一种光学膜及其制作方法与流程

技术特征：

1.一种光学膜，用于反射某波段的光，其特征在于，包括：基底、交替设置于所述基底上的介质层和颗粒层；所述颗粒层包括多个颗粒，所述颗粒间距的取值范围为至所述介质层的光学厚度的取值范围为至且所述颗粒层的折射率大于或小于所述介质层的折射率，其中，λ₁和λ₂分别为第一波段光的中心波长和第二波段光的中心波长。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一波段光的中心波长λ₁与第二波段光的中心波长λ₂相等。

3.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，接触所述基底的一层为所述颗粒层，远离所述基底的最外层为所述颗粒层或所述介质层。

4.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，接触所述基底的一层为所述介质层，远离所述基底的最外层为所述颗粒层或所述介质层。

5.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述颗粒的直径小于

6.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，所述第一波段光的中心波长λ₁和第二波段光的中心波长λ₂的取值范围为100纳米至2000微米。

7.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述颗粒和所述介质层所采用的材料包括氧化镁、氧化钇、硫化锌、硒化锌、砷化镓、氟化镁、氟化钙、氧化铝、SiO_x、TiO_x和/或NbO_x。

8.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述基底包括金属基底、玻璃基底、石英基底、橡胶基底或塑料基底。

9.一种光学膜的制作方法，其特征在于，包括：

一基底，以及

在所述基底上交替制作的介质层和颗粒层；所述颗粒层包括多个颗粒，所述颗粒间距的取值范围为至所述介质层的光学厚度的取值范围为至且所述颗粒层的折射率大于或小于所述介质层的折射率，其中，λ₁和λ₂分别为第一波段光的中心波长和第二波段光的中心波长。

10.根据权利要求9所述的光学膜的制作方法，其特征在于，所述交替制作介质层和颗粒层所采用的方法包括真空成膜工艺、溶胶-凝胶薄膜成膜工艺和/或自组织薄膜成膜工艺；其中，所述真空成膜工艺包括物理/化学气相沉积、蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、离子镀和外延生长；所述颗粒间距的精度误差不大于所述颗粒间距的5％；所述光学厚度的精度误差不大于所述光学厚度的5％。