产品的包装等的保险。其中，业已知道使用光学上可变的元件作为光学安全元件，这类元件都是使用传统复制方法不能复制出来的。还业已知道制作出配有一种结构化的金属层的光学安全元件，该金属层是设计成具有一种文本、徽标的形式或其它某种图案的形式的。由例如通过溅射或蒸镀而面状加设的金属层进行结构化的金属层的制造要求很多道工序，尤其是要求制造出具有高度防伪性的细微结构的情况下更是如此。因此，例如业已知道通过正蚀刻或负蚀刻或者通过激光烧蚀，以局部地将一个全面积地加设的金属层去金属化，从而使之实现结构化。还有一种可能性，就是利用已具有结构化的形状的蒸镀掩模将金属层加设到一载体上。所规定的安全元件的制造工序越多，则各个单项工序的配合精准性或者说套准精准性就越重要，这种精准性指的是，在形成安全元件过程中针对在安全元件上已有的特征或者层或结构而言各单个工具彼此相对定位的精准性。
发明内容本发明的任务是提供一种特别难以复制的多层体，及提供这种多层体的一种制造方法，其中，一个局部形成的层相对于另一个局部形成的层套准地构成。上述任务是通过一种多层体的一种制造方法加以解决的，依此法a)在一个具有第一侧面和第二侧面的载体层上和/或之中构成包含第一区和第二区的单层或多层的装饰层，其中，垂直于载体层的平面观察，装饰层在第一区中具有一个第一透射率并且在第二区中具有一个大于第一透射率的第二透射率，所述的两个透射率都是针对具有适合于光敏化的波长的电磁射线而言的；b)在载体层的第一侧面上布置至少一个待结构化(strukturierend)的层；c)在载体层的第一侧面上如此地布置一个可利用所述电磁射线实现光敏化的抗蚀层(简称“抗蚀(Resist)，，)，使得该抗蚀层被设置在所述至少一个待结构化的层的背向载体层的一侧上；并且将装饰层设置在所述至少一个待结构化的层的另外一侧上；d)从载体层的第二侧面利用所述电磁射线曝光所述抗蚀层，其中，装饰层通过第一区和第二区的设计而用作一种曝光掩模；并且e)利用彼此同步的、形成结构化的处理过程将所述至少一个待结构化的层和抗蚀层彼此配合精准地结构化。本发明提出的方法的步骤a)至e)优选是按所述顺序予以施行。在可光敏化的层利用所述电磁射线从载体层的背向可光敏化的层的一侧透过装饰层进行曝光时，定义第一区和第二区的装饰层便起着曝光掩模的作用，这是因为第一区具有一个透射率，该透射率相对于第二区的透射率降低了。该方法可以实现特别是防伪的多层体的形成。如所述及的，按本方法，在制造多层体的过程中，装饰层对可光敏化的抗蚀层(photoactivatableresistlayer)的曝光即光敏化起着曝光掩模的作用，并且在制成的多层体上则起着装饰作用。也就是说，该装饰层完成多项完全不同的功用。特别是，装饰层是如此设计的，使得一个利用多层体加以装饰了的物品的观察者可通过装饰层观察到至少一个结构化(即具有结构纹理)的层。装饰层的第一区的典型透射率也比传统曝光掩模(例如用金属制作的曝光掩模)的典型透射率至少大一个数量级。通过使用装饰层作为曝光掩模，便可将抗蚀层相对于装饰层的第一区和第二区配合精准地加以结构化，亦即已结构化的抗蚀层的结构相对于装饰层的第一区和第二区套准地布置。此外，根据本发明提出的方法，所述至少一个待结构化的层相对于抗蚀层配合精准地加以结构化。本方法还允许至少三个彼此配合精准地设计的层的形成装饰层、抗蚀层和所述至少一个待结构化的层。利用结构化步骤e)，可将所述至少一个待结构化的层成形为已结构化的层。作为本方法的结果，多层体在装饰层的第一区中或第二区中具有套准精确地结构化的层。所谓套准或套准精准性指的是上下相叠的各层的位置对准的布置。各层的套准耐久度或套准精准性优选是借助于配合掩模或套准掩模加以控制，这些掩模是在所有的层上勻称地存在的，在其上有利地利用光学识别方法或利用传感技术便可容易鉴别出这些层是否套准布置。套准精准性是在两个尺寸(即各层的长度和宽度)上给定的。所谓套准或配合指的是多层体的各个不同元件的精准叠加或叠置配合。一个层位包含至少一个层。一个装饰层位包含一个或多个装饰层和/或保护层，特别是作为漆层设计的。这些装饰层可以全面积地或者按图案形式结构化的形状布置在载体层上。其中，在载体层的一侧或两侧上可以布置一个或多个装饰层，该载体层例如是设计为基体薄膜或载体薄膜。装饰层包含至少一个可减弱具有适合于光敏化的波长的电磁射线的层。装饰层针对具有适合于光敏化的波长的电磁射线所具有的光学密度大于零。通过曝光掩模设计成装饰层，便可必然地得出曝光掩模对装饰层的一个绝对100%的套准精准性，这就是说，装饰层本身至少局部地起着曝光掩模的作用。装饰层和曝光掩模就形成一个共同的功能单元。通过既简单又有效的本发明提出的方法，相对于传统方法而言，本发明具有显著的优点，按照传统的方法必须引入一个单独的相对于装饰层套准的曝光掩模，其中，在实际中只在极个别情况下可完全避免套准误差。借助本发明，待结构化的层便可在无附加的工艺复杂性的条件下套准精准地针对由装饰层所定义的第一区和第二区加以结构化。在传统的利用掩模曝光以产生蚀刻掩模的方法的情况下，掩模要么作为一个单独的单元如作为单独的薄膜或作为单独的玻璃板/玻璃辊，要么作为一个后续印刷的层而存在，那可能出现下述问题由于原先的特别是造成热负荷和/或机械负荷的工艺步骤而在多层体中产生的线性的和/或非线性的畸变，都不能通过掩模在多层体上的调整在多层体的整个面积上被完全消除，尽管掩模调整在设置在多层体的现有的优选在水平边缘和/或垂直边缘上的套准掩模或配合掩模上实现。于是，在多层体的整个面积上的误差则在一个比较大的范围内波动。利用本发明提出的方法，便可将通过装饰层所定义的第一区和第二区用作为掩模，依此，装饰层的定义第一区和第二区的部分便在多层体的制造过程中的一个早期工艺步骤中被加设。构成为装饰层的掩模则承受多层体的所有后继的工艺步骤，从而自动地跟随多层体本身中的所有由于这些工艺步骤可能造成的变形。由此不可能在多层体的面积上出现附带的误差、特别是不会出现附加的误差波动，这是因为避免了掩模的后续制造以及该与至此的工艺过程无关的掩模所需的尽可能套准精确的后续定位。在本发明提出的方法中误差或套准精准性仅在第一区和第二区的可能不是绝对精确成形的边缘上，这些边缘的质量是由相应所采用的制造方法所决定的。在根据本发明提出的方法中误差或套准精准性大致在微米范围内，因而远在肉眼的分辨能力之下，即无仪器帮助的人的眼睛不再能觉察出来所存在的误差。在根据本发明从载体层的第二侧面对抗蚀层曝光的情况下，抗蚀层分区域地以不同强度加以曝光。抗蚀层的这种不同强度的曝光是通过装饰层的第一区和第二区中的不同透射率所引起的，但与可能存在的凹凸结构无关，特别是与在载体薄膜中或在布置在载体层上的层中成型的凹凸结构无关。换言之，抗蚀层的不同曝光不是由凹凸结构所引起的。所述至少一个待结构化的层的结构化和布置在载体层的第一侧面上的可光敏化的抗蚀层的结构化，都是由抗蚀层的不同强度的曝光所确定的，该抗蚀层本身则是通过装饰层的第一区和第二区定义的；但这种结构化与可能存在的凹凸结构无关，也不受凹凸结构的限定，特别是与一种在载体薄膜中或在设置在载体薄膜上的层中所成型的凹凸结构无关。垂直于载体层的平面观察，装饰层的第一区和第二区的边界相当于套准精准地对应于所述至少一个待结构化的层和可光敏化的抗蚀层的结构化的边界，但与一种凹凸结构的边界(特别是轮廓)无关，因而也不受此凹凸结构的边界(特别是其轮廓)的限定。按本发明提出的方法的工艺步骤d)，装饰层通过第一区和第二区的形成，起着一种曝光掩模的作用，其中，所形成的这种曝光掩模与可能存在的凹凸结构无关，特别是与在载体薄膜中或在布置在载体薄膜上的层中成型的凹凸结构无关。按本发明提出的方法的工艺步骤e)，所述至少一个待结构化的层和抗蚀层可利用相互同步的、形成结构化的工艺过程而彼此配合精准地加以结构化，其中，这种结构化与装饰层的第一区和第二区有依赖关系，但与可能存在的凹凸结构无关，特别是与在载体薄膜中或在设置在载体薄膜上的层中成型的凹凸结构无关。作为曝光掩模的装饰层的功能是与待结构化的层无关的。待结构化的层的物理特性，特别是有效厚度或光学密度，都对装饰层即曝光掩模的物理特性没有影响或者说与之无关，特别是与装饰层的第一区和第二区中的透射率无关。装饰层单独地决定着本发明提出的曝光掩模，而且与可能存在的凹凸结构无关，尤其是与待结构化的层的散射性凹凸结构和其它的特别是物理特性和/或化学特性无关。