水系抗蚀剂剥离液的调制装置以及非水系抗蚀剂剥离液的调制装置的制作方法

本发明涉及调制在半导体制造工序以及平板显示器制造工序等中用于抗蚀剂的剥离的水系抗蚀剂剥离液的调制装置以及调制非水系抗蚀剂剥离液的调制装置。

背景技术：

在半导体制造工序、平板显示器基板的制造工序中的光刻工序的最终阶段，需要将抗蚀剂从基板完全剥离的工序。在半导体、平板显示器基板的抗蚀剂剥离工序中，一并实施基于氧等离子体的干灰化工序和基于抗蚀剂剥离液的湿式剥离工序。在经过基于氧等离子体的干灰化工序的基板上生成硅氧化物、铝氧化物，在之后的湿式剥离工序中不仅需要剥离抗蚀剂，还需要完全去除金属氧化物。

在半导体、平板显示器基板的抗蚀剂剥离工序中，作为抗蚀剂剥离液，主要使用将有机碱、有机溶剂组合而成的溶液(以下，也称作“非水系抗蚀剂剥离液”)。另外，使用向该溶液添加适量的水而成的溶液(以下，也称作“水系抗蚀剂剥离液”)。在本说明书中，在无需明确区分“水系抗蚀剂剥离液”与“非水系抗蚀剂剥离液”的情况下，有时也简称作“抗蚀剂剥离液”。

作为管理抗蚀剂剥离液的浓度的抗蚀剂剥离液管理装置，例如已知下述的专利文献1、专利文献2。

在专利文献1中记载了如下的抗蚀剂剥离液管理装置，该抗蚀剂剥离液管理装置具备：抗蚀剂剥离液排出机构，其通过吸光光度计检测抗蚀剂剥离液的溶解抗蚀剂浓度，并排出抗蚀剂剥离液；第一补给机构，其通过液位仪检测抗蚀剂剥离液的液位，并补给有机溶剂和烷醇胺，或者补给将有机溶剂与烷醇胺预先调配而成的抗蚀剂剥离新液；以及第二补给机构，其通过吸光光度计检测抗蚀剂剥离液的烷醇胺浓度，并补给有机溶剂以及烷醇胺中的至少一方。

另外，在下述的专利文献2中记载了如下的抗蚀剂剥离液管理装置，该抗蚀剂剥离液管理装置具备：抗蚀剂剥离液排出机构，其通过吸光光度计检测抗蚀剂剥离液的溶解抗蚀剂浓度，并排出抗蚀剂剥离液；第一补给机构，其通过液位仪检测抗蚀剂剥离液的液位，并补给抗蚀剂剥离液和纯水，或者补给将抗蚀剂剥离原液与纯水预先调配而成的抗蚀剂剥离新液；以及第二补给机构，其通过吸光光度计检测抗蚀剂剥离液的水分浓度，并补给抗蚀剂剥离原液以及纯水中的至少一方。

在先技术文献

专利文献1：日本特开平7-235487号公报

专利文献2：日本特开平10-22261号公报

如专利文献1、2所记载那样，已经提出了将抗蚀剂剥离液维持管理为规定的成分浓度的管理装置。但是，并不存在根据成分浓度的测定值而由抗蚀剂剥离液的原料自动地调制规定的成分浓度的抗蚀剂剥离液的调制装置。其原因在于，在管理装置与调制装置之间存在如下的根本的不同。

在管理装置的情况下，如专利文献1、2那样，管理装置的应用对象是最初处于应当管理成的规定的成分浓度的抗蚀剂剥离液。通过使用抗蚀剂剥离液，抗蚀剂剥离液的成分浓度逐渐偏离最初的成分浓度。对此，管理装置通过向抗蚀剂剥离液补充补充液等动作，想要使抗蚀剂剥离液的成分浓度恢复最初的应当管理成的规定的浓度。换句话说，管理装置是基于如下技术思想而形成的，该技术思想为：通过导入成分浓度的恢复装置，构筑以应当管理成的规定的成分浓度为中心的成分浓度的稳定控制系统。

另一方面，调制装置是通过将各种原料混合而调制出规定的成分浓度的抗蚀剂剥离液的装置。调制装置所应用的对象原本不处于想要调制出的规定的成分浓度。因此，无法将管理装置的技术思想直接用于调制装置。调制装置与管理装置不存在能够从管理装置马上想到调制装置的技术关系。

由于这种根本的不同，因此即便存在专利文献1、2这样的管理装置，但至今仍不存在以测定成分浓度并形成规定的成分浓度的方式调制抗蚀剂剥离液的调制装置。以往的抗蚀剂剥离液的调制装置根据原料的容量或者重量来调整浓度。因此，由以往的调制装置调制出的抗蚀剂剥离液的成分浓度的调整精度不佳。若抗蚀剂剥离液未被调整为规定的浓度，则无法得到良好的剥离速度，产生剥离残渣以及金属氧化物的残渣，从而成为成品率降低的原因。另外，若在光刻工序的最终阶段即抗蚀剂剥离工序中产生不合格品，则存在损失金额变大的问题。

技术实现要素：

发明所要解决的课题

本发明是鉴于这种情况而完成的。本发明的目的在于提供能够高精度、自动且连续地调制规定的浓度的抗蚀剂剥离液的水系抗蚀剂剥离液的调制装置以及非水系抗蚀剂剥离液的调制装置。

用于解决课题的方案

为了达成上述目的，本发明提供一种水系抗蚀剂剥离液的调制装置，具备：调制槽，其调制规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液；测定机构，对于调制槽内的水系抗蚀剂剥离液，测定机构测定与水系抗蚀剂剥离液的成分浓度具有相关关系的水系抗蚀剂剥离液的物性值、以及水系抗蚀剂剥离液的成分浓度中的至少一方；以及控制机构，其根据由测定机构测定出的测定值，控制向调制槽供给的水系抗蚀剂剥离液的原料的供给量，以使得调制槽内的水系抗蚀剂剥离液成为规定的成分浓度。

本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行水系抗蚀剂剥离液的与成分浓度具有相关的物性值或成分浓度中的至少任一方的测定，从而调制水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与根据容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出成分浓度更加准确的水系抗蚀剂剥离液。

为了达成上述目的，本发明提供一种水系抗蚀剂剥离液的调制装置，具备：调制槽，其调制规定的胺浓度的水系抗蚀剂剥离液；关于胺的测定机构，对于调制槽内的水系抗蚀剂剥离液，关于胺的测定机构测定与水系抗蚀剂剥离液的胺浓度具有相关关系的水系抗蚀剂剥离液的物性值、以及水系抗蚀剂剥离液的胺浓度中的至少一方；以及关于胺的控制机构，其根据由关于胺的测定机构测定出的测定值，控制向调制槽供给的水系抗蚀剂剥离液的原料的供给量，以使得调制槽内的水系抗蚀剂剥离液成为规定的胺浓度。

本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行水系抗蚀剂剥离液的与胺浓度具有相关的物性值或胺浓度中的至少一方的测定，从而调制水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与根据容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出胺浓度更加准确的水系抗蚀剂剥离液。

为了达成上述目的，本发明提供一种水系抗蚀剂剥离液的调制装置，具备：调制槽，其调制规定的水分浓度的水系抗蚀剂剥离液；关于水分的测定机构，对于调制槽内的水系抗蚀剂剥离液，关于水分的测定机构测定与水系抗蚀剂剥离液的水分浓度具有相关关系的水系抗蚀剂剥离液的物性值、以及水系抗蚀剂剥离液的水分浓度中的至少一方；以及关于水分的控制机构，其根据由关于水分的测定机构测定出的测定值，控制向调制槽供给的水系抗蚀剂剥离液的原料的供给量，以使得调制槽内的水系抗蚀剂剥离液成为规定的水分浓度。

