彩色滤光基板及其制作方法、显示面板及其制作方法与流程

本发明涉及光电显示领域，尤其涉及一种彩色滤光基板及其制作方法、显示面板及其制作方法。

背景技术：

目前液晶显示面板(或有机发光显示面板)等主要由彩色滤光基板、液晶层(有机发光层)、薄膜晶体管(TFT)基板和背光源(有机发光显示面板不需要背光源)组成。

如图1所示液晶显示面板包括彩色滤光基板110、液晶层120、薄膜晶体管基板130和背光源140，背光源140发光的光线如图中向上的箭头(未标注)所示。其中，彩色滤光基板110包括基板111、黑色矩阵层(BM层)112和彩色光阻层(RGB层，亦称色阻层)113。图中虽然未显示，但是，彩色滤光基板还可以包括透明导电层(ITO层)、平坦层(OC层)和间隔柱(Photo Spacer，PS)等结构。

通常情况下，彩色光阻层113的红(R)、绿(G)和蓝(B)三基色彩色色块按一定图案排列，并与TFT基板130上的子像素(一个像素通常由三个子像素组成)一一对应(图1中以TN模式为例)。背光源140发出的白光透过彩色滤光片可形成红、绿和蓝三种色光，通过驱动电压的改变调整液晶翻转的角度，进而改变通过红、绿和蓝三种子像素的光量，由加法混色原理得到丰富的色彩表现。

为了输入方便，触摸屏作为输入媒介在显示器件中广泛应用。目前使用比较多的触摸屏方式分为电阻式和电容式。其中，电阻式表现在价格优势，而电容式由于使用方便得到广泛应用。

在将触控结构与显示器件进行集成时，传统的做法是将摸机构作于显示器件的盖板(cover lens)上，如图2所示，液晶显示面板包括彩色滤光基板210、液晶层220、薄膜晶体管基板230和背光源240，背光源240发光的光线如图中向上的箭头(未标注)所示。其中，彩色滤光基板210包括基板211、黑色矩阵层(BM层)212和彩色光阻层(RGB层)213。还包括位于最外层的盖板250，以及位于盖板250下方的触摸感应结构260，触摸感应结构260位于盖板250和彩色滤光基板210之间。

由于图2所示的传统结构存在不足，现有技术中继续提出将触控结构集成于彩色滤光基板外表面的方案，并且也提出了将触摸结构放置于彩色滤光基板以内的方案。更多方案参考公开号为CN103389827A的中国专利申请。

然而，随着显示面板分辨率的不断提高，采用现有显示触控集成方案已无法满足用户使用要求。

技术实现要素：

本发明解决的问题是提供一种彩色滤光基板及其制作方法、显示面板及其制作方法，以提高彩色滤光基板和显示面板的性能。

为解决上述问题，本发明提供一种彩色滤光基板的制作方法，包括：在基板上形成触控电极材料层；在所述触控电极材料层上形成黑色矩阵层；以所述黑色矩阵层为掩模，刻蚀所述触控电极材料层，刻蚀后剩余的所述触控电极材料层保留为触控电极层，所述黑色矩阵层保留于所述触控电极层上。

可选的，形成所述触控电极层包括形成第一触控电极和第二触控电极，还包括形成位于所述第一触控电极和所述第二触控电极之间的隔断区。

可选的，所述制作方法还包括：在至少部分所述隔断区中形成黑色膜块，所述黑色膜块连接被相应所述隔断区隔断的所述黑色矩阵层。

可选的，所述黑色矩阵层的线宽为3μm～10μm。

可选的，通过控制所述湿法刻蚀方法的刻蚀时间，使所述触控电极层的线宽比所述黑色矩阵层的线宽小0.5μm～2μm。

可选的，形成所述触控电极材料层包括形成粘附材料层和主材料层，所述粘附材料层形成在所述基板和所述主材料层之间；形成的所述触控电极层包括：由所述粘附材料层刻蚀而成的粘附层，以及由所述主材料层刻蚀而成的主层。