所述待结构化的层不是曝光掩模的一部分，这就是说，根据本发明的曝光掩模(=装饰层)和所述待结构化的层是单独存在的并且在功能上是去耦的。可能的是，所述至少一个待结构化的层在其被设置在载体层的第一侧面上的总面积上具有恒定的层厚度。可能的是，装饰层包含一个第一漆层，该第一漆层在第一区中以一个第一层厚度设置在载体层上并且在第二区中或者没有层厚度或者以一个小于该第一层厚度的第二层厚度设置在载体层上，从而使得装饰层在第一区中具有所述的第一透射率并且在第二区中具有所述的第二透射率。可能的是，装饰层包含载体层的一个第一着色层，该第一着色层在第一区中具有一个第一层厚度并且在第二区中或者没有层厚度或者具有小于第一层厚度的第二层厚度，从而使得装饰层在第一区中具有所述的第一透射率并且在第二区中具有所述的第二透射率。载体层的该着色层可以作为一个着色的或变色的区域成形在载体层的内部。一种用于形成载体层的着色层的优选方法是在载体层中实现激光打标记使之变色，或一种这样的方法，其中让色料或颜料扩散到载体层中。一个使载体层变黑或变暗形式的激光打标记的例子就是激光束作用于例如用聚碳酸酯(=PC)制成的载体层上，如聚碳酸酯是掺杂性的，则该作用特别有效。这类载体层例如在EP0991523Bl或EP0797511Bl中都有介绍。现在举出一个用于色料或颜料扩散的方法的例子，就是用一种含有溶剂的有色漆印刷载体层，随后暂时让有色漆发生作用，然后将有色漆再洗去。通过有色漆中的溶剂，使载体层的材料的表面局部地受到侵蚀，从而使得有色漆的组份至少可扩散到载体层的处于被侵蚀的表面区域内的上层中。为此，载体层的材料是如此选择的，使得该材料可以被一种在有色漆中所用溶剂所侵蚀。这样的组合例如可以是用聚碳酸酯制成的载体层和以芳香族溶剂为基的有色漆。在去除有色漆之后，便在载体层上留下有色漆的扩散进去的成份。视所加设的有色漆的层厚度而定和视载体层的材料选择而定，不同量的色料或颜料可以不同深度地扩散到载体层中。通过这种扩散，便会在第一区和/或第二区的边缘上产生一种轻微的模糊现象，该模糊现象的水平扩展当然仅主要处于被加设的有色漆的主要是垂直的层厚度的范围内。其中，“垂直”指的是基本上垂直于载体层的扩展；“水平”指的是基本上在通过载体层所形成的平面中的扩展。例如，若在一种印刷法中将一个几个微米如1至10μm的有色漆层印刷上去的话，则该模糊现象也就仅在1至10μm这一范围内，从而远低于人的肉眼的分辨能力。现在为色料或颜料的扩散方法举出另一个例子，就是利用一种消散性漆局部印刷载体层，借以遮盖第二区。随后将该载体层置于一种具有汽化的颜料的气氛之下，例如将之置于一种由一种惰性气体如氩或氮和汽化的碘所形成的气氛之下。于是，在未被消散性漆所遮盖的第一区中，已汽化的颜料便扩散到载体层中。随后将消散性漆清理掉。另一个方法或者也可以相结合地施行，就是可以将局部地被消散性漆所印刷的载体层引导通过一个浴槽，例如该浴槽含有非极性的溶剂如甲苯或汽油和一种溶解在其中的颜料和优选还含有也是溶解在该浴槽中的UV-阻滞剂(UV=紫外线)。其中，消散性漆必须相对于浴中的溶剂是稳定的，例如作为一种可溶于水的消散性漆。颜料和必要时UV-阻滞剂在浴槽中扩散到载体层的未被消散性漆所覆盖的第一区中，从而将载体层加以着色。随后可将消散性漆从载体层上清理掉。色料或颜料的扩散方法的另一个例子，就是利用一种热升华方法来实现载体层的印刷，依此法，利用通过一热打印头的局部加热效应颜料从一个分离的颜料载体层升华即汽化。这种颜料蒸汽然后便会扩散到载体层中，其中，可达到大约300dpi(=每英寸的点数)的高分辨率。为了在扩散时进一步提高边缘清晰度，可使用一个附加的掩模，该掩模被设置在热打印头和载体层之间，并覆盖着载体层的不待着色的区域。下述做法是可行的装饰层位的一个层分区域地按不同的层厚度成形在载体层上和/或载体层中。还有一种可能，就是将装饰层的一个层作为一个基本上具有均勻厚度的层加以设计，而且该层仅仅是分区域地即以模式形结构化的形式构成在载体层上和/或载体层中。于是就可以使装饰层仅仅在载体层的一个侧面上包含加设的层，或者在载体层的两个侧面上包含加设的层。本发明的任务再就是通过一种多层体加以解决的，该多层体包含载体层，该载体层具有一个第一侧面和一个第二侧面；成形在载体层上和/或之中的单层或多层的装饰层，该装饰层具有一个第一区和一个第二区，其中，垂直于载体层的平面观察，该装饰层在第一区中具有一个第一透射率并且在第二区中具有一个大于第一透射率的第二透射率，所述的两个透射率都是针对具有适于光敏化的波长的电磁射线而言的，多层体此外还具有至少一个相对于第一区和第二区套准地结构化的层。本发明提出的多层体例如可以用作为标签、层压薄膜、热压薄膜或转换薄膜，以用于提供一种光学安全元件，这种安全元件则可用于文件、纸币、信用卡和现金卡、证件、高价值物品包装等的保险。在此，装饰层和所述至少一个相对于装饰层套准精准地设置的结构化的层可用作为光学安全元件。在下面，当介绍到在第一区和/或第二区中的一个对象物的布置时则应理解到该对象物是如此布置的，使得垂直于载体层的平面观察时该对象物和装饰层的第一区和/或第二区是重叠的。在下面，“第一区”和“第二区”的概念也可以从装饰层出发转移到其它的对象物例如多层体的层/层位。一个对象物的第一/第二区意味着装饰层的第一/第二区与对象物的第一/第二区在垂直于载体层的平面观察时是全等的。通过装饰层所形成的曝光掩模包含第一区和第二区，这两个区针对在曝光时所用的射线具有不同的透射率。因此，该曝光掩模不具有对曝光时所用的射线绝对不可透射的区域，而仅仅是具有一个有较高透射率的区域和一个有较小透射率的区域，因此可称之为一种半调掩模。可光敏化的层的被穿过第一区所曝光的区域所被敏化的程度小于可光敏化的层的被穿过第二区所曝光的区域，这是因为第一区比第二区具有较小的透射率之故。业已证明有利的是为了形成可光敏化的层而使用一种正的光敏抗蚀层，其溶解性在通过曝光实现敏化时是增大的，或者使用一种负的光敏抗蚀层，其溶解性在通过曝光实现敏化时是减小的。所谓曝光，指的是可光敏化的层通过曝光掩模实现有选择的照射，其目的是通过一种光化学反应以局部地改变可光敏化的层的溶解性。根据这种通过光化学可达到的溶解性改变，来区分以下的可设计成光敏漆的可光敏化的层按第一种可光敏化的层(例如负性漆，英语为“negativeresist”)，其溶解性通过曝光与未被曝光的层的区域相比是减小的，例如这是因为光线导致该层的硬化；按第二种可光敏化的层(例如正性漆，英语为“positiveresist”)，其溶解性通过曝光与层的未曝光的区域相比是增大的，例如这是因为光线导致该层的分解。还进一步证明有利的是在使用一种正的光敏抗蚀层的情况下在第二区中去除抗蚀层，或者在使用一种负的光敏抗蚀层的情况下在第一区中去除抗蚀层。这一点可通过一种溶剂如碱液或酸液予以实现。在使用一种正的光敏抗蚀层时，抗蚀层的较强曝光的第二区比起抗蚀层的较小地曝光的第一区具有较高的溶解性。因此，溶剂能够比溶解设置在第一区中的抗蚀层材料更快和更好地溶解设置在第二区中的抗蚀层材料即正的光敏抗蚀层。通过使用溶剂，便可使抗蚀层也实现结构化，即可以去除在第二区中的抗蚀层，但可保留在第一区中的抗蚀层。业已证明有利的是在其中的抗蚀层已被去除的第一区或第二区中的待结构化的层可加以去除。这一点可通过一种蚀刻剂如一种酸液或碱液予以实现。有利的做法是在同一个方法步骤中实现局部地去除在第一区或第二区中的抗蚀层和待结构化的层的由此在第一区或第二区中被露出的区域。这一点也可简单地通过一种溶剂/蚀刻剂如一种碱液或酸液予以实现，这表示既能够去除抗蚀层(在正的光敏抗蚀层的情况下在曝光的区域中，在负的光敏抗蚀层的情况下在未曝光的区域中)，又能去除待结构化的层，即侵蚀这两种材料。依此，须如此设计抗蚀层，使得抗蚀层在采用正的光敏抗蚀层的情况下在未被曝光的区域中至少在一个足够长时间内(即对于溶剂或蚀刻剂的作用时间而言)对为了去除待结构化的层所用的溶剂或蚀刻剂具有抵抗能力，使得抗蚀层在采用负的光敏抗蚀层的情况下在被曝光的区域中至少在一个足够长时间内(即对于溶剂或蚀刻剂的作用时间而言)对为了去除待结构化的层所用的溶剂或蚀刻剂具有抵抗能力。—种优选的具体实施形式设定在用于去除在第一区或第二区中待结构化的层的工序内或者在一个单独的后继的工序中也可尽可能完全去除(=“剥除”)抗蚀层。其中，可通过减少多层体中彼此相叠的层数，以提高多层体的稳定性和耐久性，因为这可最大限度地减少毗邻的层之间的附着问题。