本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行水系抗蚀剂剥离液的与水分浓度具有相关的物性值或水分浓度中的至少一方的测定，从而调制水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与根据容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出水分浓度更加准确的水系抗蚀剂剥离液。

为了达成上述目的，本发明提供一种水系抗蚀剂剥离液的调制装置，具备：调制槽，其调制具有规定的胺浓度、以及规定的水分浓度的水系抗蚀剂剥离液；关于胺的测定机构，对于调制槽内的水系抗蚀剂剥离液，关于胺的测定机构测定与水系抗蚀剂剥离液的胺浓度具有相关关系的水系抗蚀剂剥离液的物性值、以及水系抗蚀剂剥离液的胺浓度中的至少一方；关于水分的测定机构，对于调制槽内的水系抗蚀剂剥离液，关于水分的测定机构测定与水系抗蚀剂剥离液的水分浓度具有相关关系的水系抗蚀剂剥离液的物性值、以及水系抗蚀剂剥离液的水分浓度中的至少一方；以及控制机构，其根据由关于胺的测定机构测定出的测定值、以及由关于水分的测定机构测定出的测定值，控制向调制槽供给的水系抗蚀剂剥离液的原料的供给量，以使得调制槽内的水系抗蚀剂剥离液成为规定的胺浓度以及规定的水分浓度。

本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行水系抗蚀剂剥离液的与胺浓度具有相关的物性值或胺浓度中的至少一方的测定，从而调制水系抗蚀剂剥离液。同时，本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行水系抗蚀剂剥离液的与水分浓度具有相关的物性值或水分浓度中的至少一方的测定，从而调制水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与根据容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出胺浓度更加准确且水分浓度更加准确的水系抗蚀剂剥离液。

在本发明的优选的方式中，关于胺的测定机构具备吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、以及粘度计中的任一个。由上述测定装置测定出的水系抗蚀剂剥离液的吸光度、电导率、密度、超声波传播速度以及粘度与水系抗蚀剂剥离液的胺浓度具有相关，因此能够使胺浓度高精度地与规定的浓度一致。

在本发明的更优选的方式中，关于胺的测定机构具备吸光光度计，在胺为单乙醇胺的情况下，吸光光度计的测定波长为从1000～1600nm的波长区域中选出的特定的波长，在胺为羟胺的情况下，吸光光度计的测定波长为从1050～1090nm的波长区域中选出的特定的波长。

上述波长区域中测定出的水系抗蚀剂剥离液的吸光度与其胺浓度之间能够得到比较良好的直线关系。因此，在该波长区域中测定出的吸光度、或者通过该测定出的吸光度和该直线关系得到的胺浓度适合用于将水系抗蚀剂剥离液中的胺浓度准确地形成为规定的浓度。在胺为单乙醇胺的情况下，特别是将1048nm作为测定波长而测定出的吸光度在上述的波长区域中灵敏度特别好，在与胺浓度之间能够得到良好的直线关系，因此更加优选。在胺为羟胺的情况下，特别是将1074nm作为测定波长而测定出的吸光度在上述的波长区域中灵敏度特别好，与胺浓度之间能够得到良好的直线关系，因此更加优选。

在本发明的优选的方式中，关于水分的测定机构具备吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、以及粘度计中的任一个。由上述测定装置测定出的水系抗蚀剂剥离液的吸光度、电导率、密度、超声波传播速度以及粘度与水系抗蚀剂剥离液的水分浓度具有相关，因此能够使水分浓度高精度地与规定的浓度一致。

在本发明的更优选的方式中，关于水分的测定机构为吸光光度计，吸光光度计的测定波长为从950～2000nm的波长区域中选出的特定的波长。

以该近红外线区域的测定波长测定出的水系抗蚀剂剥离液的吸光度与其水分浓度之间能够得到比较良好的直线关系。因此，在该波长区域中测定出的吸光度、或者通过该测定出的吸光度和该直线关系得到的水分浓度适合用于将水系抗蚀剂剥离液中的水分浓度准确地形成为规定的浓度。特别是将1940nm和976nm作为测定波长而测定出的吸光度在该波长区域中灵敏度特别好，与水分浓度之间能够得到良好的直线关系，因此更加优选。

在本发明的优选的方式中，水系抗蚀剂剥离液的调制装置还具备贮存槽，该贮存槽贮存在调制槽中调制好的水系抗蚀剂剥离液。

根据该方式，调制成规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液始终贮存于贮存槽，因此在需要水系抗蚀剂剥离液时能够随时得到规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液。

在本发明的优选的方式中，水系抗蚀剂剥离液的调制装置具备多个调制槽。

根据该方式，即便一个调制槽因故障等而无法运行，也能够通过其他调制槽维持水系抗蚀剂剥离液的调制。另外，即便一个调制槽变空，也能够从其他调制槽接受水系抗蚀剂剥离液的供给。

在本发明的优选的方式中，调制槽与贮存槽通过连通管连接。

根据该方式，即便因供给水系抗蚀剂剥离液而使贮存槽内的水系抗蚀剂剥离液减少，也从调制槽向贮存槽自动且连续地移送被调制成规定浓度的水系抗蚀剂剥离液。此时，不需要送液泵等设备。

在本发明的优选的方式中，水系抗蚀剂剥离液的调制装置具备预备混合机构，该预备混合机构将向调制槽供给的水系抗蚀剂剥离液的原料预先混合。

在本发明的优选的方式中，水系抗蚀剂剥离液的调制装置针对每个调制槽而具备预备混合机构，该预备混合机构将向调制槽供给的水系抗蚀剂剥离液的原料预先混合。

根据该方式，水系抗蚀剂剥离液的原料被预先混合，因此调制槽内的混合、搅拌的负担减轻，能够更加迅速地调制浓度均匀的水系抗蚀剂剥离液。另外，即便在根据所测定的成分浓度、物性值而仅能在比较窄的浓度范围得到相关关系的情况下，通过使用预备混合机构，也能够准确地调制出规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液。

为了达成上述目的，本发明提供一种非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，具备：调制槽，其调制规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液；测定机构，对于调制槽内的非水系抗蚀剂剥离液，测定机构测定与非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度具有相关关系的非水系抗蚀剂剥离液的物性值、以及非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度中的至少一方；以及控制机构，其根据由测定机构测定出的测定值，控制向调制槽供给的非水系抗蚀剂剥离液的原料的供给量，以使得调制槽内的非水系抗蚀剂剥离液成为规定的成分浓度。

本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行非水系抗蚀剂剥离液的与成分浓度具有相关的物性值或成分浓度中的至少任一方的测定，从而调制非水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与根据容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出成分浓度更加准确的非水系抗蚀剂剥离液。

为了达成上述目的，本发明提供一种非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，具备：调制槽，其调制规定的胺浓度的非水系抗蚀剂剥离液；关于胺的测定机构，对于调制槽内的非水系抗蚀剂剥离液，关于胺的测定机构测定与非水系抗蚀剂剥离液的胺浓度具有相关关系的非水系抗蚀剂剥离液的物性值、以及非水系抗蚀剂剥离液的胺浓度中的至少一方；以及关于胺的控制机构，其根据由关于胺的测定机构测定出的测定值，控制向调制槽供给的非水系抗蚀剂剥离液的原料的供给量，以使得调制槽内的非水系抗蚀剂剥离液成为规定的胺浓度。

本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置测定与非水系抗蚀剂剥离液的胺浓度具有相关关系的物性值以及非水系抗蚀剂剥离液的胺浓度中的至少一方，并根据该测定值调制非水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与根据容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出胺浓度更加准确的非水系抗蚀剂剥离液。

在本发明的优选的方式中，关于胺的测定机构具备吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、以及粘度计中的任一个。由上述测定装置测定出的非水系抗蚀剂剥离液的吸光度、电导率、密度、超声波传播速度以及粘度与非水系抗蚀剂剥离液的胺浓度具有相关，因此能够使胺浓度高精度地与规定的浓度一致。

