一种杂散光测量装置及测量方法与流程

技术特征：

1.一种杂散光测量装置，其特征在于，所述测量装置沿光轴方向依次包括：

光源，用于提供照明光束；

照明系统，用于控制所述照明光束，包括狭缝刀口，光束整形元件和匀光元件；

掩模台，其上设置有物面测试标记版；

工件台，其上设置有物面测试标记版，探测器和能量传感器；

探测器，用于采集剪切干涉条纹；

能量传感器，用于测量参考光强；

投影物镜，可将照明光束照射的物面测试标记版成像于工件台上；

所述物面测试标记版包括位于中间的不透光区，以及位于不透光域区两侧的透光区，不透光区上设有小孔。

2.如权利要求1所述的杂散光测量装置，其特征在于，所述不透光区为铬条区域。

3.如权利要求1所述的杂散光测量装置，其特征在于，所述小孔可以是单个方孔、或者是由多个方孔组成的方孔组，或者是一维线条光栅线条或者是棋盘标记孔。

4.如权利要求1所述的杂散光测量装置，其特征在于，所述像面测试标记为一维线条光栅或二维棋盘光栅。

5.一种采用权利要求1所述的杂散光测量装置进行杂散光测量方法，其特征在于，包括：

步骤一：光源打开，将狭缝刀口打开，限定光斑只照射不透光区域，此时系统无杂散光引入，用能量传感器在像面位于小孔标记的视场中进行光强采样，测量无杂散光的参考光强 及相位分布；

步骤二：光源打开，将狭缝刀口打开，限定光斑照射透光区和不透光区，此时系统引入杂散光，用能量传感器在像面位于小孔标记的视场中进行有杂散光的光强采样，测量有杂散光的参考光强及相位分布；

步骤三：根据所述步骤一、二获得的参考光强和，计算入射光强的衰减率，，根据有无杂散光的相位分布和，计算有杂散光时引入的相位误差，；

步骤四：根据入射光强的衰减率、相位误差、相位误差与杂散光与相位之间的线性关系，计算实际杂散光光强杂散光为。

6.如权利要求5所述的杂散光测量方法，其特征在于，所述不透光区为铬条区域。

7.如权利要求5所述的杂散光测量方法，其特征在于，所述小孔可以是单个方孔、或者是由多个方孔组成的方孔组，或者是一维线条光栅线条或者是棋盘标记孔。