此外，还可改善多层体的光学外观，这是因为在去除特别是着色的和/或可能是不完全透明的而仅是半透明或不透明的抗蚀层之后，处于其下面的区域又露出来了。为了某种特定用途，对多层体的稳定性和光学外观没有特殊高要求的情况下，当然也可以使抗蚀层保留在已结构化的层上。特别在下述情况下将抗蚀层留在结构化的层上是有利的抗蚀层设计成相对稳定的负性-光敏抗蚀层和被着色。抗蚀层为此也可以用两种以上的色料加以印刷。这样，从不同侧面观察多层体时，便可获得不同的色调印象。优选利用所述的电磁射线从载体层的背向抗蚀层的一侧曝光抗蚀层，其中，装饰层便可通过至少一个第一区和至少一个第二区的设计而用作为一种曝光掩模。所述至少一个待结构化的层可利用在所述至少一个第一区或所述至少一个第二区中曝光之后而被去除的可光敏化的层相对于所述至少一个第一区和所述至少一个第二区套准地加以结构化。优选抗蚀层具有一种可UV-敏化的材料。在此情况下，为了曝光步骤d)可使用UV射线。这样，便可使多层体的视觉特性与为了所述至少一个待结构化的层的结构化所希望的工艺特性加以分开。曝光步骤d)应如此加以设计，使得射线能完全透过抗蚀层，即一直达到该抗蚀层的背向载体层的外表面。只有这时才能够毫无问题地利用一种溶剂从抗蚀层的外表面的一侧去除光敏抗蚀层。如果该光敏抗蚀层未完全被透射，则它通常会在其背向载体层的外表面上仍有一层“皮”，这层“皮”至少可部分阻止一种溶剂的侵蚀。载体层必须对于在曝光步骤d)所用的射线是可以透过的。业已证明有效的是为曝光使用具有辐射最大值在365nm范围内的电磁射线，因为在这个范围内可形成载体层的主要成份的PET(=对苯二甲酸乙二醇聚酯)是透明的。一种水银高压辐射器发射的最大值就在这一波长范围内。在下列的载体材料情况下也可以使用具有254-314nm范围内波长的电磁射线烯烃族的载体材料如PP(二聚丙烯)或PE(二聚乙烯)；以PVC为基和以PVC-共聚物为基的载体材料；以聚乙烯醇和聚乙酸乙烯酯为基的载体材料；以脂族原料为基的聚酯载体。业已证明有利的做法是如此选择装饰层的厚度和材料，使得第一透射率大于零。装饰层的厚度和材料是如此选择的，使得具有适合于光敏化的波长的电磁射线能够部分地透过第一区域中的装饰层。通过装饰层所形成的曝光掩模也是设计得可在第一区域中透过射线的。业已证明有利的做法是如此选择装饰层的厚度和材料，使得第二透射率和第一透射率之比率等于或大于2。第一透射率和第二透射率之比优选为12，也可称之为对比度12。12的对比度比起传统的掩模情况下至少小一个数量级。迄今还不常见的是，为抗蚀层的曝光而使用一种掩模，该掩模具有如此处所介绍的装饰层所具有的那样小的对比度。在利用一种传统掩模(例如一种铬掩模)对一个抗蚀层进行曝光时，就存在不透明的(即具有光学密度OD>2)的区域和完全透明的区域；亦即该掩模具有高的对比度。一种传统的铝掩模具有一个1100的典型的对比度，因为一个铝层的透射率的值在1%，相当于光学密度(=0D)为2.0。透射率(=T)和光学密度(=0D)是彼此相关联的如T=10_°D(即OD=0相应于T=100%；OD=2相应于T=;0D=3相应于T=0.1%)。与传统的曝光方法不同，在按本发明的方法时抗蚀层不仅可穿过一种具有小的对比度的掩模(=装饰层)加以曝光，而且可穿过待结构化的层加以曝光。此外还可以在载体层和所述至少一个待结构化的层之间，优选直接在载体层的第一侧面上，设置至少一个功能层特别是剥离层和/或保护漆层。这一点特别在使用多层薄膜作为转换薄膜的情况下是有利的，该功能层可以毫无问题地实现载体层从一个转换层上剥离，该转换层包含装饰层位的至少一个层和所述已结构化的层。业已证明有利的是如此选择装饰层的厚度和材料，使得电磁射线在其穿过一个由载体层、所述至少一个功能层和装饰层组成的层叠之后加以测量，在第一区中具有一个约为0.3的透射率和在第二区中具有一个约为0.7的透射率。在两个作为不同透射区加以设计的区域即第一区和第二区之间的这一对比度，特别在正的光敏抗蚀层条件下是足够的。可以在载体层的第一侧面上成形出至少一种凹凸结构，并且在所述至少一种凹凸结构的表面上设置所述至少一个待结构化的层。为此可以设定在载体层的第一侧面上布置一个复制层，并将至少一种凹凸结构压印到复制层的一个背向载体层的表面中。但也可以设定将至少一种凹凸结构直接压印到载体层中。其中，载体层必须在该载体层的第一侧面上具有一种适用于复制方法的可复制的载体材料，例如PVC(=聚氯乙烯)，PC、PS(=聚苯乙烯)或PVA(=聚醋酸乙烯酯)。所谓一种复制层一般指的是一种在表面上可制造出具有一种凹凸结构的层，其例如包括有机层(如塑料层或漆层)或者无机层如无机塑料层(例如硅酮)、玻璃层、半导体层、金属层，等等，但也可以是它们的组合层。有利的做法，是将复制层设计为一种复制漆层。为了构成凹凸结构，可以在载体层上加设一个可辐射硬化的复制层，将一种凹凸结构成型到复制层中，并将具有压入其中的凹凸结构的复制层加以硬化。有利的做法是将凹凸结构设计为一种光衍射的或光折射的或光散射的微观结构或宏观结构，如一种衍射结构或一种衍射光栅或一种无光结构，或者是由光衍射的或光折射的或光散射的微观或宏观结构如衍射结构、无光结构或衍射光栅形成的组合。可以将所述至少一个凹凸结构至少部分地布置在第一区中和/或第二区中。其中，凹凸结构的面积设计可适配于第一区和第二区的面积设计，尤其相对于第一区和第二12区的面积套准地设计，或者凹凸结构的面积设计例如是可以作为连续的无限模式而与第一区和第二区的面积设计无关地加以设计的。通过本发明提出的将抗蚀层如此地布置在载体层的第一侧面上，使得抗蚀层设置在所述至少一个待结构化的层的背向载体层的侧面上，并且将装饰层设置在所述至少一个待结构化的层的另一侧面上，从而可将待结构化的层至少部分地设置在一个凹凸结构上，这是与使用清洗漆时的结构化方法不同的。按使用清洗漆的传统的结构化方法，该清洗漆含有硅石(=二氧化硅)或二氧化钛(例如金红石)，硅石和二氧化钛通过机械作用而破坏性地作用于特别具有镍表面的复制辊的表面。此外，清洗漆层和设置在其下的应压入凹凸结构的层之间的水平差异也会妨碍复制。可以在步骤e)之后将一个补偿层加设在载体层的第一侧面上。利用结构化步骤e)待结构化的层构成为一个已结构化的层。有利的是，在步骤e)之后将已结构化的层和抗蚀层在第一区或第二区中去除，而在另一个区中保留。通过加设补偿层，便可至少部分地填充已结构化的层的凹入部位/凹处。可以的是，通过加设补偿层还可至少部分地填充抗蚀层的凹入部位/凹处。补偿层可包含一种或多种不同的层材料。补偿层可以设计成保护层和/或粘接层和/或装饰层。可以在补偿层的背向载体层的一侧上加设一个增附层例如粘接层。这样便可使得作为一种层合薄膜或转移薄膜设计成形的多层体可以与一种与增附层相邻的基底相连，例如采用一种热压法或IMD-法(IMD=型内装饰)。该基底例如可以是纸、纸板、纺织物或别的纤维材料或者塑料，而且在此情况下是柔性的或主要是刚性的。可以将装饰层位的至少一个层加设到载体层的第二侧面上。这样便可按照在其中装饰层用作为曝光掩模的曝光步骤，再将所述至少一个层位的一个层或多个层加以去除。因此，可以按曝光步骤d)，再将装饰层位的加设在载体层的第二侧面上的所述至少一个层的一层或几层从载体层上加以去除。有利的是装饰层对于其波长范围约为380-750nm的可见光是至少部分地可以透过的。可能的是装饰层用至少一种不透明的和/或至少一种透明的颜料加以着色，而这种颜料在电磁光谱的至少一个波长范围内是有色的或生色的，特别是彩色的或生彩色的，尤其是在装饰层中含有一种颜料，该颜料可以在可见光谱之外加以激发，从而产生一种可视觉地辨认出来的有色印象。可能的是装饰层用至少一种色料或用至少一种颜料如青色、绛红色、黄色或黑色(CMYK=青色绛红黄色基本色调=CyanMagentaYellowKey；基本色调Key黑色作为颜色深度)或用颜料红色、绿色或蓝色(=RGB)加以着色，特别是为了产生一种减法的混合色；和/或配用至少一种红色和/或绿色和/或蓝色发荧光的可辐射激发的色料或颜料，从而可产生在辐射曝光下的一种加法的混合色。其中，这种着色可以在整个被着色的面积范围内都是十分稳定的，或者也可以作为一种特别连续的着色分布例如一种线性的或径向的着色分布加以设计，即这种着色具有一种梯度，依此，这种着色特别可以在两个或多个色调之间进行调整，例如从红色向蓝色进而向绿色进行调整，或者在一个或多个色调和一个非彩色色调之间进行调整，例如在一个未加以着色的装饰层的红色和透明之间进行调整。