为解决上述问题，本发明还提供了一种显示面板的制作方法，采用如上所述的制作方法制作彩色滤光基板。

为解决上述问题，本发明还提供了一种彩色滤光基板，包括位于基板上的触控电极层和黑色矩阵层，所述触控电极层位于所述基板和所述黑色矩阵层之间，所述黑色矩阵层直接位于所述触控电极层上；所述黑色矩阵层在所述基板内表面上的正投影覆盖所述触控电极层在所述基板内表面的正投影。

可选的，所述触控电极层包括第一触控电极和第二触控电极，所述触控电极层还包括位于所述第一触控电极和所述第二触控电极之间的隔断区。

可选的，至少部分所述隔断区中具有黑色膜块；所述黑色膜块连接被相应所述隔断区隔断的所述黑色矩阵层。

可选的，所述黑色矩阵层的线宽为3μm～10μm。

可选的，所述触控电极层的线宽比所述黑色矩阵层的线宽小0.5μm～2μm。

可选的，所述触控电极层包括粘附层和主层，所述粘附层位于所述基板和所述主层之间。

为解决上述问题，本发明还提供了一种显示面板，包括如上所述的彩色滤光基板。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

本发明的技术方案先在基板上形成触控电极材料层，然后直接在触控电极材料层上形成黑色矩阵层，并直接以黑色矩阵层为掩模，刻蚀触控电极材料层，从而得到触控电极层与黑色矩阵层完全重叠的结构。所述制作过程中，可以省去一道光阻的成型工艺，还可以省去后续去除光阻的步骤，从而节约了工艺步骤和工艺成本。同时，由于黑色矩阵层直接保留在触控电极层上，还能够保证所形成的结构中，黑色矩阵层覆盖触控电极层，从而能够利用黑色矩阵层完全覆盖和遮挡触控电极层，即使得触控电极层位于黑色矩阵层所定义出的非开口区中，从而使得所形成的彩色滤光基板显示效果不受触控电极层的影响，提高所形成的彩色滤光基板的性能和制作良率。本发明的技术方案与现有技术相比，工艺简化，同时能减少触控电极层对显示效果的影响，提高所形成彩色滤光基板的性能。

进一步，触控电极层包括位于第一触控电极和第二触控电极之间的隔断区时，通过在至少部分隔断区中形成黑色膜块，使得黑色矩阵层与黑色膜块一同构成更加完整的遮光网络结构，从而使得彩色滤光基板的彩色滤光性能更好，并进一步防止黑色矩阵层的遮光效果受影响。

附图说明

图1是一种液晶显示面板的示意图；

图2是一种具有触控结构的液晶显示面板的示意图；

图3是一种触控电极层的示意图；

图4至图7是本发明实施例所提供彩色滤光基板的制作方法各步骤对应结构示意图；

图8至图12是本发明又一实施例所提供彩色滤光基板的制作方法各步骤对应结构示意图。

具体实施方式

一种将触控电极层制作在彩色滤光基板以内(即彩色滤光基板和薄膜晶体管基板之间的)的方案是，将图3所示的触控电极层制作在彩色滤光基板内表面。通常情况下，触控电极层包括两个X轴向和Y轴向的触控电极，即X轴向电极E1和Y轴向电极E2。X轴向电极E1和Y轴向电极E2可以分为两层，如图3所示。其它情况下，X轴向电极和Y轴向电极也可以设置为一层。当它们设置为一层时，X轴向电极和Y轴向电极彼此之间隔断即可，而这些相互隔断的地方会形成隔断区。

由于触控电极层通常采用ITO材料，或者采用金属材料(如Ag，Cu，Mo，Al等)，而这些材料是非透明的，因此，一般需要将触控电极层设置在非开口内。

一种方法是先制作出黑色矩阵层，然后在黑色矩阵层定义出的非开口区和开口区中同时都形成触控电极材料膜层，然后对触控电极材料膜层进行刻蚀，仅保留位于非开口区的触控电极材料膜层做为触控电极层。然而这种方法工艺步骤复杂，工艺良率低，并且还需要制作其它结构保护触控电极层，因此，最终形成的产品可靠性能也较低。

