电润湿显示面板及电润湿显示面板制备方法、显示装置制造方法
【专利摘要】本发明属于显示【技术领域】，具体涉及一种电润湿显示面板及电润湿显示面板制备方法、显示装置。一种电润湿显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和所述第二基板相应划分为多个子像素区，所述第一基板和所述第二基板之间、对应着相邻所述子像素区的间隙区设置有挡墙，所述挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料形成。该电润湿显示面板的结构简单，挡墙具有较好的附着性；且在制备过程中无需为增加挡墙的附着性而制备疏水介电层中的开孔，简化了制备工艺。
【专利说明】电润湿显不面板及电润湿显不面板制备方法、显不装直
【技术领域】
[0001]本发明属于显示【技术领域】，具体涉及一种电润湿显示面板及电润湿显示面板制备方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示由于其自身显示原理的限制，存在能耗较高、响应速度较慢、可视角小、颜色转换率低以及对比度低等缺点，急需新的显示技术来为人们提供更好的观看体验。电润湿显示技术应运而生，电润湿显示因其具有较高的黑/白反射率、高颜色转换率、高对比度、大可视角以及快速响应等优点，而被认为是未来可能取代液晶显示的新一代显示技术。
[0003]电润湿显示技术是一种借助控制电压变化来控制被包围的液体的流向而导致像素的变化的技术。电润湿显示面板中，如图1所示，相对设置的上基板和下基板之间设置有挡墙6(wall),挡墙6之间填充有油墨7和盐溶液8。目前,用于形成挡墙的材料通常为采用具有亲水性质的SU8光刻胶。在电润湿显示面板中，下基板I的衬底3上方依次形成亲水基底4和疏水基底5。为了形成挡墙6、且使得挡墙6具有较好的附着性，目前常采用的制备方法是采用掩模(mask)曝光、显影工艺在下基板I的疏水基底5中开孔，然后将具有亲水性质的SU8光刻胶设于开孔中，从而将挡墙6的底部制备在亲水基底4上，加强挡墙6与亲水基底4的亲水材料的附着性，不至于因为附着力不够而产生剥离。
[0004]可见，为了形成能使具有亲水性质的挡墙与亲水基底直接接触的开孔，必然多采用一次曝光、显影工艺，这无疑使得电润湿显示面板的制备工艺步骤增多，增加了制备的复杂性,也相应地增加了制备成本。
【发明内容】
[0005]本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种电润湿显示面板及电润湿显示面板制备方法、显示装置，该电润湿显示面板的结构简单，挡墙具有较好的附着性；且在制备过程中无需为增加挡墙的附着性而制备疏水介电层中的开孔，简化了制备工艺。
[0006]解决本发明技术问题所采用的技术方案是该电润湿显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和所述第二基板相应划分为多个子像素区，所述第一基板和所述第二基板之间、对应着相邻所述子像素区的间隙区设置有挡墙，所述挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料形成。
[0007]优选的是，所述挡墙采用四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物形成，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物含有疏水全氟长链和悬挂在氟链上的亲水磺酸基团。
[0008]优选的是，所述第一基板包括具有亲水性质的第一电极层，所述第二基板包括具有亲水性质的第二电极层以及设置于所述第二电极层靠近所述第一基板侧的疏水介电层，所述挡墙设置于所述疏水介电层与所述第一电极层之间；相邻的所述挡墙形成的腔室内填充有疏水性材料，所述第一电极层与所述疏水性材料之间填充有亲水性溶液。
[0009]优选的是，所述第一电极层采用ITO材料；所述第二电极层采用ITO材料，所述疏水介电层采用含氟聚合物或树脂材料；所述疏水性材料采用油墨，所述亲水性溶液采用含有K+离子和/或Na+离子的盐溶液。