这种着色过程在安全保险印刷中是众所周知的，并且是广泛采用的，因为其伪造是很困难的。这样，装饰层便完成一种双重功能。一方面是装饰层用作为曝光掩模以形成至少一个结构化的层，该结构化的层是相对于装饰层的第一区和第二区套准精准地加以布置的。特别是该装饰层用作为曝光掩模以用于一种金属层的局部去金属化。另一方面，该装饰层或者该装饰层位的至少一个或多个层在多层体上用作为光学元件，特别是用作为一种单色或多色的颜料层以用于所述至少一个结构化的层的着色，其中，该颜料层被套准精准地布置在所述至少一个结构化的层的上方和/或毗连处。可能的是多层体在第一区中或在第二区中具有一个可利用所述电磁射线而可光敏化的抗蚀层，其中，所述至少一个结构化的层和抗蚀层是配合精准地彼此对准地如此布置在载体层的第一侧面上，使得抗蚀层被布置在所述至少一个结构化的层的背向载体层的一侧上，而装饰层则被布置在所述至少一个结构化的层的另一侧上。可能的是装饰层包含一个第一漆层，该第一漆层在第一区中以一个第一层厚度设置在载体层上并且在第二区中或者没有层厚度或者以一个小于该第一层厚度的第二层厚度设置在载体层上，从而使得装饰层在第一区中具有所述的第一透射率并且在第二区中具有所述的第二透射率。可能的是装饰层包含载体层的一个第一着色层，该第一着色层在第一区中具有一个第一层厚度并且在第二区中或者没有层厚度或者具有小于第一层厚度的第二层厚度，从而使得装饰层在第一区中具有所述的第一透射率并且在第二区中具有所述的第二透射率。有利的是第二透射率与第一透射率之比率大于2。可能的是在载体层的第一侧上设计出至少一个凹凸结构，而在所述至少一个凹凸结构的表面上布置所述至少一个待结构化的层。其中，可能的是在载体层的第一侧面上布置一个复制层，并将所述至少一个凹凸结构压印到复制层的一个背向载体层的表面上。当然也有可能的是将所述至少一个凹凸结构压印到载体层中。可能的是，该凹凸结构设计成一种衍射的凹凸结构。有利的是所述至少一个凹凸结构至少部分地布置在第一区中和/或第二区中。可能的是在所述至少一个结构化的层的背向载体层的一侧上，布置补偿层。有利的是该补偿层的折射率nl在可见的波长范围内处于复制层的折射率n2的90%至110%的范围内。有利的是(在已去除了已结构化的层并且在表面上成形了立体的结构即凹凸结构的)在第一区或第二区中利用一个补偿层将凹凸结构的凹处和凸处加以拉平，该补偿层具有一个与复制层相似的折射率即Δη=|n2-nl<0.3。这样，在将补偿层直接布置在复制层上的区域中，再也不能觉察出通过凹凸结构所形成的光学效应。可能的是补偿层设计成附着层例如粘附层。可以将装饰层的至少一个层布置在载体层的第二侧面上。可以使装饰层包含至少两个能产生不同色觉的漆层。可以使装饰层包含一个第一漆层，该第一漆层仅局部地加设在载体层上，和包含一个第二漆层，该第二漆层被全面地加设在载体层上。可能的是所述至少一个结构化的层包含一个或几个下列的层金属层，特别是含有铜、铝、银和/或金的金属层，HRI-层(HRI=高折射率)特别是含Sis或TiO2的层，液晶层，聚合物层，特别是导电或半导电的聚合物层，干涉-薄膜层叠，色料层，半导体层。所述至少一个结构化的层并不局限于上面所述及的实施例。所述待结构化的层可以是任一种材料，这种材料可以通过一种溶剂或或蚀刻剂加以侵蚀即可以被溶解或去除。可能的是所述至少一个结构化的层具有的厚度在20-1000nm范围内，特别是在20-100nm范围内。有利的是，多层体的已结构化的层设计成反射层，以用于从复制层的侧面入射的光。通过复制层的凹凸结构和布置在其下面的例如作为金属层设计的结构化的层的组合，便可产生许多不同的可有效地用于安全保险方面的光学效应。已结构化的层可以是由金属例如铝或铜或银形成的，这种金属层在一个后继的方法步骤中以电镀法加以增强。用于电镀增强的金属可以相同于或不同于结构化层的金属。举个例子来说，例如薄的银层利用铜实现的电镀增强。可能的是抗蚀层具有的厚度在0.3至3μm范围内。已证明有利的是抗蚀层设计为一种抗蚀刻层，其中，该抗蚀层，假如它作为一种正的光敏抗蚀层加以设计的话，在未曝光的区域中，假如它作为一种负的光敏抗蚀层加以设计的话，则在曝光的区域中，相对于一种侵蚀着待结构化的层的蚀刻剂具有很高的抗蚀能力，这种抗蚀能力足以基本上至少可以如此长时间地阻止蚀刻剂触及到待结构化的层的由抗蚀层所覆盖的区域，直到蚀刻剂已在所希望的区域中去除待结构化的层。上述所希望的区域指的是如果抗蚀层是作为正的光敏抗蚀层设计的话，则为曝光的区域；如果抗蚀层是作为负的光敏抗蚀层设计的话，则为未曝光的区域。可能的是，装饰层具有的厚度在0.5至5μm范围内。可能的是，装饰层具有颜料或高扩散性的色料，特别是一种Mikn>lith-K-颜料扩散剂。这一点主要在一种具有颜料成份的有色装饰层情况下是有利的。可能的是，在用于形成装饰层的材料中添加uv吸收剂，特别是如果这种材料中含有相当少的颜料或其它uv吸收成份的话。可能的是装饰层具有那些含有高的散射份额的无机吸收剂，特别是以无机氧化物为基的纳诺级的uv吸收剂。作为合适的氧化物已证明首先是具有高扩散形式的TiO2和加0，如这些氧化物也用在具有高的光线防护因素的防晒霜中。这些无机的紫外线吸收剂可导致实现高散射，因而特别适用于装饰层的一种不透明的、特别是丝绸不透明的着色。可能的是装饰层具有一些有机的吸收剂，特别是苯并三唑-衍生物，其质量百分比在大约3%至5%的范围内。合适的有机吸收剂有瑞士的巴塞尔Cik1公司销售的商品名称为Tinuvin的产品。可能的是装饰层具有与高扩散的色料、特别是Mikrolith-K相结合的发荧光的颜料或有机的或无机的发荧光的色料。通过这些发荧光的色料的激发，uv射线大部分已在装饰层中被滤出，从而该射线只有微不足道的很小一部分到达抗蚀层中。发荧光的颜料可以在多层体中用作为一种附带的安全特征。使用一种可UV敏化的抗蚀层，可提供下述优点通过在装饰层中使用一种在可见波长范围内透明的UV吸收剂，装饰层的在可见波长范围内的特性“颜色”可以与装饰层的所希望的、用于抗蚀层结构化的特性(例如在近UV区时是敏感的)加以分开，从而与所述至少一个待结构化的层的所希望的特性加以分开。由此在第一区和第二区之间便可达到一种高的反差，而与装饰层的视觉上可辨认的着色无关。可能的是，载体层设计成一种单层的或多层的载体薄膜。本发明提出的多层体的载体薄膜的厚度在12至ΙΟΟμπι范围内，这已证明是合适的。作为用于载体薄膜的材料例如可用PET(对苯二甲酸乙二醇聚酯)，但也可使用其它塑料如PEN(聚乙烯萘烷醇)或PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)。可能的是直接在载体层的第一侧面上布置一个或多个功能层，特别是剥离层和/或保护漆层。下面将参照附图以实施例对本发明做说明。附图表示图Ia在图中示出的多层体的第一制造步骤的示意截面图；图lb-c第一制造步骤的两个可供选择的设计的示意截面图；图Id在图Ia所示第一制造步骤的一个示意俯视图；图2在图8a中所示多层体的第二制造步骤的示意截面图；图加第二制造步骤的一个可供选择的设计的示意截面图；图3在图8a中所示多层体的第三制造步骤的示意截面图；图4在图8a中所示多层体的第四制造步骤的示意截面图；图5在图8a中所示多层体的第五制造步骤的示意截面图；图6在图8a中所示多层体的第六制造步骤的示意截面图；图7在图8a中所示多层体的第七制造步骤的示意截面图；图7a在图8a中所示的多层体的第八制造步骤的示意截面图；图8a本发明提出的一种多层体的第一个实施例的示意截面图，其是在使用一种正的光敏抗蚀层的条件下构成的；图8b本发明提出的一种多层体的另一个实施例的示意截面图；图9本发明提出的一种多层体的另一个实施例的示意截面图，其是在使用一种负的光敏抗蚀层的条件下构成的；图10本发明提出的一种多层体的另一个实施例的示意截面图；图lla-g装饰层的一些可能设计的示意图；图12本发明提出的一种多层体的另一个实施例的示意截面图；图13—种多层体的一个制造步骤的示意截面图；图14一种多层体的另一个制造步骤的示意截面图；图15不同UV吸收剂的透射光谱。具体实施例方式图Ia至图14都是示意地而且不是按准确比例地绘示的，以便保证清楚表明主要特征。