专利名称：具有掩模版清洁功能的曝光机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及曝光机中清洁掩模版的技术领域，特别涉及一种具有掩模版清洁功能的曝光机。
背景技术：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管-液晶显示器)制造行业中，光掩模版是光刻工艺的关键部件，在光刻工艺中，利用具有设计图案的光掩模版和紫外光对涂有光刻胶的基板进行曝光，可以将光掩模版上的图案转写到基板上。实际TFT-LCD生产工艺中，需要反复几次的光刻才能完成薄膜晶体管阵列和彩膜基板的制作。由于光掩模版的图案是按照1 1的比例转写到基板上，光掩模版上的缺陷在曝光转写后很容易引起产品图案的缺陷，从而影响产品的可靠性或者导致产品的优良率下降。由于光掩模版上有着微米级的图案，生产环境或者生产过程中存在的异物颗粒很容易附着在掩模版的表面和背面，直接导致曝光图形的缺陷。一般的制造厂商都是在定期对光掩模版的表面和背面进行异物情况确认后，或是发现曝光后的产品出现图像缺陷的情况下才会对掩模版进行简单的清洁。现有的清洁掩模版的方法一般采用停止工艺进度，单独将掩模版从曝光机内取出后进行单独清洗。这种清洁掩模版的方式，操作起来费时费力，容易造成掩模版的破损，并且清洁效率低下。位于曝光机中的掩模版不能得到实时清洁，不能从根源上保证光掩模上下表面的洁净度，导致掩模版上下表面容易附着异物，进而导致产品出现大批量重复性的图形缺陷，浪费加工成本。
实用新型内容(一)要解决的技术问题本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术中只有当产品图案出现缺陷后才清洁掩模版，并且清洁掩模版时操作复杂，费时费力，容易造成掩模版破损等缺点。( 二 )技术方案为了解决上述问题，本实用新型提供一种具有掩模版清洁功能的曝光机，包括曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。进一步地，所述清洁装置为吹风刀和/或吸风刀。进一步地，所述输送通道的起点为曝光机中掩模版入口处，将吹风刀安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；所述吹风刀产生的气流方向与掩模版进入曝光机的方向相反。进一步地，所述输送通道的终点为曝光机中放置掩模版的基台，将吹风刀和吸风刀相对安装在曝光机中放置掩模版基台的上方和/或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在基台上进行扫描的方向相反。进一步地，所述输送通道中还包括设置在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道，将吹风刀和吸风刀相对安装在感应传感器之间形成的输送通道的上方和 /或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在薄膜颗粒检测装置中进行扫描的方向一致。进一步地，所述清洁装置为自吸式吸尘部件，所述自吸式吸尘部件具有吸气端。所述自吸式吸尘部件安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；或者安装在放置掩模版基台的上方和/或下方；或者安装在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道的上方和/ 或下方。(三)有益效果本实用新型提供的具有掩模版清洁功能的曝光机，通过在曝光机内部不同位置安装清洁装置的方法，可以有效去除掩模版表面和/或背面附着的异物，提高掩模版的清洁度，同时不影响曝光机腔室内部的气流分布。
图1为本实用新型具有掩模版清洁功能的曝光机中入口处位置结构示意图；图2为本实用新型具有掩模版清洁功能的曝光机中基台位置结构示意图；图3为本实用新型具有掩模版清洁功能的曝光机中薄膜颗粒检测装置位置结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。实施例1如图1所示，该具有掩模版清洁功能的曝光机，在输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。其中，输送通道的起点为曝光机中掩模版5的入口处1，输送通道的终点为曝光机中放置掩模版5的基台2(参见图2、。本实施例中的掩模版5由表面为石英基板层和背面为高聚酯的保护膜组成。本实施例中，掩模版清洁装置采用吹风刀41和/或吸风刀42。在输送掩模版的输送通道的起点，即在曝光机的掩模版5的入口处1安装吹风刀41，设置该吹风刀41产生的气流方向与掩模版进入曝光机的方向相反。如图1中箭头的指示方向即为吹风方向，吹风刀41的吹风方向可吹向曝光机的外部，这样可以有效的去除掩模版5进入曝光机时表面和 /或背面上附着的异物颗粒，确保掩模版5进入曝光机前具有较高的清洁度，防止由于掩模版5不清洁而导致产品图像出现缺陷。由于吹风刀41的气流没有进入到曝光机腔室中，因此，不会影响到曝光机腔室的内部气流分布。如图2所示，输送掩模版的输送通道的终点，即曝光机中放置掩模版的基台2，基台2的上方和/或下方分别相对安装吹风刀41和吸风刀42，确保吹风刀41产生的气流方向与掩模版5在基台2上的扫描方向相反，如图2中的箭头指向方向。相对安装的吹风刀 41和吸风刀42，可确保吹风刀41吹出的气流可被吸风刀42回收起来，进而不会影响到曝光机腔室内部的气流分布。