另一种方法是采用以下方法步骤制作：

1在基板上形成触控电极材料膜层；

2制作掩膜光阻(PR，亦称光刻胶)图案，其中位于后续触控电极层隔断的位置掩膜光阻也存在隔断区；

3以掩膜光阻为掩模(即以掩膜光阻作为掩膜层)，对基板上的触控触控电极材料层进行刻蚀，以形成触控电极层，触控电极层通常包括两个轴向的触控电极；

4去除掩膜光阻；

5在触控电极层上形成黑色矩阵层图案；黑色矩阵层图案完全覆盖触控电极层图案。

上述这种现有的形成步骤中，为了保证触控电极不被发现，需要保证黑色矩阵层完全覆盖触控电极，即也需要限定触控电极层位于黑色矩阵层定义出的非开口区中。

但是，由于触控电极是先于黑色矩阵层制作出来的，因此，后续形成黑色矩阵层时，必须做到两个方面的保证：第一方面，要保证触控电极中每个电极的线宽尺寸(线宽尺寸为关键尺寸，即Critical Dimension,CD)均要略小于黑色矩阵层中每一道黑色矩阵的线宽尺寸；第二方面，要保证黑色矩阵层在每个位置上均与触控电极精准对位。

然而，随着显示面板分辨率的提高，黑色矩阵层中每道黑色区块的线宽已由原来的几十微米(μm)下降至10μm，甚至更小，例如5.5寸全高清显示屏幕中线宽一般为5μm～6.5μm。此时，要求触控电极的线宽尺寸要为3μm～4μm，甚至更小。对于如此高精细的图案，触控电极与黑色矩阵层之间的对位精度是非常难以控制的，很容易就会由于对位偏移造成触控电极出现在显示区内，造成产品不良。

为此，本发明提供一种新的技术方案，所述技术方案中，在制作触控电极层和黑色矩阵层时，顺序是与上述两种方法均是不同的，并且与第二种方法的部分步骤是反过来的。具体的，本发明所述技术方案在形成了触控触控电极材料层之后，先形成相应的图案化了的黑色矩阵层，然后再刻蚀触控触控电极材料层，以形成触控电极层。并且更加重要的是，本发明直接以图案化了的黑色矩阵层为掩模(即本发明直接利用图案化了的黑色矩阵层做为掩膜层)，刻蚀触控触控电极材料层，从而在获得相应的触控电极层的同时，相应的，黑色矩阵层完全覆盖所形成的触控电极层。也就是说，此时，触控电极层在基板上的正投影被黑色矩阵层在基板上的正投影完全覆盖。

通过上述方法，本发明直接利用黑色矩阵层作为图案化触控电极材料层的光阻层，即黑色矩阵层直接起到了光阻的作用，从而能够减小一道原本用来图案化的触控电极材料层的光阻形成工艺，即减少了一道光阻图案化工序等。具体的，与现有技术相比，本发明至少具有以下优点：

1.减少了一道光阻的图案工序，减少一道光阻的曝光工序(减少使用一个曝光掩模版，亦称光罩)、节省光阻材料、光阻显影液和光阻剥膜液等，从而简化工艺；同时也相应减少了一道光阻的剥离工序，再次简化了工艺；

2.提高触控电极层与黑色矩阵层的位置精度(提高两者的对准精度)，即使得黑色矩阵层能够完全覆盖和遮挡触控电极层，防止触控电极层暴露在开口区中，防止黑色矩阵层的遮光效果受触控电极层的影响。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