[0010]优选的是，所述挡墙的厚度小于所述第一基板与所述第二基板之间的距离，所述挡墙的厚度范围为1-100 μ m。
[0011]一种显示装置，包括上述的电润湿显示面板。
[0012]一种电润湿显示面板制备方法，包括在第一基板和第二基板之间、对应着相邻子像素区的间隙区形成挡墙的步骤，所述挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料，通过构图工艺形成。
[0013]优选的是，所述挡墙采用四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物形成，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物含有疏水全氟长链和悬挂在氟链上的亲水磺酸基团。
[0014]优选的是，形成所述挡墙的步骤具体包括:
[0015]步骤SI):在所述第二基板上方形成挡墙膜层；
[0016]步骤S2):对所述挡墙膜层进行烘干；
[0017]步骤S3):在所述挡墙膜层上方形成遮挡层，使所述遮挡层形成包括挡墙的图形；
[0018]步骤S4):对完成步骤S3)的所述挡墙膜层进行显影，使所述挡墙膜层形成所述挡m ;
[0019]步骤S5):去除所述遮挡层。
[0020]优选的是，采用喷墨工艺形成所述挡墙膜层，所述挡墙膜层的厚度范围为1-100 μ m。
[0021]本发明的有益效果是:该电润湿显示面板采用全氟磺酸树脂直接在疏水介电层上形成挡墙，利用挡墙与疏水介电层同为疏水性质，保证挡墙与疏水介电层足够的附着力，结构更简单；
[0022]相应的，在电润湿显示面板制备方法中，采用全氟磺酸树脂、并通过构图工艺来制作电润湿显示面板中的挡墙，由于全氟磺酸树脂分子同时含有亲水侧基团与疏水侧基团，通过分子间相似相溶液及分子自组装现象，可使全氟磺酸树脂分子的疏水基团与第二基板中疏水介电层有效附着，由于极性相同因此附着能力较强，相比现有技术，在形成挡墙时不再需要在疏水介电层上开孔就能形成附着性较好的挡墙，可以减少一道曝光显影工艺，使得工艺更减化，更节省成本；同时，全氟磺酸树脂分子的亲水基团与油性材料有效接触，满足电润湿显示的要求；
[0023]因此，使得采用上述电润湿显示面板的显示装置，结构更简单，制备成本更低，且具有较稳定的显示效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0024]图1为现有技术中电润湿显示面板的剖视图；
[0025]图2为本发明实施例1中电润湿显示面板的剖视图；
[0026]图3为用于形成挡墙的材料的分子式结构；
[0027]图4A-图4H为本发明实施例2中电润湿显示面板制备方法中挡墙的制备流程示意图，其中:
[0028]图4A为在第二基板上形成挡墙膜层的剖视图；
[0029]图4B为用于形成挡墙的材料在烘干过程中分子式结构排列的示意图；
[0030]图4C为在挡墙膜层上方形成遮挡层的剖视图；
[0031]图4D为对遮挡层进彳丁曝光工艺的不意图；
[0032]图4E为遮挡层经显影工艺后的剖视图；
[0033]图4F为挡墙膜层经显影工艺后的剖视图；
[0034]图4G为在第二基板上形成挡墙后的剖视图；
[0035]图4H为在第二基板上形成挡墙后的俯视图；
[0036]图中:
[0037]1-下基板；2_上基板；3_衬底；4_亲水基底；5_疏水基底；6-挡墙；7-油墨；8-盐溶液；
[0038]10 一第一基板；11-第一衬底；12-第一电极层；
[0039]20 一第二基板；21_第二衬底；22_第二电极层；23_疏水介电层；
[0040]30—挡墙；31_子像素区；32_挡墙膜层；33_遮挡层；34_掩模板；35_油墨；36_盐溶液。
【具体实施方式】
[0041]为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本发明电润湿显示面板及电润湿显示面板制备方法、显示装置作进一步详细描述。
[0042]一种电润湿显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和所述第二基板相应划分为多个子像素区，所述第一基板和所述第二基板之间、对应着相邻所述子像素区的间隙区设置有挡墙，所述挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料形成。
