激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法与流程

文档序号:12785541阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种激光直接成像曝光机用移动聚焦结构,包括曝光成像平台(3)以及位于所述曝光成像平台(3)正上方的曝光光路(1);其特征是:还包括用于驱动曝光成像平台(3)竖直升降的平台升降机构(4),所述平台升降机构(4)驱动曝光成像平台(3)竖直升降时,能使得置于曝光成像平台(3)上PCB板(2)的上表面位于曝光光路(1)的成像焦面上。

2.根据权利要求1所述的激光直接成像曝光机用移动聚焦结构,其特征是:所述曝光光路(1)有且仅有成像镜筒。

3.一种激光直接成像曝光机用移动聚焦方法,其特征是:在曝光成型平台(3)上设置用于驱动所述曝光成像平台(3)竖直升降的平台升降机构(4);在曝光成像平台(3)上放置所需的PCB板(2)后,平台升降机构(4)驱动曝光成像平台(3)升降,直至曝光成像平台(3)正上方曝光光路(1)的成像焦面位于PCB板(2)的上表面。

4.根据权利要求3所述激光直接成像曝光机用移动聚焦方法,其特征是:所述曝光光路(1)有且仅有成像镜筒。

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