本发明实施例提供一种彩色滤光基板的制作方法，请结合参考图4至图7。

本实施例所提供的彩色滤光基板的制作方法主要包括以下步骤。

步骤一、请参考图4，在基板300上形成触控电极材料层310。

步骤二、请结合参考图4和图5，在触控电极材料层310上形成黑色矩阵层320。

步骤三、请结合参考图5和图6，以黑色矩阵层320为掩模，刻蚀触控电极材料层310，刻蚀后剩余的触控电极材料层310保留为触控电极层310a，黑色矩阵层320保留于触控电极层310a上。

本实施例中，基板300可以为透光的，或者更进一步，可以是透明的。基板300具体可以为玻璃材质或者有机树脂材质等。

步骤一中，在基板300上形成触控电极材料层310时，形成触控电极材料层310包括形成粘附材料层311和主材料层312，粘附材料层311形成在基板300和主材料层312之间。形成的触控电极层310a包括：由粘附材料层311刻蚀而成的粘附层311a，以及由主材料层312刻蚀而成的主层312a。

本实施例中，主材料层312可以采用金属材料制作，金属材料通常具有良好的导电性能，因此，金属材料制作的触控结构电学性能更好，触控检测性能更加灵敏，可以更多的运用于中大尺寸的触控显示屏幕。主材料层312采用金属材料制作，可以增强后续所形成触控电极层310a的触控灵敏度。具体的，主材料层312选用的金属材料可以为Ag、Cu、Al、Mo或其合金。

其它实施例中，主材料层也可以采用导电性能好的导电金属氧化物形成。

本实施例中，粘附材料层311可以采用导电氧化物材料形成，例如可以采用铟锡氧化物(ITO)形成。一方面，铟锡氧化物与玻璃材质的基板300之间具有较好的粘附作用；另一方面，铟锡氧化物与金属材料的主材料层312之间也具有良好的粘附作用。因此，采用铟锡氧化物作为粘附层311a能够使主材料层312和基板300之间更加不容易发生剥离等现象和问题。

上述粘附材料层311和主材料层312的内容可知，本实施例中触控电极材料层310包括两层。

其它实施例中，触控电极材料层也可以是单层结构，例如可以直接采用铟锡氧化物的整层结构作为触控电极材料层。

本实施例中，粘附材料层311可以采用溅射方法形成。主材料层312也可以采用溅射方法形成。

步骤二中，形成黑色矩阵层320是指形成了已经图案化了的黑色矩阵层。这个过程具体可以为：在触控电极材料层310上形成相应黑色矩阵材料层(未示出)，所述黑色矩阵材料层同时也是一种光阻材料，本实施例中具体可以采用负性光阻材料制作所述黑色矩阵材料层；对所述黑色矩阵材料层进行曝光工艺和显影工艺步骤，得到图案化的黑色矩阵层320。

本实施例中，所形成的黑色矩阵层320的线宽为3μm～10μm。在这个线宽范围的黑色矩阵层320适用于例如4.5英寸至10英寸的手机显示屏。而当采用了这个线宽范围的黑色矩阵层时，相应手机的显示屏幕通常是全高清屏，此时的显示屏幕分辨率通常已经可以达到400PPI，甚至更高。在这种情况下，由于黑色矩阵层线宽如此之小，因而，要求此时的触控电极层被相应的黑色矩阵层准确地覆盖和遮挡。而本实施例中，通过上述过程可知，正是利用黑色矩阵层320自身作为能够遮挡和覆盖触控电极层310a的结构。因为，本实施例利用黑色矩阵层320直接作为刻蚀触控电极材料层310的掩模，从而保证在如此小的线宽范围内，触控电极层310a仍然能够被完全遮挡，不仅简化了工艺，提高了工艺良率，而且降低了工艺难度。

其它实施例中，黑色矩阵层的线宽也可以在其它范围，即：本发明所提供的技术方案虽然特别适用于黑色矩阵层线宽为3μm～10μm的情况，但是，黑色矩阵层的线宽在其它范围时，仍然可以采用本发明的技术方案。

步骤三中，在以黑色矩阵层320为掩模，刻蚀触控电极材料层310时，可以采用湿法刻蚀方法对触控电极材料层310进行刻蚀，具体可以根据粘附材料层311和主材料层312的材料，选择合适的刻蚀溶液和其它刻蚀条件。