在本发明的更优选的方式中，关于胺的测定机构具备吸光光度计，在胺为单乙醇胺的情况下，吸光光度计的测定波长为从1000～1600nm的波长区域中选出的特定的波长，在胺为羟胺的情况下，吸光光度计的测定波长为从1050～1090nm的波长区域中选出的特定的波长。

上述波长区域中测定出的非水系抗蚀剂剥离液的吸光度与其胺浓度之间能够得到比较良好的直线关系。因此，在该波长区域中测定出的吸光度、或者通过该测定出的吸光度和该直线关系得到的胺浓度适合用于将非水系抗蚀剂剥离液中的胺浓度准确地形成为规定的浓度。在胺为单乙醇胺的情况下，特别是将1048nm作为测定波长而测定出的吸光度在上述的波长区域中灵敏度特别好，在与胺浓度之间能够得到良好的直线关系，因此更加优选。在胺为羟胺的情况下，特别是将1074nm作为测定波长而测定出的吸光度在上述的波长区域中灵敏度特别好，与胺浓度之间能够得到良好的直线关系，因此更加优选。

在本发明的优选的方式中，非水系抗蚀剂剥离液的调制装置还具备贮存槽，该贮存槽贮存在调制槽中调制好的非水系抗蚀剂剥离液。

根据该方式，调制成规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液始终贮存于贮存槽，因此在需要非水系抗蚀剂剥离液时能够随时得到规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液。

在本发明的优选的方式中，水系抗蚀剂剥离液的调制装置具备多个调制槽。

根据该方式，即便一个调制槽因故障等而无法运行，也能够通过其他调制槽维持非水系抗蚀剂剥离液的调制。另外，即便一个调制槽变空，也能够从其他调制槽接受非水系抗蚀剂剥离液的供给。

在本发明的优选的方式中，调制槽与贮存槽通过连通管连接。

根据该方式，即便因供给非水系抗蚀剂剥离液而使贮存槽内的非水系抗蚀剂剥离液减少，也从调制槽向贮存槽自动且连续地移送被调制成规定浓度的非水系抗蚀剂剥离液。此时，不需要送液泵等设备。

在本发明的优选的方式中，非水系抗蚀剂剥离液的调制装置具备预备混合机构，该预备混合机构将向调制槽供给的非水系抗蚀剂剥离液的原料预先混合。

在本发明的优选的方式中，非水系抗蚀剂剥离液的调制装置针对每个调制槽而具备预备混合机构，该预备混合机构将向调制槽供给的非水系抗蚀剂剥离液的原料预先混合。

根据该方式，非水系抗蚀剂剥离液的原料被预先混合，因此调制槽内的混合、搅拌的负担减轻，能够更加迅速地调制浓度均匀的非水系抗蚀剂剥离液。另外，即便在根据所测定的成分浓度、物性值而仅能在比较窄的浓度范围得到相关关系的情况下，通过使用预备混合机构，也能够准确地调制出规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液。

发明效果

本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置测定与水系抗蚀剂剥离液的成分浓度具有相关关系的物性值、以及水系抗蚀剂剥离液的成分浓度中的至少一方，并根据该测定值，以调制槽内的水系抗蚀剂剥离液成为规定的成分浓度的方式调制水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与利用容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出成分浓度准确的水系抗蚀剂剥离液。另外，根据本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，同样地能够调制出胺浓度、水分浓度更加准确的水系抗蚀剂剥离液。此外，根据本发明的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，在需要时能够随时得到规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液。能够自动且连续地调制规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液。

本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置测定与非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度具有相关关系的物性值、以及非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度中的至少一方，并根据该测定值，以调制槽内的非水系抗蚀剂剥离液成为规定的成分浓度的方式调制非水系抗蚀剂剥离液。因此，根据本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，与利用容量、重量进行调制的以往的调制装置相比，能够调制出成分浓度准确的非水系抗蚀剂剥离液。另外，根据本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，同样地能够调制出胺浓度更加准确的水系抗蚀剂剥离液。此外，根据本发明的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，在需要时能够随时得到规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液。能够自动且连续地调制规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液。

另外，本发明的调制装置能够组装于使用抗蚀剂剥离液的设备而使用。在该情况下，能够向使用抗蚀剂剥离液的设备始终供给浓度准确的抗蚀剂剥离液。

附图说明

图1是用于对第一实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图2是用于对第二实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图3是示出抗蚀剂剥离液的单乙醇胺浓度与吸光度之间的关系的曲线图。

图4是示出抗蚀剂剥离液的羟胺浓度与吸光度之间的关系的曲线图。

图5是用于对第三实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图6是示出水系抗蚀剂剥离液的水分浓度与吸光度之间的关系的曲线图。

图7是用于对第四实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图8是用于对第五实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图9是用于对第六实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图10是用于对第七实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图11是用于对第八实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图12是用于对第九实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图13是用于对第十实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图14是用于对第十一实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

图15是用于对第十二实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。

附图标记说明

1、101、201、301、401、501、601、701、801、901、1001、1101…控制机构，2、102、202、302、431、531、702、802、931、1031…测定机构，3、503、703、1003…调制槽，4、304…水系抗蚀剂剥离液供给配管(供给配管)，10、110、210、310、410、510、610…水系抗蚀剂剥离液的调制装置，17、18、19、313a、313b、314a、314b、315a、315b、316a、316b、326、517、518、519、617、618、619、718、719、813a、813b、814a、814b、815a、815b、816a、816b、826、1018、1019、1118、1119…控制阀，32、432、532、732、932、1032…液面计，33、433、533、733、933、1033…循环搅拌泵，34、434、534、734、934、1034…循环管路，36、736…搅拌机构，41…纯水供给配管(原料供给配管)，42、742…胺原料供给配管(原料供给配管)，43、743…有机溶剂原料供给配管(原料供给配管)，46、47、48、147、247、349、392、447、448、546、547、548、646、746、747、748、847、849、892、947、948、1046、1047、1048、1146…信号线，51…纯水导入口(原料导入口)，52、752…胺原料导入口(原料导入口)，53、753…有机溶剂原料导入口(原料导入口)，54、354…抗蚀剂剥离液供给口，121、321、821…关于胺的测定机构，123、323、823…关于胺的控制机构，222、322…关于水分的测定机构，224、324…关于水分的控制机构，311a、311b、811a、811b…胺贮存容器，312a、312b、812a、812b…有机溶剂贮存容器，320、820…原料贮存容器，325、825…送液泵，342、842…胺原料补充配管，343、843…有机溶剂原料补给配管，344、844…胺供给配管，345、845…有机溶剂供给配管，402、902…贮存槽，435、535、935、1035…连通管，605、1105…混合准备槽，606、1106…配管，704、804…非水系抗蚀剂剥离液供给配管(供给配管)，710、810、910、1010、1110…非水系抗蚀剂剥离液的调制装置，754、854…非水系抗蚀剂剥离液供给口。

具体实施方式

以下，适当参照附图对本发明的优选实施方式进行详细说明。其中，上述实施方式所记载的构成设备的形状、大小、尺寸比、其相对配置等在无特别说明的情况下不限定于图示本发明的范围的上述参数。作为单纯的说明例，仅示意性地进行图示。

〔水系抗蚀剂剥离液的调制装置〕

[第一实施方式]

图1是用于对本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置10主要包括调制槽3、测定机构2、以及控制机构1等。

调制槽3是经由配管等接受供给且用于调配水系抗蚀剂剥离液的原料从而调制规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液的调配容器。为了接受水系抗蚀剂剥离液的原料的供给，调制槽3除连接有各原料供给配管41、42、43等以外，还具备用于将原料均匀地混合的搅拌机构36。另外，具备用于供给调制出的规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液的供给配管4。