当掩模版5在进行扫描的同时，吹风刀41和吸风刀42对掩模版5的表面和/或背面实时进行清洁，确保掩模版5在基台2上运动而不会有异物颗粒掉落在掩模版5的表面和/或背面，进而防止由于掩模版5不清洁而导致产品图像出现缺陷。如图3所示，薄膜颗粒检测装置为曝光机中可选择安装的部件，若曝光机内部安装薄膜颗粒检测装置，则在掩模版5进行曝光作业前，可以采用薄膜颗粒检测装置对掩模版5的表面和/或背面进行异物颗粒的检测。在薄膜颗粒检测装置内装有的感应传感器3 之间形成输送通道。在该输送通道的上方和/或下方相对安装吹风刀41和吸风刀42，吹风刀41和吸风刀42间形成的气流方向与掩模版5在薄膜颗粒检测装置中进行扫描的方向一致，如图3中的箭头指向方向。相对安装的吹风刀41和吸风刀42，可确保吹风刀41吹出的气流可被吸风刀42回收起来，进而不会影响到曝光机腔室内部的气流分布。当掩模版进行扫描的过程中，通过吹风刀41和吸风刀42可以将掩模版5的表面和/或背面进行处理，去除异物颗粒，保证进入曝光工艺中的掩模版5具有较高的清洁度。实施例2本实施例中的掩模版清洁装置采用自吸式除尘部件，该自吸式除尘部件具有单向的吸气端，该自吸式除尘部件具有叶片，通过电动机带动叶片高速旋转，在密封的壳体内产生空气负压，来吸取掉掩模版表面和/或背面的异物。本实施例中的自吸式吸尘部件可以安装在掩模板入口处，可以安装在放置掩模版的基台处，也可以安装在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道处。并且， 可以在上述三处之中的任意一处、两处安装或者三处同时安装，安装的具体位置与实施例1 相同。当然，除了上述实施例以外，也可以采用本领域公知的其他方式代替前述的风刀和自吸式除尘部件，来实现清除掩模版表面和/或背面的灰尘或异物。本实用新型提供的具有掩模版清洁功能的曝光机，通过在曝光机内部不同位置安装清洁装置的方法，可以有效去除掩模版表面和/或背面附着的异物，提高掩模版的清洁度，减少由于掩模版上灰尘造成的画像缺陷，同时不影响曝光机腔室内部的气流分布。以上实施方式仅用于说明本实用新型，而并非对本实用新型的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本实用新型的范畴，本实用新型的专利保护范围应由权利要求限定。
权利要求1.一种具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，包括曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装掩模版清洁装置。
2.如权利要求1所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述清洁装置为吹风刀和/或吸风刀。
3.如权利要求2所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述输送通道的起点为曝光机中掩模版入口处，将吹风刀安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；所述吹风刀产生的气流方向与掩模版进入曝光机的方向相反。
4.如权利要求2所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述输送通道的终点为曝光机中放置掩模版的基台，将吹风刀和吸风刀相对安装在曝光机中放置掩模版基台的上方和/或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在基台上进行扫描的方向相反。
5.如权利要求1所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述输送通道中还包括设置在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道，将吹风刀和吸风刀相对安装在感应传感器之间形成的输送通道的上方和/或下方，所述吹风刀产生的气流方向与掩模版在薄膜颗粒检测装置中进行扫描的方向一致。
6.如权利要求1所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述清洁装置为自吸式吸尘部件，所述自吸式吸尘部件具有吸气端。
7.如权利要求6所述的具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，所述自吸式吸尘部件安装在曝光机中掩模版入口处的上方和/或下方；或者安装在放置掩模版基台的上方和/或下方；或者安装在薄膜颗粒检测装置内的感应传感器之间形成的输送通道的上方和/或下方。
专利摘要本实用新型涉及曝光机中清洁掩模版的技术领域，具体公开了一种具有掩模版清洁功能的曝光机。该具有掩模版清洁功能的曝光机包括曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。本实用新型提供的具有清洁功能的曝光机，通过在曝光机内部不同位置安装清洁装置的方法，可以有效去除掩模版表面和/或背面附着的异物，提高掩模版的清洁度，同时不影响曝光机腔室内部的气流分布。
文档编号G03F7/20GK202003138SQ201120081548
公开日2011年10月5日 申请日期2011年3月24日 优先权日2011年3月24日
发明者孙亮, 孟春霞, 林承武, 秦颖, 郝昭慧 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司