本实施例中，刻蚀后剩余的触控电极材料层310保留为触控电极层310a，黑色矩阵层320保留于触控电极层310a上。

本实施例中，黑色矩阵层320限定出相应的开口区3200和非开口区(非开口区未标注，开口区3200以外的区域通常即为非开口区)。同时，触控电极材料层310被刻掉的大部分位置也位于开口区3200，而保留下来的触控电极层310a位于黑色矩阵层320所定义出的所述非开口区中。

本实施例中，还通过控制所述湿法刻蚀方法的刻蚀时间，使触控电极层310a的线宽比黑色矩阵层320的线宽小0.5μm～2μm。控制刻蚀时间，亦即控制所述湿法刻蚀方法进行一段时间的过刻蚀。由于湿法刻蚀方法的各向同性刻蚀特点，所述过刻蚀能够使得触控电极层310a的线宽小于黑色矩阵层320的线宽。因此，在触控电极层310a的线宽比所述黑色矩阵层的线宽小0.5μm～2μm时，还需要同时兼顾触控电极层310a的线宽大小，具体可以在上述参数范围内根据要求进行相应调整。而使使触控电极层310a的线宽比黑色矩阵层320的线宽小0.5μm～2μm，能够更好地保证触控电极层310a位于所述非开口区中，使黑色矩阵层320更好地实现其遮光效果，从而进一步提高相应的结构性能和工艺良率。

由步骤一至步骤三的过程可知，本实施例最终所形成的触控电极层310a和黑色矩阵层320具有以下关系：触控电极层310a在基板300内表面上的正投影被黑色矩阵层320在基板300内表面上的正投影完全覆盖。

请结合参考图6和图7，本实施例在形成触控电极层310a之后，还包括形成平坦层330覆盖触控电极层310a和黑色矩阵层320。

本实施例中，平坦层330的形成，可以使得此时整体结构具有相对平坦的表面，从而有利于后续其它结构的制作。例如有利于后续在平坦层330上继续形成彩色光阻层等结构。更加重要的是，平坦层330还可以保护触控电极层310a中的金属不被氧化(如前所述，触控电极层310a的主层312a通常采用金属材料制作)。

需要说明的是，其它实施例中，也可以形成触控电极层之后，先形成彩色光阻层，然后再形成平坦层。也就是说，彩色光阻层和平坦层的形成顺序可以按需求调整。

其它实施例中，在形成彩色光阻层和平坦层等结构之后，还可以继续形成透明导电层和间隔柱等结构，所述透明导电层可以是公共电极层。其它实施例中，可以根据产品的设计要求，选择进行“形成透明导电层”和“形成间隔柱”等步骤的一个或多个。其它实施例中，也可以省略形成平坦层的步骤。

本实施例所提供的彩色滤光基板的制作方法中，通过先形成触控电极材料层310，然后直接在触控电极材料层310上形成图案化了的黑色矩阵层320，并直接以黑色矩阵层320为掩模(即黑色矩阵层320做为掩膜层)，刻蚀触控电极材料层310，从而得到触控电极层310a，此时，黑色矩阵层320完全覆盖所得到的触控电极层310a。所述制作过程中，由于刻蚀触控电极材料层310是直接以黑色矩阵层320为掩模的，因此，可以省去一道光阻的成型工艺(包括形成膜层、曝光和显影等一系列步骤，节省使用一道光罩掩膜版和显影液剥离液等)，简化了工艺。同时，还可以省去后续去除光阻的步骤(包括剥离或者其它清洗步骤等，节约了剥离液等材料)，从而再次简化了工艺，节约了工艺步骤和工艺成本。此外，由于黑色矩阵层320直接保留在触控电极层310a上，还能够保证所形成的结构中，利用黑色矩阵层320完全覆盖和遮挡触控电极层310a，防止触控电极层310a暴露在黑色矩阵层320定义出的开口区3200中，防止触控电极层310a对黑色矩阵层320的遮光效果产生不利影响。因此，所形成的彩色滤光基板的结构性能和工艺良率提高，可靠性能提高。