测定机构2测定在调制槽3内调制的水系抗蚀剂剥离液的物性值或者成分浓度中的至少任一方。由测定机构2测定的水系抗蚀剂剥离液的物性值是与该水系抗蚀剂剥离液的成分浓度之间具有相关的物性值。若使用该相关关系，则能够根据测定出的物性值得到成分浓度，也能够将水系抗蚀剂剥离液调整为规定的成分浓度。

控制机构1通过信号线47等与测定机构2连接，从而能够接收测定机构2的测定信号。另外，控制机构1与控制阀17、18、19连接，该控制阀17、18、19设置于用于向调制槽3供给原料的原料供给配管41、42、43。控制机构1通过控制上述控制阀，从而以水系抗蚀剂剥离液的成分浓度成为规定的成分浓度的方式调节向调制槽3供给的原料的供给量。

水系抗蚀剂剥离液以胺、有机溶剂以及纯水为主要成分。胺从胺原料导入口52经由胺原料供给配管42供给至调制槽3。有机溶剂从有机溶剂原料导入口53经由有机溶剂原料供给配管43供给至调制槽3。同样地，纯水从纯水导入口51经由纯水供给配管41供给至调制槽3。除上述以外，在存在添加剂等其他原料的情况下，准备用于供给该原料的导入口、供给配管、控制阀等来进行供给即可。在图1中未示出添加剂等其他原料的供给线。另外，各原料不限于直接向调制槽3供给的情况。例如，在对调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液进行循环搅拌的情况下，也可以以使各原料在供液体循环的循环管路34中汇合的方式向调制槽3供给各原料。

在各原料供给配管41、42、43设置有经由信号线46与控制机构1连接的控制阀17、18、19。各控制阀接收由控制机构1发出的控制信号而被控制动作。优选各控制阀例如以增减每单位时间的流量的方式被控制机构1控制。各控制阀将流量的缺省值预先设定为，对以该缺省值的流量供给的原料进行调配而得到的水系抗蚀剂剥离液的成分浓度进入由测定机构2测定出的物性值与成分浓度具有相关关系的浓度范围。

从原料导入口51、52、53导入的各原料经由原料供给配管41、42、43以及控制阀17、18、19供给至调制槽3。供给至调制槽3内的原料被搅拌机构36搅拌，从而形成浓度均匀的水系抗蚀剂剥离液。

搅拌机构36将调制槽3内搅拌成均匀的浓度。在图1中绘出了如下的循环搅拌方式：从调制槽3的底部经由呈环状地与调制槽3的侧部连接的循环管路34抽取调制槽3内的液体的一部分，通过循环搅拌泵33使该液体以在调制槽3内产生搅拌流的方式再次返回调制槽3内，但循环搅拌方式不限于此。也可以为利用电动机使搅拌叶片旋转的搅拌装置，还可以使搅拌件在调制槽3内旋转。

在调制槽3内调制出的水系抗蚀剂剥离液由测定机构2进行测定。所测定的参数为在调制槽3内中调制出的水系抗蚀剂剥离液的物性值或者成分浓度中的至少任一方。也可以为双方。在此，测定出的成分浓度是关于想要调节成规定的浓度的水系抗蚀剂剥离液的成分的浓度。同样，所测定的物性值是与想要调节成规定的浓度的水系抗蚀剂剥离液的成分具有相关的水系抗蚀剂剥离液的物性值。由测定机构2测定出的物性值、与成分浓度对应的水系抗蚀剂剥离液的成分不限于一个，也可以是多个。

成分浓度无法直接测定，因此通常测定与成分浓度具有相关的物性值，根据该测定值并利用相关关系来计算成分浓度。因此，测定机构2具备测定水系抗蚀剂剥离液的物性值的测定装置。在仅测定物性值的情况下，测定机构2可以为测定装置本身。在根据测定出的物性值来计算成分浓度的情况下，需要将测定出的物性值运算加工为成分浓度，因此测定机构2除具备测定装置以外，还具备根据测定值来运算成分浓度的运算装置等。

对于测定机构2所具备的物性值的测定装置而言，根据应当调节浓度的水系抗蚀剂剥离液的成分、所测定的物性值来选择最佳的装置。采用测定如下的物性值的测定装置即可，对于想要调节浓度的水系抗蚀剂剥离液的成分，在包含想要调节的该规定的成分浓度的浓度范围，该物性值能够与该成分浓度得到良好的相关关系。例如，作为这种测定装置，优选吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、粘度计等。

测定机构2对在调制槽3内调制出的水系抗蚀剂剥离液进行抽样，并测定其物性值。优选在测定前对抽样的水系抗蚀剂剥离液进行温度调整等，以使得始终在相同的测定条件下进行测定。因此，优选测定机构2具备抽样管、抽样泵(未图示)、以及温度控制器(未图示)等。

但是，测定的方法不限于对试料进行抽样的方式。可以采用将传感器部浸渍于水系抗蚀剂剥离液内的方式、在循环管路34等设置测定装置的方式等，根据所采用的测定装置利用最佳的方式进行测定即可。

在测定机构2测定成分浓度的情况下，根据由测定机构2所具备的测定装置测定出的物性值来计算成分浓度。在成分浓度的计算中，使用物性值与成分浓度的相关关系。该相关关系是物性值与成分浓度的对应关系，若两者一对一地对应，则能够根据该相关关系而由测定出的物性值求出对应的成分浓度。

为了得到规定的灵敏度，优选相关关系具备一定程度的斜率，但也可以不必是直线。若在包含想要调节的成分浓度的浓度范围内，成分浓度与物性值具有形成为一对一地对应的连续函数的相关关系，则能够根据测定出的物性值来计算对应的成分浓度。

测定机构2将测定出的物性值或者成分浓度向控制机构1发送。控制机构1从测定机构2接收测定值。测定机构2与控制机构1通过信号线47连接。测定值的发送接收经由该信号线47进行。但是，不限于此。也可以借助无线进行测定值的发送接收。另外，在对于多个成分测定物性值、成分浓度的情况下，可以针对各个成分而具备将测定装置与控制机构1连接的信号线。

控制机构1在浓度控制中设定作为目标的成分浓度的值。控制机构1对接收到的成分浓度的测定值与设定的成分浓度的目标值进行比较。在比较的结果是应当调节的成分的浓度比目标值低的情况下，控制对应的控制阀，以使得该成分的供给量相对于其他成分的供给量而相对地增加。反之，在应当调节的成分的浓度比目标值高的情况下，控制对应的控制阀，以使得该成分的供给量相对于其他成分的供给量而相对地减少。对于将哪个控制阀控制为何种程度而言，控制机构1根据偏离成分浓度的目标值的程度、原料的构成、各原料的浓度等诸条件，利用控制程序适当地进行计算。但是，控制的方法不限于此。除上述这种对控制量的目标值与当前值进行比较而进行控制的比例控制(p控制)以外，还能够采用所谓的积分控制(i控制)、微分控制(d控制)等。优选通过将上述控制方法适当组合而成的pid控制(proportional-integral-differential控制)进行控制。

设置于水系抗蚀剂剥离液的原料供给配管的各控制阀17、18、19通过信号线46与控制机构1连接。在图1中绘出了各控制阀17、18、19通过信号线46以串联的方式连接，但各控制阀也可以分别单独地通过信号线与控制机构1连接。也可以不基于信号线，而通过无线来进行控制。

另外，在图1中，控制机构1控制控制阀，但作为控制机构1优选采用计算机。也可以代替计算机，而使用通用的控制器进行控制。也可以将控制机构1构成为针对每个调节浓度的成分而单独准备的控制器的集合体。另外，也可以代替测定机构2和控制机构1，而使用将测定机构2与控制机构1构成为一个装置的所谓的浓度管理装置。在使用浓度管理装置的情况下，使浓度管理装置控制控制阀，以使得调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液始终成为规定的成分浓度即可。