图8a表示一种多层体100，该多层体包含一个载体层1，其具有一个第一侧面11和一个第二侧面12；—个被设置在载体层1的第一侧面11上的功能层2；—个被设置在功能层2上的装饰层3，装饰层具有在第一区8中形成的第一漆层31；—个与装饰层3毗邻的复制层4；一个被设置在复制层4上的结构化了的层5，其与第一漆层31套准；以及设置在复制层4和结构化了的层5上的补偿层10。载体层1是一种优选是透明的塑料薄膜，其厚度在8μm和125μm之间，优选在12至50μm范围内，尤其优选在16至23μm范围内。载体薄膜1可以作为一种用透光材料制成的、机械稳定和热稳定的薄膜，所述材料例如是ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯),BOPP(双轴向聚丙烯)、PEN、PC、当然优选用PET(对苯二甲酸乙二醇聚酯)。其中，载体薄膜1可以单轴或双轴地拉伸。此外还可以使载体薄膜1不仅由一个层构成，而且可由多个层构成。所以例如可能的是载体薄膜1除了具有一个塑料载体例如一个上述的塑料薄膜之外，还可具有一个剥离层，该剥离层可以实现由层2至6和10所构成的层组织从塑料薄膜的剥离，例如在采用多层体100作为热压印薄膜的情况下。功能层2可以包含一个剥离层，例如用热熔性的材料制成的剥离层，该剥离层使得载体薄膜1更易于从多层体100的被布置在剥离层2的背向载体薄膜1的一侧上的层上实现剥离。这一点是特别有利的，若多层体100是作为转移层加以设计的话，如它例如在一种热压印法或一种IMD-法(型内法)中所使用的。此外已证明有利的是，特别是在多层体100作为一种转移层的情况下，功能层2除了具有一个剥离层之外，还具有一个保护层、例如保护漆层。在多层体100与一种基底连接之后和在载体薄膜1从多层体100的被布置在剥离层2的背向载体薄膜1的一侧上的层剥离之后，保护层便形成被布置在基底的表面上的层的上层之一，并可保护被布置在其下的层免受磨耗、损伤、化学侵蚀，等等。多层体100可以是一个转移薄膜(例如一个热压印薄膜)的一个区段，该区段可利用一粘接层而布置在基底上。该粘接层优选是设置在补偿层10的背向载体层1的一侧上。粘接层可以是一种熔融粘合剂，它在热作用下熔化，并将多层体100与基底的表面连接起来。在多层体100设计成层合薄膜时，即没有用于将载体层1从多层体100的层上剥离出来的剥离层，可以附加于或替代粘接层将另一个载体薄膜布置在补偿层10的背向载体薄膜1的一侧上。这种由多层体100的两个居外侧的载体层和居内侧的层组成的层合体，例如还可以用于卡片复合体中的夹层，卡片复合体例如用聚碳酸酯制成。为此，有利的是载体薄膜用与卡片复合体的与层合体毗邻的层的同一种材料制成，例如也由聚碳酸酯制成。在功能层2上，在区域8中压印一个透明的有色的漆层31。“透明”的意思就是漆层31在可见的波长范围内至少是部分可透过射线的。“有色”的意思就是漆层31在充足的日光下显露出一种可见的色觉。无论是功能层2的印有漆层31的区域8还是未印有漆层的区域9都被一个复制层4所覆盖，该复制层将装饰层3的凹凸结构即是将印有漆层的区域8中和未印有漆层的区域9中的不同水平拉平。复制层4在一个第二区42中具有一个凹凸结构，该凹凸结构在一个第一区41中是没有的。套准地和在垂直于载体层1的平面进行观察时与漆层31完全重合地在复制层4上设置了一个薄的金属层5。无论是复制层4的以金属层5所覆盖的区域8或是复制层4的未被覆盖的区域9都以一个补偿层10加以覆盖，该补偿层将由于凹凸结构42和设置在区域8中的金属层5所造成的结构(如凹凸结构42、不同的层厚度、高度错位)拉平，即加以覆盖和填充，从而使多层体在补偿层10的背向载体薄膜1的侧面上具有一个平的基本上无凹凸结构的表面。若补偿层10具有与复制层4相似的折射率，即折射率差小于大约0.3的话，则在复制层4中的凹凸结构42的未被金属层5覆盖的、直接与补偿层10毗邻的区域便在光学上被消除了，这是因为在该处由于该两个层的相似折射率从而在复制层4和补偿层10之间已不再存在光学上可辨认的层界。图Ia至7a表示图8a中所示多层体100的各制造步骤。与图8a中所示相同的元件均用相同的参考代号表示。图Ia表示多层体100的第一个制造步骤100a，其中，在一载体薄膜1的第一侧面11上设置一个功能层2和一个装饰层3。功能层2的一个侧面与载体薄膜1毗邻，其另一侧面与装饰层3毗邻。装饰层3具有第一区8，在该第一区中构成一个漆层31；还具有第二区9，在该第二区中没有漆层31。漆层31是印在功能层2上的，例如通过丝网印刷、凹版印刷或胶版印刷。通过漆层31的分区域的形成(即限于第一区8)可得出装饰层3的一种图案式结构。图Id表示在垂直于载体薄膜1的平面观察时多层体100的在图Ia中所示第一制造步骤IOOa的俯视图。在全面积地布置在载体薄膜1上的功能层2上，在第一区8中印了漆层31，而功能层2的第二区9则没有压印漆层31，即被空出来。在图Ib中所示的实施例中，第一区8是由两个矩形面构成的。除了这种几何样式之外，配有漆层31的第一区8还可具有任一种形式，例如字符式标识、符号、徽标、细线条样式例如栅格，或花饰例如花纹，几何形的、图像的或形象的式样。在图Ib中示出一个截面Ia；在沿着箭头所示观察方向观察截面Ia时，便可获得图Ia中所示的截面图。图Ib示出本发明提出的一种多层体的第一制造步骤的另一种设计。与图Ia中所示实施例不同的是，按图Ib中所示实施例，装饰层3不是成形在载体薄膜1上，而是成形在载体薄膜1中。载体薄膜1是由三个层la、Ib和Ic构成的。两个外层Ia和Ic是用PC(聚碳酸酯)制成的。居中的中间层Ib是用一种塑料(例如含有添加剂的PC)制成的，该塑料在一定能量的激光射线作用下会显示出一种变色现象，即从一种透明的、无色的第一状态到一种透明的、有色的第二状态，即所谓的激光致黑。在激光辐射之后被移除后，该塑料也保留在一度已达到的第二状态。这表明载体薄膜1同时是装饰层又是载体。图Ic示出本发明提出的一种多层体的第一制造步骤的另一种设计。如同按图Ib中所示的实施例一样，按图Ic中所示的实施例，装饰层3也不是成形在载体薄膜1上，而是成形在载体薄膜1中。载体薄膜1由一种塑料制成，颜料/色料可扩散到该塑料中。为了形成装饰层3，载体薄膜1的第二表面12在第一区8中在一定时段内使之与一种材料相接触，从该材料中有色料可以扩散到载体薄膜1中。在此时段内，该色料的一部分便扩散到载体薄膜1中，从而使着色了的区域34以一定的层厚度形成。这表明载体薄膜1同时是装饰层和载体。图2示出多层体100的第二个制造步骤100b，该步骤是从图Ia中所示第一个制造步骤IOOa形成的，依此步骤，在功能层2上和在按区域地(即局限于第一区8)布置在功能层上的漆层31上加设了一个复制层4。其中，复制层可以是有机层，该有机层可通过传统的涂层方法(如印刷、浇注或喷射)以液态形式加设。复制层4的加设在这里是全面积地执行的。复制层4的层厚度是变化的，因为它将包括已印刷的第一区8和未被印刷的第二区9的装饰层3的不同水平加以均衡/加以拉平；在第一区8中复制层4的层厚度薄于在第二区9中的层厚度，所以复制层4的背向载体层1的侧面在第二区42中形成凹凸结构之前具有一个基本上无凹凸结构的表面。但也可以仅仅在多层体100的一个局部区域中加设复制层4。复制层4的表面是通过已知的方法而在第二区42中实施结构化的，复制层4在第一区41中则是不结构化的。为此，例如可以通过印刷、喷射或涂漆而加设一种热塑性的复制漆作为复制层4，并可利用一个加热了的轧印模或利用一个加热了的复印辊将第二区42中的一种凹凸结构仿制到特别可热硬化的/可热干燥的复制漆4中。所谓的复制层4也可以是一种可以UV-硬化的复制漆，该复制漆例如是可以通过复制辊加以结构化的，随后可利用UV射线加以硬化。但结构化也可以借助一种穿过曝光掩模的UV射线而产生。这样便可将第二区42成型到复制层4中。图加示出一种多层体的一个替代的第二制造步骤，该制造步骤是从图Ib中所示第一制造步骤形成的，依此，将一个凹凸结构42压印到载体薄膜1的第一侧面11中。这表明载体薄膜1同时是装饰层、载体和复制层。当然也还有供选择的方法只将一个凹凸结构压印到载体层1中，载体层1本身并不用作为装饰层。图3示出多层体100的第三个制造步骤100c，该制造步骤是从图2中所示第二制造步骤IOOb形成的，依此制造步骤，待结构化的层5被加设到复制层4上。这种待结构化的层5例如可以构成为一种气相喷镀的金属层，如银层或铝层。