本实施例所提供的色滤光基板的制作方法与现有技术相比工艺简化，同时能减少触控电极层对显示效果的影响，提高所形成彩色滤光基板的性能。

本发明另一实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法采用前一实施例的制作方法制作彩色滤光基板，可参考前述实施例相应内容。其中，所述显示面板的制作方法后续还可以包括：将阵列基板与所制作的彩色滤光基板进行成盒封装等步骤。

本发明另一实施例还提供了一种彩色滤光基板，所述彩色滤光基板可以采用第一实施例所提供的制作方法形成，因此，可以结合参考图4至图7。请参考图7，所述彩色滤光基板包括位于基板300上的触控电极层310a和黑色矩阵层320，触控电极层310a位于基板300和黑色矩阵层320之间，黑色矩阵层320直接位于触控电极层310a上。黑色矩阵层320在基板300内表面上的正投影覆盖触控电极层310a在基板300内表面的正投影。

本实施例中，黑色矩阵层320的线宽为3μm～10μm，可参考前述彩色滤光基板的制作方法实施例相应内容。

本实施例中，触控电极层310a包括粘附层311a和主层312a，粘附层311a位于基板300和主层312a之间，可参考前述彩色滤光基板的制作方法实施例相应内容。

本实施例中，触控电极层310a的线宽比黑色矩阵层320的线宽小0.5μm～2μm，触控电极层310a自身的线宽可以控制在2μm以上，可参考前述彩色滤光基板的制作方法实施例相应内容。

本实施例中，所述彩色滤光基板还包括平坦层330。平坦层330上还可以包括彩色光阻层或者间隔柱的至少其中之一。

其它实施例中，所述彩色滤光基板可以将彩色光阻层先设置在由黑色矩阵层限定出的开口区，然后再在彩色光阻层和黑色矩阵层上形成平坦层，可参考第一实施例所提供彩色滤光基板的制作方法相应内容。

本发明另一实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括前述实施例所提供的彩色滤光基板，可参考图7。其中，所述显示面板可以是具有裸眼3D显示功能的显示面板，所述彩色滤光基板可参考前述实施例相应内容。显示面板的其它结构也可以参考背景技术相应内容。

本发明又一实施例还提供了另一种彩色滤光基板的制作方法，请结合参考图8至图12。

本实施例所提供的彩色滤光基板的制作方法主要包括以下步骤。

步骤一、请参考图8，在基板400上形成触控电极材料层410。

步骤二、请结合参考图8和图9，在触控电极材料层410上形成黑色矩阵层420。

步骤三、请结合参考图9和图10，以黑色矩阵层420为掩模，刻蚀触控电极材料层410，刻蚀后剩余的触控电极材料层410保留为触控电极层(未标注)，黑色矩阵层420保留于所述触控电极层上。

步骤一中，在基板400上形成触控电极材料层410时，形成触控电极材料层410包括形成粘附材料层411和主材料层412，粘附材料层411形成在基板400和主材料层412之间。形成的所述触控电极层包括：由粘附材料层411刻蚀而成的粘附层411a和粘附层411b，以及由主材料层412刻蚀而成的主层412a和主层412b。

本实施例中，在触控电极材料层410上形成黑色矩阵层420可参考第一实施例相应内容。

本实施例中，以黑色矩阵层420为掩模，刻蚀触控电极材料层410，可参考第一实施例相应内容。

本实施例中，形成所述触控电极层包括形成第一触控电极4101和第二触控电极4102，如图10所示。并且，形成所述触控电极层还包括形成位于第一触控电极4101和第二触控电极4102之间的隔断区4100(需注意，隔断区4100与前述实施例中的开口区3200没有重叠部分)。本实施例中，第一触控电极4101包括粘附层411a和主层412a，第二触控电极4102包括粘附层411b和主层412b。