在由测定机构2测定的参数是物性值的情况下，控制机构1进行基于物性值的控制。即，由测定机构测定的物性值与成分浓度具有相关关系，因此能够在该相关关系上得到与应当调节成的规定的成分浓度对应的“规定的物性值”。控制机构1以增减原料的供给量的方式控制控制阀17、18、19，以使得由测定机构2测定出的物性值成为该“规定的物性值”即可。

本实施方式的调制装置10通过反复连续地进行上述的调配、测定、控制的循环，能够自动并且连续地调制出规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液。一旦在调制槽3内调制出规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液，则之后以通过供给来补充减少的量的方式，维持规定的成分浓度并且追加调制水系抗蚀剂剥离液即可。

在调制槽3中调制好的水系抗蚀剂剥离液从与调制槽3的底部连接的水系抗蚀剂剥离液供给配管4向调制槽3的外部供给。调制装置10可以单独使用，也可以与利用水系抗蚀剂剥离液的其他剥离设备连接而使用。在该情况下，将水系抗蚀剂剥离液供给配管4与其他剥离设备的水系抗蚀剂剥离液供给口54连接。这样一来，在需要的时候，随时能够自动地向其他剥离设备供给新鲜状态的规定的成分浓度的水系抗蚀剂剥离液。

优选调制装置10具备用于检测调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的液面位置的液面计32。若调制装置10供给的水系抗蚀剂剥离液的供给量始终大致恒定，则即便不存在液面计，通过使调制量与供给量平衡，也能够不使调制槽3变空而进行连续的调制。但是，在供给量增减的情况下，优选利用液面计32检测调制槽3内的液面位置，以调制槽3不变空的方式进行控制。

液面计32除以能够检测调制槽3内的液面位置的方式设置于调制槽3以外，还经由信号线48与控制机构1连接。例如，液面计32检测到调制槽3内的液面低于下限值，然后向控制机构1发出警报信号。控制机构1控制控制阀17、18、19增加原料的供给量，从而增加水系抗蚀剂剥离液的调制量，以使液面位置恢复。当液面位置超过下限值时停止警报信号，当调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的量恢复至规定的量时，控制机构1以维持该液面位置的方式进行控制。这样，能够使调制槽3内不变空。若相应地设定液面位置的上限，则还能够防止调制槽3的溢出。

需要说明的是，在图1中绘出了供给水系抗蚀剂剥离液的各原料的原料供给配管41、42、43与调制槽3的侧部连接的方式，但不限于此。根据状况，也可以与调制槽3的上部、底部连接。还可以与循环管路34连接。另外，原料供给配管41、42、43无需与调制槽3连接成一体。例如，也可以以从上部滴下的方式向调制槽内供给原料。另外，在原料不是液状物而是粉状物的情况下，也可以不连接配管而连接粉体供给装置。

＜水系抗蚀剂剥离液的原料＞

在水系抗蚀剂剥离液的调制中能够使用包括胺、水、有机溶剂、以及其他添加剂的原料。

《胺》

作为水系抗蚀剂剥离液的原料所使用的胺，优选使用烷醇胺。作为烷醇胺，可以列举单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、n，n-二甲基乙醇胺、n，n-二乙基乙醇胺、氨乙基乙醇胺、n-甲基-n，n-二乙醇胺、n，n-二丁基乙醇胺、n-甲基乙醇胺、3-氨基-1-丙醇等。另外，作为其他胺，能够使用羟胺、n-甲基二乙醇胺、正丙醇胺、单异丙醇胺、n-甲基二乙醇胺、烷基苯磺酸、二甘醇胺、甲基氨基乙醇、乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、三亚乙基四胺、n，n二甲基乙酰胺、单甲基甲酰胺。

《有机溶剂》

作为有机溶剂，优选使用乙二醇醚系的有机溶剂。作为乙二醇醚系的有机溶剂，可以列举丁基二甘醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚等。作为其他有机溶剂，能够使用二甲基亚砜、烷基羟基苯、丁炔二醇、saa、甲基甲氧基丁醇、n-甲基-2-吡咯烷酮、phn、邻二氯苯、三亚乙基四胺、甲基二甘醇。

《其他添加剂》

作为水系抗蚀剂剥离液，除胺、有机溶剂、水(纯水)以外，还可以添加儿茶酚、麦芽酚、硅系消泡剂、p-硝基苯甲酸、还元剂(山梨糖醇等)、防金属腐蚀剂、螯合剂等作为添加剂。对于其他添加剂的浓度而言，在调制水系抗蚀剂剥离液时，通过与水系抗蚀剂剥离液的容量相应地添加，能够调节浓度。

[第二实施方式]

图2是用于对本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置110与第一实施方式的调制装置10大致相同，主要包括调制槽3、测定机构102、以及控制机构101等。水系抗蚀剂剥离液的调制装置110的特征在于，测定机构102具备关于胺的测定机构121；控制机构101具备关于胺的控制机构123；以及在调制槽3中调制规定的胺浓度的水系抗蚀剂剥离液。

在本实施方式中，测定机构102具备关于胺的测定机构121。关于胺的测定机构121用于测定调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的物性值或者胺浓度中的至少一方。也可以测定双方。在调制装置110仅测定胺浓度并将该胺浓度调节为规定的浓度值的情况下，测定机构102与关于胺的测定机构121相同即可。但是，通常，测定机构102除关于胺的测定机构121以外，还另外具备用于进行关于其他成分的测定的测定机构。

关于胺的测定机构121所测定的物性值是与胺浓度具有相关关系的物性值。作为与胺浓度具有相关关系的物性值，优选使用从吸光度、电导率、密度、超声波传播速度以及粘度中选出的物性值。在该情况下，关于胺的测定机构121分别为吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、以及粘度计等。

作为关于胺的测定机构121，其中优选吸光光度计。若使用适当的测定波长，则能够在水系抗蚀剂剥离液的吸光度值与胺浓度之间，得到比较良好的直线关系。

作为与胺浓度具有直线关系的物性值的一例，能够示出图3以及图4。图3是示出单乙醇胺(mea：monoethanolamine)浓度与吸光度(测定波长λ＝1048nm)之间的关系的曲线图，图4是示出羟胺浓度与吸光度(测定波长λ＝1074nm)之间的关系的曲线图。

如图3所示，在水系抗蚀剂剥离液所含有的胺是作为烷醇胺的一种的单乙醇胺的情况下，水系抗蚀剂剥离液的单乙醇胺的浓度相对于位于近红外部的波长区域的特定波长(例如，1048nm)的水系抗蚀剂剥离液的吸光度具有高度的直线关系。另外，如图4所示，水系抗蚀剂剥离液的羟胺的浓度也相对于位于近红外部的波长区域的特定波长(例如，1074nm)的水系抗蚀剂剥离液的吸光度具有高度的直线关系。因此，通过测定水系抗蚀剂剥离液的吸光度，能够准确地测定胺浓度。在胺为单乙醇胺的情况下，优选所测定的波长是从1000～1600nm的波长区域中选出的特定的波长。在其他成分的影响小的1048nm附近灵敏度大而尤其良好。另外，在为羟胺的情况下，优选是从1050～1090nm的波长区域中选出的特定的波长。在其他成分的影响小的1074nm附近灵敏度大而尤其良好。

在本实施方式的调制装置110中，关于胺的测定机构121测定例如测定波长为1048nm的水系抗蚀剂剥离液的吸光度。该波长的吸光度与胺浓度(mea浓度)具有如图3这样的直线关系，因此使用该直线关系，能够根据吸光度的测定值准确地得到水系抗蚀剂剥离液的胺浓度(mea浓度)。