在这里，待结构化的层的加设是全面积地执行的。但也可以仅在多层体100的一个局部区域中加设，例如可利用一种局部屏蔽的气相喷镀掩模来执行。图4示出多层体100的第四个制造步骤100d，该制造步骤是从图3中所示的第三制造步骤IOOc形成的，依此制造步骤，在待结构化的层5上加设一个可光敏化的抗蚀层6。在本实施例中，该抗蚀层6是作为一种正的光敏抗蚀层加以成形的，即是作为这样一种抗蚀层设计的，在此抗蚀层中较强地被曝光的(=被光敏化的)区域在曝光后便被溶解。所谓抗蚀层6可以指的是一种有机的层，它可以通过传统的涂层方法如印刷、浇注或喷射以液态形式加设。也可做如下设定，抗蚀层6是气相喷镀而成的或者作为干燥的膜被层合的。所谓可光敏化的层6例如可以指的是一种正的光敏抗蚀层如Clariant公司生产的BAZ1512或AZP4620，或者Shipley公司生产的S1822，其以0.lg/m210g/m2优选以0.lg/m2至lg/m2的面积密度加设到待结构化的层5上。层厚度取决于所希望的清晰度和处理过程。这种加设在此设定成全面积的。但也可以仅在多层体100的一个局部区域中执行。图5示出多层体100的第五个制造步骤100d，依此制造步骤，将按第四个制造步骤IOOd获得的多层体100加以照射。电磁射线7(其具有适合于可光敏化的抗蚀层6的敏化的波长)从载体薄膜1的第二侧面12，即载体薄膜1的与载体薄膜1的加设抗蚀层6的那个侧面对置的一侧，透过多层体IOOd照射。该电磁射线用于第二区9中的可光敏化的抗蚀层6的敏化，在该第二区中装饰层3具有的透射率高于在第一区8中的透射率。利用电磁射线7进行照射的强度和持续时间是如此针对多层体IOOe进行协调的，使得该电磁射线7在第二区9中可导致实现可光敏化的抗蚀层6的敏化，相反在以漆层31加印的第一区8中则不导致可光敏化的抗蚀层6的敏化。业已证明有利的是，若在第一区8和第二区9之间通过漆层31所引起的反差大于2的话。还已证明有利的是，若漆层31如此加以设计，使得电磁射线7在透过整个多层体IOOe之后具有这样一个透射率比，即在第一区8和第二区9之间具有一个约为12的反差比。图6示出多层体100的一个“发展了的”第六制造步骤100e，该制造步骤是从图5中所示的第五制造步骤IOOd形成的，依此，一种显影溶液例如溶剂或浸液(特别是碳酸钠溶液或氢氧化钠溶液)已作用于被曝光的可光敏化的抗蚀层6的背向载体薄膜1的表面。这样，被曝光的抗蚀层6在第二区9中被去除。在第一区8中，抗蚀层6被保持，因为在该区中所吸收的射线量未导致一种充分的敏化。如前所述及的，在图6中所示的实施例中，抗蚀层6也是由一种正的光敏抗蚀层形成的。按这样一种光敏抗蚀层，被较强烈地曝光的区域9是可溶解在显影溶液例如溶剂中。相反地，按一种负的光敏抗蚀层，未曝光的或曝光不算强的区域8是可溶解在显影溶液中，如下文在图9中所示的实施例中还将进一步说明的。图7示出多层体100的第七个制造步骤IOOf，该制造步骤是从图6中所示第六个制造步骤IOOe形成的，依此，在第二区9中，待结构化的层5是通过一种蚀刻剂加以去除的。这一点之所以可能，是因为在第二区9中待结构化的层5不是通过用作为蚀刻掩模的抗蚀层6保护而免受蚀刻剂侵蚀的。所谓蚀刻剂例如可以指的是一种酸或碱。这样便形成了图7中所示的待结构化的层5的区域。图7a示出多层体100的第八个制造步骤100g，该制造步骤是从图7中所示第七个制造步骤IOOf形成的，依此，抗蚀层6的所保留的区域也得加以去除的(=加以“剥离”)。抗蚀层6的抗蚀剂通常在化学上只有很小的抵抗性，因为它在本方法中必然是可以被显影溶液侵蚀的。如果抗蚀层6的保留区域仍保存在于多层体上，则有可能使抗蚀层6的这些保留的区域减弱安全元件的稳定性和耐久性，例如在使用溶解剂或酸液或碱液的情况下对多层体产生一种致伪侵蚀时的现象那样。因此，只有完全去除抗蚀层6，方可避免上述缺点。某些抗蚀层对于溶剂的化学稳定性仅是很小的，即是很敏感的，这一点视具体情况也可以当作优点加以利用。在将多层体100加设到一种基底、特别是安全保险文件的表面上之后，便可利用溶剂按操作试验将抗蚀层连同一种使抗蚀层着色的颜料一起加以清洗掉。这种操作试验是可以通过抗蚀层的色彩改变看出来的。通过这种方式，待结构化的层5也就可以不需附加的工艺处理而相对于通过漆层31所确定的第一区8和第二区9套准精准地加以结构化。按传统的利用掩模曝光产生蚀刻掩模的方法，其掩模要么作为单独的单元例如作为单独的薄膜或单独的玻璃板/玻璃辊，要么作为后续印刷的层而存在，就会出现下述问题由于原先的特别是造成热负荷和/或机械负荷的处理步骤(如为了在复制层4中产生复制结构42)在多层体100中造成的线性的和/或非线性的畸变不能完全在多层体100的整个面积上加以补偿，即使掩模定位调准是按照在多层体的现有的边缘上尤其是在其水平的和/或垂直的边缘上所布置的套准记号或配合记号进行的，亦是如此。在此情况下，误差在多层体100的整个面积上在一个比较大的范围内波动。利用本发明提出的方法，便可使用通过漆层31所确定的第一区8和第二区9作为掩模，其中，漆层31按照如上所述制造多层体100所用的一个原先的工艺步骤予以加设。这样，在多层体100的整个面积上都不会出现附加的误差，也不会出现附加的误差波动，因为避免后续掩模的生产和避免与以前工艺过程无关的该掩模的由此所需的尽可能套准精准的定位。在采用本发明提出的方法时，误差或套准精准性仅在于通过漆层31所界定的第一区8和第二区9的颜色边缘的不绝对准确的走向，其质量是由相应所用的印刷方法决定的，大致在微米范围内，因而远在肉眼分辨能力之下，也就是说，未装备仪器的肉眼不再能觉察出所存在的误差。在图中所示的多层体100是从多层体100的在图7a中所示的制造步骤IOOg形成的，其中，将一个补偿层10加设到设置在第一区8中露出的、已结构化的层5上，以及加设到设置在第二区9中的、通过去除待结构化的层5和光敏抗蚀层6而露出的复制层4上。补偿层10的加设在这里是全面积地执行的。可能的是，补偿层10在第一区8中和在第二区9中分别是按不同的层厚度加设的，例如通过刮刷、印刷、喷射实现，从而使得补偿层10在其背向载体层1的那一侧上具有一个平的、基本上无凹凸结构的表面。补偿层10的层厚度是变化的，因为该补偿层将设置在第一区8中的已结构化的层5的和设置在第二区9中的露出的复制层4的不同水平加以补偿/拉平。在第二区9中所选择的补偿层10的层厚度大于在第一区8中的已结构化的层5的层厚度，所以补偿层10的背向载体层1的一侧具有一个平的表面。但也可以设定将补偿层10仅加设到多层体100的一个局部区域中。也可以在平的补偿层10上加设一个或多个其它的层，例如一个粘附层或粘接层。下述做法也是有利的，就是使粘附层或粘接层起到补偿层10的水平补偿的作用，从而不需要单独的补偿层10了。图8b示出在图8a中所示的多层体100的另一种结构，该结构是从图7a中所示多层体100的制造步骤IOOf成形的，依此，将一个补偿层10加设到抗蚀层6的保留在第一区8中的区域上，并加设到被布置在第二区9中的、通过去除待结构化的层5和光敏抗蚀层6而露出的复制层4上。与在图8a中所示的多层体100不同的是，图8b中所示的多层体也包含抗蚀层6的所保留的区域。图9示出本发明提出的一种替代设计的多层体100'，在该多层体的情况下与图8中所示的多层体100不同，代替一种正的光敏抗蚀层6而改用了一种负的抗蚀层6。这样，已结构化的层5和抗蚀层6不是如漆层31那样设置在第一区8中，而是设置在第二区9中。该替代设计的多层体100'的已结构化的层5和抗蚀层6当然如图8中所示的多层体100那样，与漆层31的区域8、9的区域边界处于套准地布置，但不是与漆层31完全重合，而是在漆层31的未被印刷的间隔9中。图10示出一种多层体100"，在该多层体的情况下装饰层3是由一个局部地形成的漆层31构成的，它被布置在载体薄膜1的第二侧面12上，其中，第二侧面12对置于载体薄膜1的第一侧面11，在该第一侧面上布置了已结构化的层5。图Ila至图Ilg示意地示出本发明提出的不同装饰层3的结构。分别示出一种具有一个下侧面和一个上侧面的载体薄膜1，在载体薄膜上按不同的布置设置一个包含第一区8和/或第二区9的装饰层3。按所示的各种结构，上侧面要么可以是本发明提出的多层体的第一侧面，要么可以是其第二侧面。在下文中若涉及到一个“第一漆层”和一个“第二漆层”时，则指的是两个不同设计的具有不同的透射率的漆层，例如具有不同的光学特性如颜色和/或具有不同的机械特性如弹性模量。