专利名称：具有带液面传感器的过滤外壳的照相处理器的制作方法
技术领域：
本发明涉及照相处理器以及用于照相处理器的包括液面传感器的过滤装置。
背景技术：
传统的照相处理器一般配备有设置于再循环系统中的过滤装置。过滤装置可有效地过滤被再循环的处理溶液中的微粒。常规的过滤装置包括用于从洗片桶接收要再循环的处理溶液的入口和用于把过滤后的溶液送回洗片桶的出口。常规的过滤装置还包括用于当处理溶液在过滤装置中时对处理溶液加热的加热元件。加热元件通常连接到测量或者过滤装置的过滤外壳内的或者处理系统中某点的温度的传感器(参见例如美国专利No.5,701,540和5,753,111)。
常规过滤装置的缺点在于，加热元件对过滤外壳内的温度作出响应、而不对过滤外壳中处理溶液的液面作出响应。所以，不论过滤外壳中溶液的液面如何，常规过滤装置中的加热元件一直处在启动或接通状态。当过滤外壳内的溶液液面下降到容许液面以下、而加热元件仍然接通时，这导致过滤外壳的构件过热的问题。这会对过滤装置及其相关的处理设备的工作造成负面影响。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种具有包含克服了上述缺点的过滤外壳的过滤装置的照相处理器。更具体地说，本发明提供带有液面传感器的过滤外壳，设计该液面传感器来确保过滤外壳中处理溶液的液面处在适当的高度、从而防止过滤外壳的构件过热。
利用本发明的系统和方法，如果无论什么原因、过滤外壳内处理溶液的液面降低到容许高度以下，则加热元件会自动断开。这会防止当溶液降低到容许高度以下而溶液泵正在让处理溶液再循环时、由于过热而对过滤外壳或过滤装置的构件造成的任何损坏。
因而本发明涉及用于处理照相材料的处理装置。所述装置包括处理器；循环系统，它使处理溶液在该系统与处理器之间来回循环；设置在循环系统中的过滤装置，所述过滤装置包括其中带加热元件的过滤外壳；设置在过滤外壳上的液面传感器；以及与液面传感器和加热元件在工作上相联系的控制装置。控制装置适合于在过滤外壳中处理溶液下降到液面传感器所定义的过滤外壳上的高度以下时、断开加热元件。
本发明还涉及用于照相处理器的过滤装置。所述过滤装置包括适合于保存处理溶液的过滤外壳；用于加热过滤外壳中的处理溶液的加热元件；以及设置在过滤外壳上的预定高度处、大致确定过滤外壳中处理溶液的容许的最小高度的液面传感器。液面传感器适合于在过滤外壳中处理溶液的液面下降到预定高度以下时、向控制装置提供信号以便断开加热元件。
本发明还涉及处理光敏材料的方法。所述方法包括在其中有处理溶液的处理器中处理光敏材料；使处理溶液从处理器到过滤外壳循环；加热过滤外壳中的处理溶液；以及当过滤外壳中处理溶液的液面下降到预定高度以下时停止加热过滤外壳中的处理溶液。
本发明还涉及用于处理照相材料的处理装置，该装置包括处理器；适合于向处理器提供过滤后的处理溶液的过滤装置，所述过滤装置包括其中带有加热元件的过滤外壳；设置在过滤外壳上的液面传感器；以及与液面传感器和加热元件在工作上相联的控制装置。该控制装置适合于在过滤外壳中处理溶液下降到液面传感器定义的过滤外壳上的高度以下时、断开加热元件。
本发明还涉及处理光敏材料的方法，所述方法包括向过滤外壳提供处理溶液；当处理溶液在过滤外壳中时加热处理溶液；把处理溶液从过滤外壳提供给用于处理光敏材料的处理器；以及当过滤外壳中处理溶液的液面下降到预定高度以下时、停止加热过滤外壳中的处理溶液。
图1所示的处理装置7还包括由参考标号11指明的补给系统。补给系统11可以是例如、如美国专利No.5,701,540和5,753,111中所公开的补给装置。在处理器9中处理溶液的浓度变低或用完时，补给系统11能有效地补充处理器9中的处理溶液。
图1中还示出过滤装置14。过滤装置14可以选择性地设计成经由例如导管或流体管道15从补给系统11接收补给溶液，并且经由例如导管或流体管道17将溶液送到处理器9。
图1中还公开了由参考标号19一般地标识的循环系统。循环系统19主要包括经由处理器9底部的开口接收处理溶液的导管或流体管道21。导管19将溶液引到过滤装置14。过滤装置14有效地过滤经由导管21和/或导管15接收的处理溶液之中的杂质。过滤装置14还包括用于当处理溶液在过滤装置14中时对其加热的加热元件25。过滤后，溶液通过导管17循环到处理器9。