本实施方式的控制机构101具备关于胺的控制机构123。在本实施方式的调制装置110仅将胺浓度调节为规定的浓度的情况下，控制机构101与关于胺的控制机构123相同即可。在本实施方式的调制装置110对于胺以外的成分也调节浓度的情况下，控制机构101不仅具备关于胺的控制机构123，还另外具备关于其他成分的控制机构。

关于胺的控制机构123通过信号线147与关于胺的测定机构121连接等，从而从关于胺的测定机构121接收关于胺的测定机构121所得到的测定值。在关于胺的控制机构123中，将应当调节成的规定的胺浓度设定为浓度控制中的目标值的胺浓度。关于胺的控制机构123对接收到的胺浓度的测定值与目标值的胺浓度进行比较。关于胺的控制机构123通过信号线46与设置于各原料供给配管41、42、43的控制阀17、18、19连接等，从而与浓度的比较的结果相应地，对控制阀17、18、19进行适当的动作控制。

例如，在由测定机构102的关于胺的测定机构121测定出的胺浓度低于目标值的胺浓度的情况下，控制机构101的关于胺的控制机构123增加控制阀18的流量、或者减少控制阀17、19的流量，从而增加胺原液的相对的供给量。反之，在胺浓度高于目标值的胺浓度的情况下，关于胺的控制机构123减少控制阀18的流量、或者增加控制阀17、19的流量，从而相对增加纯水以及有机溶剂中的至少一方的供给量，减少胺原液的相对的供给量，由此控制胺浓度。但是，控制方法不限于此。也可以适当采用pid控制等各种控制方法。

需要说明的是，也可以利用关于胺的测定机构121测定出的物性值，对测定出的物性值与相关关系上的同目标值的胺浓度对应的物性值进行比较，由此控制胺浓度。

例如，在如能够得到如图3、图4所示的直线关系的情况这样，物性值与胺浓度具有一对一地对应的相关关系的情况下，能够根据该相关关系而得到与胺浓度对应的物性值。因此，存在与应当调节成的规定的胺浓度对应的“规定的物性值”。通过关于胺的控制机构123控制原料的供给量，以使得关于胺的测定机构121测定出的物性值成为该“规定的物性值”，从而能够使在调制槽3中调制出的水系抗蚀剂剥离液成为规定的胺浓度。

对于本实施方式的与第一实施方式共用的其他结构，由于与第一实施方式相同，因此省略其说明。

[第三实施方式]

图5是用于对本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置210与第一实施方式的调制装置10大致相同，主要包括调制槽3、测定机构202、以及控制机构201等。水系抗蚀剂剥离液的调制装置210的特征在于，测定机构202具备关于水分的测定机构222；控制机构201具备关于水分的控制机构224；以及在调制槽3中调制规定的水分浓度的水系抗蚀剂剥离液。

在本实施方式中，测定机构202具备关于水分的测定机构222。关于水分的测定机构222用于测定调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的物性值或者水分浓度中的至少一方。也可以测定双方。在调制装置210仅测定水分浓度并将该水分浓度调节为规定的浓度值的情况下，测定机构202与关于水分的测定机构222相同即可。但是，通常，测定机构202除关于水分的测定机构222以外，还另外具备用于进行关于其他成分的测定的测定机构。

关于水分的测定机构222所测定的物性值是与水分浓度具有相关关系的物性值。对于与水分浓度具有相关关系的物性值，也优选使用从吸光度、电导率、密度、超声波传播速度以及粘度中选出的与水分浓度能够得到直线关系的物性值。在该情况下，关于水分的测定机构222分别为吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、以及粘度计等。

作为关于水分的测定机构222，其中优选吸光光度计。若使用适当的测定波长，则能够在水系抗蚀剂剥离液的吸光度值与水分浓度之间，得到比较良好的直线关系。

作为与水分浓度具有直线关系的物性值的一例，在图6中示出了表示水系抗蚀剂剥离液的水分浓度与吸光度之间的关系的曲线图。优选呈现出与水分浓度的直线关系的吸光度的测定波长为从近红外线区域的950nm～2000nm的范围中选出的特定的波长。特别是在1940nm附近灵敏度大，故而优选。另外，在950nm～1010nm的范围，特别是976nm附近灵敏度大，故而优选。图6是示出测定波长λ＝1940nm的水系抗蚀剂剥离液的吸光度与水分浓度之间的关系的曲线图。需要说明的是，通过实验确认了即便在测定波长λ＝976nm的情况下，也与图6所示的曲线图同样地具有高度的直线关系。这样，通过检测水系抗蚀剂剥离液的吸光度，能够准确地测定水分浓度。

在本实施方式的调制装置210中，关于水分的测定机构222测定例如测定波长为1940nm的水系抗蚀剂剥离液的吸光度。该波长的吸光度与水分浓度具有如图6这样的直线关系，因此使用该直线关系，能够根据吸光度的测定值准确地得到水系抗蚀剂剥离液的水分浓度。

本实施方式的控制机构201具备关于水分的控制机构224。在本实施方式的调制装置210仅将水分浓度调节为规定的浓度的情况下，控制机构201与关于水分的控制机构224相同即可。在本实施方式的调制装置210对于水分以外的成分也调节浓度的情况下，控制机构201不仅具备关于水分的控制机构224，还另外具备关于其他成分的控制机构。

关于水分的控制机构224通过信号线247与关于水分的测定机构222连接等，从而从关于水分的测定机构222接收关于水分的测定机构222所得到的测定值。在关于水分的控制机构224中，将应当调节成的规定的水分浓度设定为浓度控制中的目标值的水分浓度。关于水分的控制机构224对接收到的水分浓度的测定值与目标值的水分浓度进行比较。关于水分的控制机构224通过信号线46与设置于各原料供给配管41、42、43的控制阀17、18、19连接等，从而与浓度的比较的结果相应地，对控制阀17、18、19进行适当的动作控制。

对于水分浓度而言，在由测定机构202的关于水分的测定机构222测定出的水分浓度低于目标值的水分浓度的情况下，控制机构201增加控制阀17的流量、或者减少控制阀18、19的流量，从而增加纯水的相对的供给量。反之，在水分浓度高于目标值的水分浓度的情况下，关于水分的控制机构224减少控制阀17的流量、或者增加控制阀18、19的流量，从而相对增加胺原液以及有机溶剂中的至少一方的供给量，减少纯水的相对的供给量，由此控制水分浓度。但是，控制方法不限于此。也可以适当采用pid控制等各种控制方法。

需要说明的是，对于水分浓度的调节而言，也可以利用关于水分的测定机构222测定出的物性值，对测定出的物性值与相关关系上的同目标值的水分浓度对应的物性值进行比较，由此控制水分浓度。

例如，在如能够得到如图6所示的直线关系的情况这样，物性值与水分浓度具有一对一地对应的相关关系的情况下，能够根据该相关关系而得到与水分浓度对应的物性值。因此，存在与应当调节成的规定的水分浓度对应的“规定的物性值”。通过关于水分的控制机构224控制原料的供给量，以使得关于水分的测定机构222测定出的物性值成为该“规定的物性值”，从而能够使在调制槽3中调制出的水系抗蚀剂剥离液成为规定的水分浓度。

对于本实施方式的与第一实施方式共用的其他结构，由于与第一实施方式相同，因此省略其说明。

[第四实施方式]

图7是用于对本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。本实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置310与第一实施方式的调制装置10大致相同，主要包括调制槽3、测定机构302、以及控制机构301等。但是，水系抗蚀剂剥离液的调制装置310的特征在于，测定机构302具备关于胺的测定机构321以及关于水分的测定机构322；控制机构301控制原料的供给量，以使得调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的胺浓度成为规定的胺浓度、以及调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的水分浓度成为规定的水分浓度；以及在调制槽3中调制规定的胺浓度以及规定的水分浓度的水系抗蚀剂剥离液。