两个第一漆层，关于它们已做了明确解释，它们具有彼此不同的层厚度，它们也具有不同的透射率。如若没有明确说明第一漆层的两个层元件具有不同的层厚度，则应由此断定它们是相同厚的而且具有同一的透射率。图Ila示出已在图10中所示的变体，其中，装饰层3是由一个在第一区8中被设置在载体薄膜1的上侧上的第一漆层31构成的，该漆层在第二区9中是不存在的。图lib示出一个变体，其中，装饰层3是由一个全面积地被设置在载体薄膜1的上侧上的第一漆层31构成，该漆层在第一区8中的厚度大于其在第二区9中的厚度。图Ilc示出一个变体，其中，装饰层3是由一个在第一区8中被设置在载体薄膜1的上侧上的第一漆层31和一个在第二区9中同样被设置在载体薄膜1的上侧上的第二漆层32构成的。漆层31和32例如可以是两个不同的有色漆层，或者是两个各自具有不同光学效应的漆层。图Ild示出一个变体，其中，装饰层3是由一个在第一区8中设置的第一漆层31构成，该漆层在第二区9中是不存在的。第一漆层包含两个层元件，其中，第一个层元件被设置在载体薄膜1的上侧上，第二个层元件被设置在载体薄膜1的下侧上。图lie示出一个变体，其中，装饰层3是由一个在第一区8中被设置在载体薄膜1的上侧上的、具有第一厚度的第一漆层31和一个在第二区9中被设置在载体薄膜1的下侧上的、具有第二厚度的第一漆层31构成的，该第二厚度小于第一厚度。图Ilf示出一个变体，其中，装饰层3是由一个在第一区8中被设置在载体薄膜1的上侧上的第一漆层31和一个在第二区9中被设置在载体薄膜1的下侧上的第二漆层32构成的。图Ilg示出一个变体，其中，装饰层3是由一个在第一区8中被设置在载体薄膜1的上侧上的第一漆层31和一个全面积地被设置在载体薄膜1的下侧上的第二漆层32构成的。图12示出一种多层体100'‘‘，其中，装饰层3是通过一个产生第一色觉的第一漆层31和一个产生第二色觉的第二漆层32所形成的，其中，这两个漆层31、32被设置在载体层1的同一侧上，处于功能层2和复制层4之间。图13示出一种多层体IOOa'，其中，装饰层3是由一个局部地加设的第一漆层31和一个全面积地加设在第一漆层上的第二漆层32所形成的，其中，两个漆层31、32被设置在载体层1的同一侧上。图14示出一种多层体100a"，其中，装饰层3是由一个全面积地加设在载体薄膜1的第二侧12上的第一漆层31和一个局部地加设在载体薄膜1的第一侧11上的第二漆层32所构成的。图15示出四个不同级的UV吸收剂的透射光谱，这些紫外线吸收剂可以存在于装饰层3的第一区8中，借以在第一区8中和在第二区9中形成一种不同的透射率。UV吸收剂以氯仿形式以0.00014mol/l的浓度存在。按百分率测量的透射率％T相对于在^0-410nm范围内的波长λ示出。线-点虚线A表示N，N'-二苯基乙二酰胺的透射；线-点-点虚线B表示羟基二苯甲酮的透射；线-线虚线C表示羟基苯-S-三氮烯的透射；实线D表示苯并三唑的透射。附图标记清单1载体层0127]IaUbUc(1的)层0128]2功能层0129]3装饰层0130]4复制层0131]5待结构化的或已结构化的层0132]6抗蚀层0133]7射线0134]8第一区0135]9第二区0136]10补偿层0137]11(1的)第--侧面0138]12(1的)第二二侧面0139]31(3的)第--漆层0140]32(3的)第二二漆层33、34着色层40(4的)表P41(4的)第--区，未结构化的42(4的)第二二区，已结构化的100多层体权利要求1.一种多层体(100)的制造方法，其中a)在具有第一侧面(11)和第二侧面(1的载体层(1)上和/或之中构成包含第一区(8)和第二区(9)的单层或多层的装饰层(3)，其中，垂直于载体层(1)的平面观察，装饰层(3)在第一区(8)中具有一个第一透射率并且在第二区(9)中具有一个大于第一透射率的第二透射率，所述的两个透射率都是针对具有适合于光敏化的波长的电磁射线(7)而言的；b)将至少一个待结构化的层(5)设置在载体层(1)的第一侧面(11)上；c)将能利用所述电磁射线(7)实现光敏化的抗蚀层(6)如此地设置在载体层⑴的第一侧面(11)上，使得该抗蚀层(6)被设置在所述至少一个待结构化的层(5)的背向载体层(1)的一侧上，并且将装饰层(3)设置在所述至少一个待结构化的层(5)的另外一侧上；d)利用所述电磁射线(7)从载体层(1)的第二侧面(1曝光所述抗蚀层(6)，其中，装饰层(3)通过第一区(8)和第二区(9)的设计而用作曝光掩模；并且e)利用彼此同步的、形成结构化的处理过程将所述至少一个待结构化的层(5)和抗蚀层(6)彼此配合精准地结构化。2.按权利要求1所述的方法，其特征在于装饰层C3)包含一个第一漆层(31)，该第一漆层在第一区(8)中以一个第一层厚度设置在载体层(1)上，并且在第二区(9)中没有层厚度或者以一个小于该第一层厚度的第二层厚度设置在载体层(1)上，从而使得装饰层(3)在第一区(8)中具有所述的第一透射率并且在第二区(9)中具有所述的第二透射率。3.按权利要求1或2所述的方法，其特征在于装饰层C3)包含载体层(1)的一个第一着色层(33，34)，该第一着色层在第一区(8)中具有一个第一层厚度，并且在第二区(9)中没有层厚度或者具有小于第一层厚度的第二层厚度，从而使得装饰层C3)在第一区(8)中具有所述的第一透射率并且在第二区(9)中具有所述的第二透射率。4.按以上权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于装饰层(3)的层厚度和材料是如此选择的，使得第一透射率大于零。5.按以上权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于装饰层(3)的厚度和材料是如此选择的，使得第二透射率和第一透射率的比率大于2。6.按以上权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于在载体层(1)和所述至少一个待结构化的层(5)之间，优选直接在载体层(1)的第一侧面上，设置至少一个功能层O)、特别是剥离层和/或保护漆层。7.按权利要求6所述的方法，其特征在于装饰层(3)的厚度和材料是如此选择的，使得在电磁射线(7)透过一个由载体层(1)、所述至少一个功能层(2)和所述装饰层(3)组成的层叠之后加以测量，电磁射线在第一区(8)中具有一个约为0.3的透射率并且在第二区(9)中具有一个约为0.7的透射率。8.按以上权利要求中任一项所述的方法，其特征在于在载体层(1)的第一侧面(11)上成形出至少一种凹凸结构(42)，并且所述至少一个待结构化的层(5)设置在所述至少一个凹凸结构02)的表面00)上。9.按权利要求8所述的方法，其特征在于在载体层(1)的第一侧面(11)上设置复制层G)，并且将所述至少一个凹凸结构G2)压印到复制层的一个背向载体层(1)的表面(40)中。10.按权利要求8所述的方法，其特征在于将所述至少一个凹凸结构02)压印到载体层(1)中。11.按权利要求8至10中任一项所述的方法，其特征在于将所述至少一个凹凸结构(42)至少部分地设置在第一区(8)中和/或第二区(9)中。12.按以上权利要求中任一项所述的方法，其特征在于在步骤e)之后将一个补偿层(10)加设到载体层(1)的第一侧面(11)上。13.按以上权利要求中任一项所述的方法，其特征在于将装饰层C3)的至少一个层加设在载体层(1)的第二侧面(1上。14.按权利要求13所述的方法，其特征在于装饰层(3)的被加设在载体层(1)的第二侧面(1上的所述至少一个层在曝光步骤d)后从载体层(1)上被去除。15.按以上权利要求中任一项所述的方法，其特征在于为了形成可光敏化的层(6)，使用一种正的光敏抗蚀层，在通过曝光实现光敏化时该光敏抗蚀层的可溶性增大，或者使用一种负的光敏抗蚀层，在通过曝光实现光敏化时该光敏抗蚀层的可溶性减小，并且在使用正的光敏抗蚀层时该抗蚀层(6)在第二区(9)中被去除，或者在使用负的光敏抗蚀层时该抗蚀层(6)在第一区(8)中被去除，所述去除优选通过溶剂来执行。16.按权利要求15所述的方法，其特征在于将已去除抗蚀层(6)的第一区或第二区(8,9)中的待结构化的层(5)去除，这种去除优选通过蚀刻剂来执行。17.