显影剂承载构件、其制造方法和显影装置制造方法
【专利摘要】本发明提供一种显影剂承载构件，其即使在使用高摩擦带电性显影剂的情况下，其也可长期保持高图像质量。所述显影剂承载构件具有基体和表面层。所述表面层是含有粘结剂树脂、导电性颗粒、季鏻盐和偶氮系金属配位化合物的树脂组合物的固化产物，所述粘结剂树脂在分子结构中具有选自由-NH2基团、=NH基团和-NH-键组成的组中的至少一种结构，和所述偶氮系金属配位化合物是由说明书中定义的式(1)表示的化合物。
【专利说明】显影剂承载构件、其制造方法和显影装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及用于利用电子照相法的图像形成装置如复印机和打印机的显影剂承载构件，其制造方法和使用所述显影剂承载构件的显影装置。
【背景技术】
[0002]近年来，为了满足形成更高图像质量的电子照相图像的要求，显影剂的粒径正变得更小。粒径小的此类显影剂的每单位质量的颗粒表面积变大。因此，显影剂在显影步骤中倾向于具有大的表面电荷。同时，为了保持显影剂的低消耗量，已开始使用球形颗粒显影齐U。与仅仅粉碎的颗粒显影剂相比，此类显影剂的颗粒表面已变得平滑，趋于过度静电带电，从而趋于导致不稳定的带电量。结果，它们具有趋于引起不良图像如套筒重影和浓度不均匀的倾向。
[0003]在专利文献I中，报道了一种方法，其中将铁配位化合物添加至显影剂承载构件的表面层以控制显影剂的带电量。
[0004]在专利文献2中，公开了一种显影剂承载构件，其具有含有特定季鱗盐和特定树脂的表面层，并报道了一种方法，通过该方法防止已成为球形颗粒的显影剂和通过聚合法制造的负带电性显影剂任何过度带电如过度充电(charge-up)。
[0005]引文列表
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本专利申请特开H5-346727
[0008]专利文献2:日本专利申请特开2010-055072
【发明内容】
_9] 发明要解决的问题
[0010]然而，专利文献I的目的是通过促进对于显影剂的摩擦带电来改进显影性能。因此，有时出现这种情况:使容易带电的显影剂更多地进行过度充电，因而有时不可能抑制显影剂过度摩擦带电并由此形成良好的图像。
[0011]对于专利文献2中公开的显影剂承载构件，其可以抑制显影剂进行过度充电，且可以具有更加稳定的电荷赋予性能。然而，特别是大量添加季鱗盐以抑制容易带电的显影剂过度带电时，表面层的体积电阻率增大，趋向于导致套筒重影。此外，表面层可能会具有低耐磨耗性，因而已经寻求进一步的改进。
[0012]此外，近年来，对在其连续使用时保持图像浓度、抑制套筒重影发生且抑制污迹(blotches)(由向显影剂的摩擦带电赋予不良而引起的斑点图像或波型图像)发生的电子照相装置的需求日益增加。在这种情况下，寻求在连续使用过程中对显影剂承载构件表面的摩擦带电的控制的进一步改进。
[0013]因此，本发明的目的是提供一种显影剂承载构件，在其表面上通过控制显影剂的摩擦带电可使显影剂稳定，并且即使在使用高摩擦带电性显影剂的情况下，所述显影剂承载构件也可长期保持高图像质量；并提供此类显影剂承载构件的制造方法。本发明的另一目的是提供一种有助于长期稳定形成高品质电子照相图像的显影装置。
[0014]用于解决问题的方案
[0015]根据本发明，提供一种显影剂承载构件，其是具有基体和表面层的显影剂承载构件；所述表面层是含有粘结剂树脂、导电性颗粒、季鱗盐和偶氮系金属配位化合物的树脂组合物的固化产物；
[0016]所述粘结剂树脂在分子结构中具有选自由-NH2基团、=NH基团和-NH-键组成的组的至少一种结构，和所述偶氮系金属配位化合物是由下式(I)表示的化合物:
[0017]式(I)
[0018]
【权利要求】
1.一种显影剂承载构件，其包括基体和表面层； 其中: 所述表面层是含有粘结剂树脂、导电性颗粒、季鱗盐和偶氮系金属配位化合物的树脂组合物的固化产物； 和其中: 所述粘结剂树脂在其分子结构中具有选自由-NH2基团、=NH基团和-NH-键组成的组中的至少一种结构；和所述偶氮系金属配位化合物是由下式(I)表示的化合物:
2.根据权利要求1所述的显影剂承载构件，其中所述偶氮系金属配位化合物是由下式(2)表不的化合物: 式⑵
3.根据权利要求1或2所述的显影剂承载构件，其中所述季鱗盐是由下式(3)表示的盐:
4.一种显影装置，其包括:负带电性显影剂，容纳所述负带电性显影剂的显影剂容器，承载和输送所述负带电性显影剂的、可被旋转地保持的显影剂承载构件，和用于调节形成于所述显影剂承载构件上的负带电性显影剂层的层厚度的显影剂层厚度调节构件； 所述显影剂承载构件是根据权利要求1-3任一项所述的显影剂承载构件。
5.根据权利要求4所述的显影装置，其中: 所述显影剂是磁性单组分显影剂； 在所述显影剂承载构件的内部中设置磁体；和 所述显影剂层厚度调节构件是磁性刮板。
6.根据权利要求4所述的显影装置，其中: 所述显影剂是磁性单组分显影剂； 在所述显影剂承载构件的内部中设置磁体；和 所述显影剂层厚度调节构件是弹性刮板。
7.根据权利要求4所述的显影装置，其中: 所述显影剂是非磁性单组分显影剂；和 所述显影剂层厚度调节构件是弹性刮板。
8.—种显影剂承载构件的制造方法，所述显影剂承载构件包括基体和表面层；所述方法包括下述步骤: 在所述基体上形成至少含有粘结剂树脂、导电性颗粒、季鱗盐和由下式(I)表示的偶氮系金属配位化合物的涂料的涂膜，所述粘结剂树脂在其分子结构中具有选自由-NH2基团、=NH基团和-NH-键组成的组中的至少一种结构；和固化所述涂膜以形成所述表面层: 式⑴
【文档编号】G03G15/08GK103890663SQ201280051621
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2012年10月31日 优先权日:2011年10月31日
【发明者】伊藤稔, 岛村正良, 明石恭尚, 大竹智, 松田拓真, 若林和仁, 野口敦史, 森裕纪 申请人:佳能株式会社