本实施例中，每个第一触控电极4101可以对应于一个或者多个像素，甚至对应于一行或者多行像素。同样的，每个第二触控电极4102可以对应于一个或者多个像素，甚至对应于一行或者多行像素。也就是说，本实施例对于第一触控电极4101和第二触控电极4102的俯视形状不作限定。

需要特别说明的是，图9与图5中对黑色矩阵层的截面是不同位置的，图5中截取了黑色矩阵层320限定出开口区3200的位置，而图9中并没有截取到任何开口区。然而，图9显示黑色矩阵层420仍然是具有断开部分的，这部分黑色矩阵层420原本是不应该断开的，但是，为了使得相应的第一触控电极4101和第二触控电极4102相互绝缘，特地将第一触控电极4101和第二触控电极4102在此位置断开，形成隔断区4100。

请结合参考图10和图11，本实施例所提供的制作方法还包括：在至少部分隔断区4100中形成黑色膜块430，黑色膜块430连接被相应隔断区4100隔断的黑色矩阵层420。此处，相应隔断区4100是指制作填充了黑色膜块430的隔断区4100。

本实施例中，形成黑色膜块430的方法可以是黑色胶带(tape)粘贴法(例如采用黑色胶带粘贴至隔断区4100，并对粘贴后的黑色胶带进行固化的方法)，也可以是黑色油墨滴加法(例如采用黑色油墨液滴，滴加至隔断区4100，并进行固化的方法)，还可以是黑色负性光阻滴加法(黑色负性光阻滴加法与黑色油墨滴加法类似)。

请结合参考图11和图12，本实施例在形成黑色膜块430之后，形成平坦层440覆盖黑色膜块430和黑色矩阵层420。平坦层440的形成可以使得后续结构形成在较为平坦的表面上，从而有利于后续结构的制作，例如有利于后续在平坦层440上形成彩色光阻层。

其它实施例中，在形成彩色光阻层后，还可以继续进行透明导电层和间隔柱的形成步骤等。

本实施例所提供的彩色滤光基板的制作方法中，除了具有前述实施例的优点之外，通过在至少部分隔断区4100中形成黑色膜块430，使得黑色矩阵层420与黑色膜块430一同构成更加完整的遮光网络结构，从而使得彩色滤光基板中黑色矩阵层420的遮光效果更好。

本发明另一实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法采用前一实施例所提供的制作方法制作彩色滤光基板，可参考前述实施例相应内容。

本发明另一实施例还提供了一种彩色滤光基板，所述彩色滤光基板可以采用图8至图12对应实施例所提供的制作方法形成。所述彩色滤光基板包括位于基板400上的所述触控电极层和黑色矩阵层420，所述触控电极层位于基板400和黑色矩阵层420之间，黑色矩阵层420直接位于所述触控电极层上。黑色矩阵层420在基板400内表面上的正投影覆盖所述触控电极层在基板400内表面的正投影。

本实施例中，所述触控电极层包括第一触控电极4101和第二触控电极4102，所述触控电极层还包括位于第一触控电极4101和第二触控电极4102之间的隔断区4100(请参考图10)。至少部分隔断区4100中具有黑色膜块430。黑色膜块430连接被相应隔断区4100隔断的黑色矩阵层420。

本实施例中，黑色矩阵层420的线宽为3μm～10μm，所述触控电极层包括粘附层和主层，粘附层位于基板400和主层之间。

本实施例中，所述彩色滤光基板还包括平坦层440，平坦层440上还可以包括彩色光阻层、透明导电层或者间隔柱的至少其中之一。

其它实施例中，所述彩色滤光基板可以将彩色光阻层先设置在所述触控电极层和黑色矩阵层之间的开口区，然后再在彩色光阻层和黑色矩阵层上形成平坦层，可参考图8至图12所提供的制作方法相应内容。

本发明另一实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括前述实施例所提供的彩色滤光基板。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。