1.一种阵列基板，包括：衬底基板，所述衬底基板包括至少两个子基板，所述子基板包括沿第一方向延伸的第一信号线组和用于为所述第一信号线组提供控制信号的控制部，其特征在于，还包括：
第一遮光金属层，设置在相邻两个所述子基板之间。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述子基板还包括沿第二方向延伸的第二信号线组，所述第二信号线组与所述第一信号线组相互绝缘，且所述第二方向垂直于所述第一方向。
3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，相邻两个所述子基板沿所述第一方向排列，相邻两个所述子基板中的所述第一信号线组在所述衬底基板上的垂直投影沿所述第一方向之间的距离为M1，所述第一遮光金属层在所述衬底基板上的垂直投影沿所述第一方向的长度为L1，L1大于或者等于M1。
4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一遮光金属层在所述衬底基板上的垂直投影沿所述第二方向的长度为W1，W1大于或者等于所述第一信号线组中信号线在所述第二方向上的宽度S1。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一遮光金属层在所述衬底基板上的垂直投影在所述第二方向上连续。
6.如权利要求2-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一信号线组为栅极信号线，所述第二信号线组为数据信号线。
7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，相邻两个所述子基板沿所述第二方向排列，相邻两个所述子基板中的所述第二信号线组在所述衬底基板上的垂直投影沿所述第二方向之间的距离为M2，所述第一遮光金属层在所述衬底基板上的垂直投影沿所述第二方向的长度为L2，L2大于或者等于M2。
8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第一遮光金属层在所述衬底基板上的垂直投影沿所述第一方向的长度为W2，W2大于或者等于所述第二信号线组中信号线在所述衬底基板上的垂直投影沿所述第一方向的宽度S2。
9.如权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第一遮光金属层在所述衬底基板上的垂直投影在所述第一方向上连续。
10.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，至少两个相邻的所述子基板沿所述第一方向排列时，所述第一遮光金属层与所述第二信号线组设置在同一层；
或/和至少两个相邻的所述子基板沿所述第二方向排列时，所述第一遮光金属层与所述第一信号线组设置在同一层。
11.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述子基板还包括像素区域，所述像素区域由所述第一信号线组和所述第二信号线组交叉定义而成，所述像素区域包括薄膜晶体管。
12.如权利要求11所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括半导体层，所述半导体层为低温多晶硅。
13.如权利要求12所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管还包括第二遮光金属层，所述第一遮光金属层与所述第二遮光金属层设置在同一层。
14.一种显示装置，包括如权利要求1至13中任一所述的阵列基板。