[0043]一种显示装置，包括上述的电润湿显示面板。
[0044]一种电润湿显示面板制备方法，包括在第一基板和第二基板之间、对应着相邻子像素区的间隙区形成挡墙的步骤，所述挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料，通过构图工艺形成。
[0045]该电润湿显示面板的结构简单，挡墙具有较好的附着性；且在制备过程中无需为增加挡墙的附着性而制备疏水介电层中的开孔，简化了制备工艺。
[0046]实施例1:
[0047]本实施例提供一种电润湿显示面板，该电润湿显示面板借助控制电压的变化，来控制被封装于电润湿显示面板内部的亲水性液体与疏水性液体的流向，从而实现显示。
[0048]一般的，电湿润显示面板的结构中，主要包括多个电湿润显示像素结构，其中每一电湿润显示像素结构包括像素电极、疏水介电层、油性流动介质、水溶液流动介质以及挡墙。疏水介电层配置于像素电极上方，且挡墙配置于疏水介电层中，其中，油性流动介质配置于疏水介电层表面，而水溶液流动介质覆盖住油性流动介质。
[0049]如图2所不,本实施例中，一种电润湿显不面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，第一基板10和第二基板20相应划分为多个子像素区，第一基板10和第二基板20之间对应着相邻子像素区的间隙区设置有挡墙30，挡墙30采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料形成。参考图4H，挡墙30在第一基板10和第二基板20之间以阵列形式排列，相接的挡墙30围成子像素区31，子像素区31内形成电湿润显示像素结构。
[0050]其中，在图2中，第一基板10包括第一衬底11以及设置于第一衬底11靠近第二基板20侧的具有亲水性质的第一电极层12，第二基板20包括第二衬底21以及设置于第二衬底21靠近第一基板10侧的具有亲水性质的第二电极层22、以及相对第二电极层22更靠近第一基板10侧的疏水介电层23，疏水介电层23可以同时起到平坦化、介电层及表面能降低的三重作用。挡墙30设置于疏水介电层23与第一电极层12之间(即设置于图2中的疏水介电层23上方)；相邻的挡墙30形成的腔室内填充有疏水性材料，第一电极层12与疏水性材料之间填充有亲水性溶液。
[0051]在本实施例中，第一衬底11和第二衬底21采用透明的玻璃形成，第二衬底21通常用于作为形成电极和流体腔室(内封油性流动介质和水溶液流动介质)的载体，第一衬底11通常用于作为形成电极的载体以及作为流体腔室内流动介质封装的作用；第一电极层12即公共电极，第二电极层22即像素电极；油性流动介质即疏水性液体，例如油墨35 ；水溶液流动介质即亲水性溶液，例如含有K+离子和/或Na+离子的盐溶液36。
[0052]为了能较好的实现电润湿显示，第一电极层12可以采用ITO材料(Indium TinOxide，氧化铟锡)，厚度范围为10-300 μ m;第二电极层22可以采用ITO材料(Indium TinOxide，氧化铟锡)，厚度范围为10-300μηι。疏水介电层23可以采用含氟聚合物或树脂材料；疏水性材料可以采用油墨，亲水性溶液可以采用含有K+离子和/或Na+离子的盐溶液。第一电极层12与第二电极层22之间通电形成电场，以改变腔室内疏水性液体(即油墨35)和亲水性溶液(即盐溶液36)的流向，从而实现显示。
[0053]优选的是，挡墙30采用全氟磺酸树脂(美国杜邦公司将其命名为naf1n膜)，即四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚形成的共聚物，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物含有疏水全氟长链和悬挂在氟链上的亲水磺酸基团。如图3所示，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物的分子式结构为:
[0054]
-1c.Fra.,:1^CFrCFJr:—-1?1- J Il