在本实施方式中，测定机构302具备关于胺的测定机构321、以及关于水分的测定机构322。关于胺的测定机构321用于测定调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的物性值或者胺浓度中的至少一方。也可以测定双方。关于水分的测定机构322用于测定调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的物性值或者水分浓度中的至少一方。也可以测定双方。在调制装置310仅测定胺浓度和水分浓度并将它们调节为规定的浓度值的情况下，测定机构302可以仅为关于胺的测定机构321和关于水分的测定机构322。但是，一般，测定机构302除上述测定机构以外，还另外具备用于进行关于其他成分的测定的测定机构。

本实施方式的控制机构301具备：关于胺的控制机构323、关于水分的控制机构324、以及关于其他成分的控制机构等。或者也可以为汇总具备与上述功能相当的功能的一个控制机构。控制机构301通过信号线347等与测定机构302连接，从而能够接收测定机构302的测定信号。本实施方式的胺浓度的控制与第二实施方式相同。本实施方式的水分浓度的控制与第三实施方式相同。除此以外，对于与第一至第三实施方式共用的结构，由于与在各个实施方式中说明的内容相同，因此省略本实施方式中的它们的说明。

需要说明的是，在图7中示出本实施方式的调制装置310与原料贮存容器320、以及使用水系抗蚀剂剥离液的剥离设备390连接的方式。这样，调制装置310与原料贮存容器320以及剥离设备390连接，能够实现进行剥离工序的工厂中的现场运转。

原料贮存容器320是用于暂时贮存水系抗蚀剂剥离液的原料的容器。该原料贮存容器320包括胺贮存容器311a、311b以及有机溶剂贮存容器312a、312b等。胺贮存容器311a、311b、有机溶剂贮存容器312a、312b可以分别为一个，但优选如图7所示分别具备两个。胺贮存容器311a、311b从胺原料导入口52经由胺原料补充配管342而始终贮存有胺。另外，有机溶剂贮存容器312a、312b从有机溶剂原料导入口53经由有机溶剂原料补充配管343而始终贮存有有机溶剂。通过始终在原料贮存容器320中准备好所需的原料，从而调制装置310能够不中断地接受原料的供给，能够连续地调制水系抗蚀剂剥离液。

胺贮存容器311a、311b以及有机溶剂贮存容器312a、312b通过胺供给配管344以及有机溶剂供给配管345与调制装置310连接，从原料贮存容器320向调制槽3供给各种原料。供给的方式可以为基于送液泵的方式，也可以为容器的加压压送方式。根据需要，可以如图7所示，在将原料贮存容器320与调制槽3连接的胺供给配管344以及有机溶剂供给配管345设置控制阀313a～316b，调制装置310控制上述控制阀313a～316b。

另一方面，调制装置310经由连接于调制槽3的水系抗蚀剂剥离液供给配管304与剥离设备390连接。在水系抗蚀剂剥离液供给配管304设置有送液泵325以及控制阀326等。

在调制槽3中调制好的水系抗蚀剂剥离液利用送液泵325并通过水系抗蚀剂剥离液供给配管304从水系抗蚀剂剥离液供给口354供给至剥离设备390。剥离设备390经由信号线392与控制机构301连接。控制机构301经由信号线392接收从剥离设备390发出的水系抗蚀剂剥离液供给请求信号。控制阀326经由信号线349与控制机构301连接。控制机构301根据剥离设备390侧的要求对控制阀326进行开闭控制。由此，剥离设备390能够在需要水系抗蚀剂剥离液时以所需的量自动地接受水系抗蚀剂剥离液的供给。

[第五实施方式]

图8是用于对第五实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。与第一至第四实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置10、110、210、310的不同之处在于，具备贮存在调制槽3中调制好的水系抗蚀剂剥离液的贮存槽402。

在第五实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置410中，也与第一实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置10同样地，通过测定调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度中的至少任一方，从而将调制槽3内的抗蚀剂剥离液的成分浓度调节为规定的浓度。

在调制槽3中调制好的水系抗蚀剂剥离液从调制槽3向贮存槽402输送，贮存于贮存槽402。送液的方法可以采用通过送液泵等移送的方式等，并不特别限定。如图8所示，若通过连通管435将调制槽3与贮存槽402预先连结，则无需送液泵等而能够自然送液，简单方便，故而优选。

连通管435是供水系抗蚀剂剥离液流通的管路。如图8所示，调制槽3设置在比贮存槽402高的位置。例如如图8所示，连通管435将调制槽3的底部与贮存槽402的侧部连接。当由于从贮存槽402向剥离设备390供给水系抗蚀剂剥离液而使贮存在贮存槽402内的水系抗蚀剂剥离液量减少时，在调制槽3中调制好的水系抗蚀剂剥离液通过连通管435自然地向贮存槽402移动。连通管435具有适当的长度和配管内径，具有使在调制槽3中产生的水系抗蚀剂剥离液的浓度的变动不会波及贮存槽402内的缓冲作用。

优选贮存槽402也与调制槽3同样地具备测定机构431以及液面计432。作为测定机构431，能够使用与调制槽3所具备的测定机构相同的测定机构。测定机构431也可以还具备关于胺的测定机构以及关于水分的测定机构中的任一方或双方。通过上述装置，能够进行贮存于贮存槽402的水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度的测定。

另外，测定机构431以及液面计432也经由信号线447、448与控制机构401连接。控制机构401根据测定机构431测定出的贮存槽402内的水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度、液面计432测定出的贮存槽402内的水系抗蚀剂剥离液的液面位置，与调制槽3的情况同样地适当控制控制阀17、18、19。贮存槽402内的水系抗蚀剂剥离液的浓度变动非常小，因此实际上进行贮存槽402内部的水系抗蚀剂剥离液的浓度的监视和液量管理。

贮存槽402内的水系抗蚀剂剥离液通过循环管路434所具备的循环搅拌泵433而被循环搅拌。由此，贮存槽402内的水系抗蚀剂剥离液维持为均匀的浓度。

[第六实施方式]

图9是用于对第六实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。第六实施方式所涉及的水系抗蚀剂剥离液的调制装置510与之前说明的实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置的不同之处在于，具备两个调制槽。

调制槽503也与调制槽3同样地，具备测定机构531以及液面计532，经由信号线547以及信号线548与控制机构501连接。调制槽503内的水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度、以及液面位置由控制机构501监视，通过与控制经由信号线546连接的控制阀517、518、519从而调节调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的成分浓度的情况同样的方法，进行成分浓度、液面位置的调节。在调制槽503中调制好的水系抗蚀剂剥离液通过连通管535并贮存于贮存槽402。另外，调制槽503具备循环管路534，调制槽503内的水系抗蚀剂剥离液通过循环管路534所具备的循环搅拌泵533而被循环搅拌。

根据第六实施方式所涉及的水系抗蚀剂剥离液的调制装置，由于具备两个调制槽，因此即便例如调制槽3因故障等而无法运行，通过利用调制槽503调制水系抗蚀剂剥离液并向贮存槽402供给，能够不使装置停止而连续地进行水系抗蚀剂剥离液的调制和供给。另外，即便调制槽3内变空，也能够从调制槽503供给水系抗蚀剂剥离液。

需要说明的是，在图9中记载了具备两个调制槽的结构，但调制槽的数量并不特别限定，也可以具备三个以上的多个槽。但是，考虑到装置大型化、故障时的预备，对于一个贮存槽具备两个调制槽便足够。

[第七实施方式]

图10是用于对第七实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。第七实施方式所涉及的水系抗蚀剂剥离液的调制装置610与之前说明的实施方式的水系抗蚀剂剥离液的调制装置的不同之处在于，具备混合准备槽605作为将水系抗蚀剂剥离液的原料预先混合的预备混合机构。