在本发明的一个特征中，过滤装置14包括液面传感器27。液面传感器27设置在过滤装置14的外壳上的预定高度处，并且与液面高度检测电路29在工作上相联系。图1中还示出，固态继电器33与加热元件25在工作上相联系，以便为加热元件25提供电力。液面高度检测电路29和固态继电器33都由中央处理器(CPU)30来控制。还应指出，补给系统11可由CPU30来控制或者由另一个CPU以已知方式来控制，以便按照处理器9的需要来计量适量的补给溶液。
参照其中详细地以图解来说明过滤装置14的图2，应当指出，液面传感器27安装在或者设置在过滤装置14的过滤外壳40上的特定高度处。更具体地说，液面传感器27大致设置在外壳40中处理溶液的最小容许高度处，从而防止过滤装置14的元件过热。过滤装置所用的构件的实例可参见美国专利第5,701,540和5,753,111号。因此，当处理溶液经由例如入口21a从管路21或管路15进入过滤外壳40时，过滤外壳40内的处理溶液维持在由液面传感器27的高度标明的最小高度43。过滤后，溶液经过滤外壳40的出口通道17a和管路17循环到处理器9。
一般来说，最小高度43最好与处理器9中处理溶液的液面大致相配或相互关联。如果过滤外壳40内的处理溶液降到高度43以下，则液面传感器27经由例如信号线47(图1)向液面高度检测电路29提供一个信号，指出过滤外壳40内的处理溶液的液面已降至容许的最小高度43以下。这个低液面信号随后通过例如信号线49提供给CPU30。一旦接收到低液面信号，CPU30通过信号线51提供指令，从而断开固态继电器33，这样则使加热元件25与电源断开。
因此，利用本发明的系统，无论何时由于任何原因、过滤外壳40中的处理溶液降到最小高度43和/或液面传感器27定义的高度以下，至少包括液面高度检测电路29，CPU30和固态继电器33的控制装置被启动从而断开加热元件25。利用这种装置，无论何时过滤外壳40内的处理溶液降到容许的最小高度43以下，通过断开加热元件25避免了过滤装置或外壳的构件过热。应当指出，按照中央处理器发出的指令接收并处理信号的液面高度检测电路29和固态继电器33可以为已知元件。
关于液面传感器27，在本发明的一个特征中，液面传感器27可以被模制到过滤外壳40中。图2示出液面传感器27的一种最佳结构。在一个实施例中，液面传感器27可包括其中带螺栓27a的外壳27c。液面传感器27还可包括设置在过滤外壳40内的暴露的金属27b。该金属最好是不会渗透过滤外壳中溶液的导电金属、如不锈钢。来自液面传感器27的信号可经由连接到图1所示信号线47的电线60提供。另外，如图2所示，加热元件25可以通过一条通往固态继电器33的导线62来供电。
因此，本发明提供了包括设置在例如循环系统中的过滤装置14的处理装置。过滤装置14包括在过滤外壳40上的液面传感器27，后者设置在过滤外壳40上的预定高度处、以便大致确定过滤外壳40中处理溶液的容许最小高度。至少包括液面高度检测电路29、CPU 30和固态继电器33的控制装置与液面传感器27和加热元件25在工作上相联系。当过滤外壳40中处理溶液下降到液面传感器27在过滤外壳40上确定的高度以下时，更具体地说，降到大致定义了过滤外壳中处理溶液的容许最小高度的过滤外壳40上的预定高度以下时，该控制装置适合于断开加热元件25。
本发明还提供一种处理光敏材料的方法，其中在处理光敏材料的过程中，加热元件25可以在过滤外壳40中处理溶液下降到预定高度以下时被断开。
本发明还提供了包括CPU30、液面高度检测电路29和固态继电器33的再循环系统，其中液面高度检测电路29可从液面传感器27接收指示过滤外壳40中溶液低液面的低液面信号。
利用本发明的方案，有可能防止过滤装置的构件过热。更具体地说，胜于对过滤外壳中温度作出响应、且一直工作或接通的加热元件，本发明的加热元件对过滤外壳中的处理溶液的液面作出响应，并且无论何时过滤外壳中处理溶液的液面下降到容许的最小高度以下都可以自动地断开。
权利要求