b-CF-(:'F-()l-CF^CF-S()5H
I 7
CF—,
[0055]其中，X= 6 或 7 ;y = 1-10 中的任一数；z = 1、2 或 3 ;n = 1000。
[0056]形成挡墙30的过程中，全氟磺酸树脂中亲水基团和疏水基团形成有规律的排列，即四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物的分子式中疏水(hydrophobic)全氟长链、悬挂在氟链上的亲水(hydrophilic)磺酸基团和丙基乙烯基醚B形成有规律的排列结构。此时，挡墙30的疏水端形成在具有疏水性质的疏水介电层23上方，同为疏水性质，使得挡墙30与疏水介电层23具有足够的附着力。
[0057]其中，挡墙30为透明性质，且其只允许阳离子通过，而电子和阴离子以及分子不能通过，从而起到隔挡作用。即采用全氟磺酸树脂形成的挡墙，形成了一个分子筛，可以用于过滤或阻挡部分不需要离子或分子，而让必要的离子通过，正是由于其具有阻挡分子通过的性质，使得相邻子像素间的油墨(油墨为一种分子)不会相互导通。
[0058]本实施例中，挡墙30的厚度小于第一基板10与第二基板20之间的距离，即挡墙30设置在第二基板20上但是与第一基板10相距一定的距离。优选的是，挡墙30的厚度范围为 1-100 μ m。
[0059]本实施例中，在采用上述形成了挡墙30的第二基板20形成电润湿显示面板时，首先，将形成了挡墙30的第二基板20置于油墨材料中完全浸湿，然后取出来；接着，将形成了挡墙30的第二基板20置于含有Na+离子和/或K+离子的盐溶液中，待盐溶液将油墨材料抹平，形成如图2所示形状的油墨35和盐溶液36 ;最后，在盐溶液中放入第一基板10，将第一基板10与第二基板20封装在一起。封装完成后，挡墙30的疏水端附着在疏水介电层23的上方，挡墙30的亲水端裸露在油墨35中，能同时满足电润湿显示面板结构中挡墙底部需要疏水、顶部需要亲水的特性要求。
[0060]在本实施例中，采用全氟磺酸树脂来形成挡墙，利用其一端亲水、另一端疏水的性能，将挡墙疏水端直接形成在疏水介电层上，同为疏水性质即可保证其有足够的附着力，无需像现有的电润湿显示面板结构中那样在疏水介电层中开孔以使挡墙与第二基板获得良好的接触和附着；另外其亲水端裸露在油性材料之间，这样可以同时满足电润湿显示面板中挡墙底部具有疏水性质、顶部具有亲水性质的要求，满足电润湿显示的要求。由于不再需要在疏水介电层中开孔，因此电润湿显示面板的结构更简单，在形成相应的挡墙的过程中可以省掉一道曝光、显影的步骤，简化工艺，而且节约成本。
[0061]实施例2:
[0062]本实施例提供一种电润湿显不面板制备方法，该方法包括在第一基板和第二基板之间、对应着相邻子像素区的间隙区形成挡墙的步骤，挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料，通过构图工艺形成。
[0063]其中，挡墙采用四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物形成，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物含有疏水全氟长链和悬挂在氟链上的亲水磺酸基团。
[0064]在阐述具体制备方法之前，应该理解，在本发明中，构图工艺，可只包括光刻工艺，或，包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺，是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。
[0065]其中，形成挡墙的步骤具体包括:
[0066]步骤SI):在第二基板上方形成挡墙膜层。
[0067]在该步骤中，采用喷墨工艺(ink-jet)在第二基板20上方形成挡墙膜层32，挡墙膜层32的厚度范围为1-100 μ m。即将液态全氟磺酸树脂液通过喷墨工艺溅射到疏水介电层23的上方，形成挡墙膜层32，如图4A所示。其中，疏水介电层23具有疏水性质，第二电极层22具有亲水性质。
[0068]步骤S2):对挡墙膜层进行烘干。