按以上权利要求中任一项所述的方法，其特征在于为曝光步骤d)使用UV射线(7)，其辐射最大值优选在365nm范围内。18.多层体(100)，其包含载体层(1)，该载体层具有第一侧面(11)和第二侧面(12)；成形在载体层(1)上和/或之中的单层或多层的装饰层(3)，该装饰层具有第一区(8)和第二区(9)，其中，垂直于载体层(1)的平面观察，该装饰层C3)在第一区(8)中具有一个第一透射率并且在第二区(9)中具有一个大于第一透射率的第二透射率，所述的两个透射率都是针对具有适于光敏化的波长的电磁射线(7)而言的，多层体(100)此外还具有至少一个相对于第一区(8)和第二区(9)套准地结构化的层(5)。19.按权利要求18所述的多层体(100)，其特征在于多层体(100)在第一区(8)中或第二区(9)中包含能利用所述的电磁射线实现光敏化的抗蚀层(6)，其中，所述至少一个结构化的层(和抗蚀层(6)彼此配合精准地对齐地如此设置在载体层(1)的第一侧面上，使得抗蚀层(6)被设置在所述至少一个结构化的层(5)的背向载体层(1)的一侧上并且使得装饰层(3)被设置在所述至少一个结构化的层(5)的另一侧上。20.按权利要求18或19所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(包含一个第一漆层(31)，该第一漆层在第一区(8)中以一个第一层厚度设置在载体层(1)上并且在第二区(9)中没有层厚度或者以一个小于该第一层厚度的第二层厚度设置在载体层上，从而使得装饰层C3)在第一区(8)中具有所述的第一透射率并且在第二区(9)中具有所述的第二透射率。21.按权利要求18至20中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(包含载体层(1)的一个第一着色层(33，34)，该第一着色层在第一区(8)中具有一个第一层厚度并且在第二区(9)中没有层厚度或者具有小于第一层厚度的第二层厚度，从而使得装饰层(3)在第一区(8)中具有所述的第一透射率并且在第二区(9)中具有所述的第二透射率。22.按权利要求18至21中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(3)对于波长在大约为380-750nm范围内的可见光而言至少是部分地可透过的。23.按权利要求18至22中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(是用至少一种不透明的和/或至少一种透明的颜料加以着色的，所述颜料至少在电磁光谱的一个波长范围内是有色的或者是生色的，特别是彩色的或者是产生彩色的，尤其是在装饰层(3)中含有一种颜料，该颜料能够在可见光谱之外被激发并且产生一种视觉上可识别的有色印象。24.按权利要求18至23中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(是用至少一种黄色、紫红、青绿或黑色的颜料(CMYK)或者用红色、绿色或蓝色的颜料(RGB)加以着色的，和/或是利用至少一种能产生红色荧光和/或绿色荧光和/或蓝色荧光的、可被辐射激发的色料或颜料加以着色的，从而在照射时产生一种添加的色调。25.按权利要求18至M中任一项所述的多层体(100)，其特征在于第一透射率大于零。26.按权利要求18至25中任一项所述的多层体(100)，其特征在于第二透射率和第一透射率的比率大于2。27.按权利要求18至沈中任一项所述的多层体(100)，其特征在于在载体层(1)的第一侧面(11)上成形出至少一个凹凸结构(42)，并且将所述至少一个待结构化的层(5)设置在所述至少一个凹凸结构G2)的表面00)上。28.按权利要求27所述的多层体(100)，其特征在于在载体层(1)的第一侧面(11)上设置复制层G)，将所述至少一个凹凸结构G2)压印到复制层的一个背向载体层(1)的表面(40)中。29.按权利要求27所述的多层体(100)，其特征在于将所述至少一个凹凸结构02)压印到载体层(1)中。30.按权利要求27至四中任一项所述的多层体(100)，其特征在于将所述至少一个凹凸结构G2)至少部分地设置在第一区(8)中和/或在第二区(9)中。31.按权利要求18至30中任一项所述的多层体(100)，其特征在于在所述至少一个结构化的层(5)的背向载体层(1)的侧面上设置一个补偿层(10)。32.按权利要求观和31所述的多层体(100)，其特征在于在可见波长范围内，补偿层(10)折射率是复制层的折射率的90%-110%。33.按权利要求31或32所述的多层体(100)，其特征在于补偿层(10)设计成粘附层。34.按权利要求18至33中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(3)的至少一个层被设置在载体层(1)的第二侧面(1上。35.按权利要求18至34中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(包含至少两个引起不同色觉的漆层(31，32)。36.按权利要求18至35中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(包含一个第一漆层(31)和一个第二漆层(32)，该第一漆层只局部地加设在载体层(1)上，该第一漆层全面积地加设在载体层(1)上。37.按权利要求18至36中任一项所述的多层体(100)，其特征在于所述至少一个结构化的层(5)包括下列的层中的一个或多个金属层、HRI层、液晶层、聚合物层、薄膜层、颜料层、半导体层。38.按权利要求18至37中任一项所述的多层体(100)，其特征在于所述至少一个结构化的层(5)的厚度在20-1000nm范围内、特别在20-100nm范围内。39.按权利要求18至38中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(3)的厚度在0.5-5μm范围内。40.按权利要求19所述的多层体(100)，其特征在于抗蚀层(6)具有的厚度在0.3-3μm范围内。41.按权利要求18至40中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层C3)具有高扩散性的颜料、特别是Mikrolith-K-颜料扩散剂。42.按权利要求18至41中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(3)包含具有高散射份额的无机吸收剂、特别是以无机氧化物为基的纳诺级的UV吸收剂。43.按权利要求18至42中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(具有有机吸收剂、特别是苯并三唑衍生物，这种有机吸收剂的质量百分比在大约3%-5%的范围内。44.按权利要求18至43中任一项所述的多层体(100)，其特征在于装饰层(具有与高扩散性的颜料、特别是Mikrolith-K相组合的有机的或无机的发荧光的颜料。45.按权利要求18至44中任一项所述的多层体(100)，其特征在于载体层(1)设计成单层或多层的载体薄膜。46.按权利要求18至45中任一项所述的多层体(100)，其特征在于在载体层(1)和所述至少一个待结构化的层(5)之间，优选直接在载体层(1)的第一侧面上，设置至少一个功能层O)、特别是剥离层和/或保护漆层。全文摘要本发明涉及一种多层体(100)的制造方法以及采用本方法所制造出的一种多层体(100)。在载体层(1)上和/或在其中构成一个装饰层(3)。装饰层(3)具有一个第一区(8)和一个第二区(9)。垂直于载体层(1)的平面观察，装饰层(3)在第一区(8)中具有一个第一透射率，在第二区(9)中具有一个大于第一透射率的第二透射率。一个待结构化的层(5)和一个可光敏化的抗蚀层被设置在载体层(1)的第一侧面(11)上。在穿过装饰层(3)曝光抗蚀层时，该装饰层(3)用作为曝光掩模。所述至少一个待结构化的层(5)和抗蚀层利用彼此同步的、形成结构化的处理过程而相互配合精准地被结构化。文档编号B42D15/10GK102574411SQ201080038770公开日2012年7月11日申请日期2010年7月13日优先权日2009年7月17日发明者L·布雷姆,R·斯托布申请人:雷恩哈德库兹基金两合公司