1.一种用于处理照相材料的处理装置(7)，所述装置包括处理器(9)；使处理溶液来回在所述处理器与其之间循环的循环系统；设置在所述循环系统中的过滤装置(14)，所述过滤装置包括其中带加热元件的过滤外壳；设置在所述过滤外壳上的液面传感器(27)；以及与所述液面传感器和所述加热元件在工作上相联系的控制装置(30，29，33)，所述控制装置适合于在所述过滤外壳中的处理溶液下降到由所述液面传感器确定的所述过滤外壳上的某个高度以下时、断开所述加热元件。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述液面传感器设置在所述过滤外壳上的预定高度处，它大致确定了所述过滤外壳中处理溶液的容许的最小高度。
3.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述控制装置包括在工作上与所述液面传感器相联系的液面高度检测电路；向所述加热元件提供电力的固态继电器；以及在工作上与所述液面高度检测电路和所述固态继电器相联系的中央处理器；其中，当所述过滤外壳中的溶液下降到所述液面传感器的所述高度以下时所述液面高度检测电路接收来自所述液面传感器的信号，并且向所述中央处理器提供一个低溶液液面信号；所述中央处理器从所述液面高度检测电路接收所述低溶液液面信号并且响应所述信号而断开所述固态继电器；以及所述固态继电器断开所述加热元件的电源。
4.如权利要求2所述的装置，其特征在于所述预定高度与所述处理器中处理溶液的高度大致相配。
5.一种用于照相处理器的过滤装置，所述过滤装置包括其中适合容纳处理溶液的过滤外壳(40)；用于加热所述过滤外壳中的处理溶液的加热元件(25)；以及设置在所述过滤外壳的预定高度处的液面传感器(27)，它大致确定了所述过滤外壳中处理溶液的容许的最小高度，所述液面传感器适合于在所述过滤外壳中处理溶液的高度下降到所述预定高度以下时、向控制装置提供信号以断开所述加热器。
6.如权利要求5所述的过滤装置，其特征在于所述液面传感器模制在所述过滤外壳的一侧中。
7.一种处理光敏材料的方法，所述方法包括在其中盛有处理溶液的处理器中处理光敏材料；使所述处理溶液从所述处理器到过滤外壳循环；当处理溶液在所述过滤外壳中时对所述处理溶液加热；以及当所述过滤外壳中处理溶液的高度下降到预定高度以下时，停止加热所述过滤外壳中的所述处理溶液。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于所述加热步骤包括将加热元件放置到所述过滤外壳中。
9.一种用于处理光敏材料的处理装置，所述装置包括处理器(9)；适合于向所述处理器提供过滤后的处理溶液的过滤装置(14)，所述过滤装置包括其中带加热元件的过滤外壳；设置在所述过滤外壳上的液面传感器(27)；以及在工作上与所述液面传感器和所述加热元件相联系的控制装置(30，29，33)，所述控制装置适合于当所述过滤外壳中的处理溶液下降到所述液面传感器所确定的所述过滤外壳上的某个高度以下时、断开所述加热元件。
10.一种处理光敏材料的方法，所述方法包括向过滤外壳提供处理溶液；当处理溶液在所述过滤外壳中时加热所述处理溶液；从所述过滤外壳向用于处理光敏材料的处理器提供所述处理溶液；以及当所述过滤外壳中的所述处理溶液的高度下降到预定高度以下时、停止加热所述过滤外壳中的所述处理溶液。
全文摘要
一种处理装置、方法和再循环系统利用了过滤装置(14)的过滤外壳(40)中的液面传感器(27)。该液面传感器适合于向至少包括液面高度检测电路(29)、中央处理器(30)和固态继电器(33)的控制装置提供信号。该控制装置适合于无论何时过滤外壳中的溶液如液面传感器所定义的下降到处理溶液的最小容许高度以下、就断开过滤装置的加热元件。利用此发明的方案,有可能使过滤外壳中的再循环和/或补给的处理溶液维持在最小容许高度,无论何时溶液降低到这种高度以下、就断开加热元件、以便避免过滤装置的构件过热。
文档编号G03D3/00GK1360226SQ01143788
公开日2002年7月24日 申请日期2001年12月21日 优先权日2000年12月22日
发明者小R·L·皮茨尼诺, W·D·福利, D·C·达维斯 申请人:伊斯曼柯达公司