[0069]在该步骤中，在5_120°C温度范围内对挡墙膜层32进行烘干。在烘干过程中，由于全氟磺酸树脂分子中含有疏水全氟长链和悬挂在氟链上的亲水磺酸基团，其中全氟长链具有疏水性质，其与疏水介电层23接触粘附性较好，而悬挂在氟链上的亲水磺酸基团与电润湿显示面板中封装于第一基板10与第二基板20之间的盐溶液具有较好的结合效果，从而满足电润湿挡墙的需求。
[0070]具体来讲，由于全氟磺酸树脂分子同时具有亲水侧与疏水侧，在其进行烘干的过程中其极性疏水侧与第二基板20中疏水介电层23由于分子间相相似相溶原理及分子自组装现象，会在分子力作用下进行有序排列，使得疏水介电层23与全氟磺酸树脂分子的疏水侧接触，非极性亲水侧与疏水介电层23相互排斥，从而使全氟磺酸树脂分子的疏水侧基团与第二基板中疏水介电层23有效附着，形成如图4B所示的排列方式。具体的，形成挡墙30的全氟磺酸树脂液中，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物的分子式中疏水(hydrophobic)全氟长链A、悬挂在氟链上的亲水(hydrophilic)磺酸基团C和丙基乙烯基醚B形成有规律的排列结构。
[0071]其中，相似相溶原理简单地讲，即由于极性分子间的电性作用，同极性的分子容易聚集到同一侧。例如:使得极性分子组成的溶质易溶于极性分子组成的溶剂，难溶于非极性分子组成的溶剂；非极性分子组成的溶质易溶于非极性分子组成的溶剂，难溶于极性分子组成的溶剂。自组装(self-assembly)现象即系统中的构成元素(例如分子)在不受人类外力之介入下，自行聚集、组织成规则结构的现象。
[0072]步骤S3):在挡墙膜层上方形成遮挡层，使遮挡层形成包括挡墙的图形。
[0073]该步骤具体包括:
[0074]步骤S31):采用旋涂工艺在挡墙膜层32上方形成遮挡层33，遮挡层33的厚度范围为100-550 μ m，如图4C所示。在该步骤中，遮挡层33采用光刻胶形成，即在挡墙膜层32上方形成一层光刻胶。旋涂形成遮挡层33时，可以调节旋涂机的旋转转速范围为:100-4000转/min ;时间范围为:5_100s ;湿的遮挡层33的厚度范围为100-550 μ m。本实施例以正性光刻胶形成遮挡层33为例进行说明。
[0075]步骤S32):在5-120°C温度范围内对遮挡层进行预烘，去除形成遮挡层的光刻胶中的水分。
[0076]步骤S33):对遮挡层33进行曝光，如图4D所示。在该步骤中，以正性光刻胶为例进行说明，在采用掩模板34对遮挡层33进行曝光，当光线通过掩模板34时，遮挡层33对应着无黑色遮挡图案部分被曝光而发生光化学反应，而被黑色遮挡图案部分则不发生曝光反应。
[0077]步骤S34):对遮挡层进行显影，显影温度范围为5_50°C。在该步骤中，遮挡层33对应着被曝光部分溶于显影液而被去除，未曝光部分因不溶于显影液而被保留下来，从而使遮挡层形成包括挡墙的图形，显影工艺后的遮挡层33可参考图4E。
[0078]步骤S4):对完成步骤S3)的挡墙膜层进行显影，使挡墙膜层形成挡墙。
[0079]在该步骤中，采用酒精溶液对挡墙膜层32进行显影，经显影工艺后的挡墙膜层32即形成图案化的挡墙30，如图4F所示。其中，由于采用全氟磺酸树脂液形成的挡墙膜层32可溶于酒精溶液，因此，只需采用普通酒精溶液对其进行显影即可，而无需采用传统的酸液进行显影。采用酒精溶液作为显影液不仅容易取材，简化了制备工艺；价格便宜，降低了生产成本，而且能减少环境污染。
[0080]步骤S5):去除遮挡层。
[0081]在该步骤中，采用剥离工艺或其他去除工艺去除遮挡层33，如图4G的剖视图和图4H的俯视图所示；然后将形成挡墙30后的第二基板20进行清洗。
[0082]在本实施例电润湿显示面板制备方法中，采用全氟磺酸树脂液、并通过构图工艺来制作电润湿显示面板中的挡墙，由于全氟磺酸树脂分子同时含有亲水侧基团与疏水侧基团，通过分子间相似相溶液及分子自组装现象，可使全氟磺酸树脂分子的疏水基团与第二基板中疏水介电层有效附着，由于极性相同因此附着能力较强，相比现有技术，在形成挡墙时不再需要在疏水介电层上开孔就能形成附着性较好的挡墙，可以减少一道曝光显影工艺，使得工艺更减化，更节省成本；同时，全氟磺酸树脂分子的亲水基团与油性材料有效接触，满足电润湿显示的要求。
[0083]实施例3:
[0084]本实施例提供一种显示装置，该显示装置采用实施例1中的电润湿显示面板，并采用实施例2中电润湿显示面板制备方法制备完成其中的挡墙。
[0085]该显示装置可以为:电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0086]本实施例的显示装置由于采用了实施例1中的电润湿显示面板，采用了实施例2中电润湿显示面板制备方法，结构更简单，制备成本更低；而且，该电润湿显示面板由于能保证较好的挡墙的附着性，因此能保证电润湿显示面板具有稳定的显示效果。
[0087]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种电润湿显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板和所述第二基板相应划分为多个子像素区，所述第一基板和所述第二基板之间、对应着相邻所述子像素区的间隙区设置有挡墙，其特征在于，所述挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料形成。
2.根据权利要求1所述的电润湿显示面板，其特征在于，所述挡墙采用四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物形成，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物含有疏水全氟长链和悬挂在氟链上的亲水磺酸基团。
3.根据权利要求2所述的电润湿显示面板，其特征在于，所述第一基板包括具有亲水性质的第一电极层，所述第二基板包括具有亲水性质的第二电极层以及设置于所述第二电极层靠近所述第一基板侧的疏水介电层，所述挡墙设置于所述疏水介电层与所述第一电极层之间；相邻的所述挡墙形成的腔室内填充有疏水性材料，所述第一电极层与所述疏水性材料之间填充有亲水性溶液。
4.根据权利要求3所述的电润湿显示面板，其特征在于，所述第一电极层采用ITO材料；所述第二电极层采用ITO材料，所述疏水介电层采用含氟聚合物或树脂材料；所述疏水性材料采用油墨，所述亲水性溶液采用含有K+离子和/或Na+离子的盐溶液。
5.根据权利要求3所述的电润湿显示面板，其特征在于，所述挡墙的厚度小于所述第一基板与所述第二基板之间的距离，所述挡墙的厚度范围为1-100 μ m。
6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的电润湿显示面板。
7.一种电润湿显示面板制备方法，包括在第一基板和第二基板之间、对应着相邻子像素区的间隙区形成挡墙的步骤，其特征在于，所述挡墙采用同时具有亲水性基团和疏水性基团的材料，通过构图工艺形成。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述挡墙采用四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物形成，四氟乙烯与全氟-2-(磺酸乙氧基)丙基乙烯基醚的共聚物含有疏水全氟长链和悬挂在氟链上的亲水磺酸基团。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，形成所述挡墙的步骤具体包括: 步骤SI):在所述第二基板上方形成挡墙膜层； 步骤S2):对所述挡墙膜层进行烘干； 步骤S3):在所述挡墙膜层上方形成遮挡层，使所述遮挡层形成包括挡墙的图形； 步骤S4):对完成步骤S3)的所述挡墙膜层进行显影，使所述挡墙膜层形成所述挡墙； 步骤S5):去除所述遮挡层。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，采用喷墨工艺形成所述挡墙膜层，所述挡墙膜层的厚度范围为1-100 μ m。
【文档编号】G02B26/00GK104049359SQ201410211434
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年5月19日 优先权日:2014年5月19日
【发明者】陈娟 申请人:京东方科技集团股份有限公司