混合准备槽605与纯水供给配管41、胺供给配管344以及有机溶剂供给配管345连接。另外，混合准备槽605通过配管606与调制槽3连接。

通过设置混合准备槽605，将向调制槽3供给的原料在混合准备槽605中混合然后向调制槽3供给，能够以接近水系抗蚀剂剥离液的组成的浓度向调制槽3供给。因此，能够防止调制槽3内的水系抗蚀剂剥离液的浓度急剧地变化，并且能够容易地进行水系抗蚀剂剥离液的调制。另外，水系抗蚀剂剥离液的原料被预先混合，因此调制槽3内的混合、搅拌的负担减轻，能够更加迅速地调制浓度均匀的水系抗蚀剂剥离液。

对于混合准备槽605中的混合而言，优选通过控制机构601控制经由信号线646连接的控制阀617、618、619，从而控制纯水、胺原液以及有机溶剂的流量，由此形成在调制槽3中调制的水系抗蚀剂剥离液的浓度。水系抗蚀剂剥离液的最终的浓度的调制在调制槽3中进行，因此在混合准备槽605中可以不高精度地进行调制。以在混合准备槽605中混合后的抗蚀剂剥离液的浓度进入由测定机构2测定出的物性值与成分浓度具有相关关系的浓度范围的程度，进行各原料的混合即可。但是，也可以与调制槽3同样地，通过测定装置测定物性值或成分浓度。

本实施方式的调制装置610所具备的预备混合机构不限于作为简易的混合槽而运行的混合准备槽605这样的方式。例如，也可以采用如下方式：供给原料的纯水供给配管41、胺供给配管344、有机溶剂供给配管345等在调制槽3的近前处汇合，从而使原料在汇合配管内混合。在该情况下，还可以采用在线混合器、静态混合器等配管型混合装置。也可以在循环管路34中汇合。

另外，对于预备混合机构而言，在如第六实施方式那样具备多个调制槽的水系抗蚀剂剥离液的调制装置中，也可以采用针对每个调制槽而具备预备混合机构的结构。

〔非水系抗蚀剂剥离液的调制装置〕

[第八实施方式]

图11是用于对本实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。本实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置710主要包括调制槽703、测定机构702、以及控制机构701等。

调制槽703是经由配管等接受供给且用于调配非水系抗蚀剂剥离液的原料从而调制规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液的调配容器。为了接受非水系抗蚀剂剥离液的原料的供给，调制槽703除连接有各原料供给配管742、743等以外，还具备用于将原料均匀地混合的搅拌机构736。另外，具备用于供给调制出的规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液的供给配管704。

测定机构702测定在调制槽703内调制的非水系抗蚀剂剥离液的物性值或者成分浓度中的至少任一方。由测定机构702测定的非水系抗蚀剂剥离液的物性值是与该非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度之间具有相关的物性值。若使用该相关关系，则能够根据测定出的物性值得到成分浓度，也能够将非水系抗蚀剂剥离液调整为规定的成分浓度。

控制机构701通过信号线747等与测定机构702连接，从而能够接收测定机构702的测定信号。另外，控制机构701与控制阀718、719连接，该控制阀718、719设置于用于向调制槽703供给原料的原料供给配管742、743。控制机构701通过控制上述控制阀，从而以水系抗蚀剂剥离液的成分浓度成为规定的成分浓度的方式调节向调制槽703供给的原料的供给量。

非水系抗蚀剂剥离液以胺以及有机溶剂为主要成分。胺从胺原料导入口752经由胺原料供给配管742供给至调制槽703。有机溶剂从有机溶剂原料导入口753经由有机溶剂原料供给配管743供给至调制槽703。除上述以外，在存在添加剂等其他原料的情况下，准备用于供给该原料的导入口、供给配管、控制阀等来进行供给即可。在图11中未示出添加剂等其他原料的供给线。另外，各原料不限于直接向调制槽703供给的情况。例如，在对调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液进行循环搅拌的情况下，也可以以使各原料在供液体循环的循环管路734中汇合的方式向调制槽703供给各原料。

在各原料供给配管742、743设置有经由信号线746与控制机构701连接的控制阀718、719。各控制阀接收由控制机构701发出的控制信号而被控制动作。优选各控制阀例如以增减每单位时间的流量的方式被控制机构701控制。各控制阀将流量的缺省值预先设定为，对以该缺省值的流量供给的原料进行调配而得到的非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度进入由测定机构702测定出的物性值与成分浓度具有相关关系的浓度范围。

从原料导入口752、753导入的各原料经由原料供给配管742、743以及控制阀718、719供给至调制槽703。供给至调制槽703内的原料被搅拌机构736搅拌，从而形成浓度均匀的非水系抗蚀剂剥离液。

搅拌机构736将调制槽703内搅拌成均匀的浓度。在图11中绘出了如下的循环搅拌方式：从调制槽703的底部经由呈环状地与调制槽703的侧部连接的循环管路734抽取调制槽703内的液体的一部分，通过循环搅拌泵733使该液体以在调制槽703内产生搅拌流的方式再次返回调制槽703内，但循环搅拌方式不限于此。也可以为利用电动机使搅拌叶片旋转的搅拌装置，还可以使搅拌件在调制槽703内旋转。

在调制槽703内调制出的非水系抗蚀剂剥离液由测定机构702进行测定。所测定的参数为在调制槽703内中调制出的非水系抗蚀剂剥离液的物性值或者成分浓度中的至少任一方。也可以为双方。在此，测定出的成分浓度是关于想要调节成规定的浓度的非水系抗蚀剂剥离液的成分的浓度。同样，所测定的物性值是与想要调节成规定的浓度的非水系抗蚀剂剥离液的成分具有相关的非水系抗蚀剂剥离液的物性值。由测定机构702测定出的物性值、与成分浓度对应的非水系抗蚀剂剥离液的成分不限于一个，也可以是多个。

成分浓度无法直接测定，因此通常测定与成分浓度具有相关的物性值，根据该测定值并利用相关关系来计算成分浓度。因此，测定机构702具备测定非水系抗蚀剂剥离液的物性值的测定装置。在仅测定物性值的情况下，测定机构702可以为测定装置本身。在根据测定出的物性值来计算成分浓度的情况下，需要将测定出的物性值运算加工为成分浓度，因此测定机构702除具备测定装置以外，还具备根据测定值来运算成分浓度的运算装置等。

对于测定机构702所具备的物性值的测定装置而言，根据应当调节浓度的非水系抗蚀剂剥离液的成分、所测定的物性值来选择最佳的装置。采用测定如下的物性值的测定装置即可，对于想要调节浓度的非水系抗蚀剂剥离液的成分，在包含想要调节的该规定的成分浓度的浓度范围，该物性值能够与该成分浓度得到良好的相关关系。例如，作为这种测定装置，优选吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、粘度计等。

测定机构702对在调制槽703内调制出的非水系抗蚀剂剥离液进行抽样，并测定其物性值。优选在测定前对抽样的非水系抗蚀剂剥离液进行温度调整等，以使得始终在相同的测定条件下进行测定。因此，优选测定机构702具备抽样管、抽样泵(未图示)、以及温度控制器(未图示)等。

但是，测定的方法不限于对试料进行抽样的方式。可以采用将传感器部浸渍于非水系抗蚀剂剥离液内的方式、在循环管路734等设置测定装置的方式等，根据所采用的测定装置利用最佳的方式进行测定即可。

在测定机构702测定成分浓度的情况下，根据由测定机构702所具备的测定装置测定出的物性值来计算成分浓度。在成分浓度的计算中，使用物性值与成分浓度的相关关系。该相关关系是物性值与成分浓度的对应关系，若两者一对一地对应，则能够根据该相关关系而由测定出的物性值求出对应的成分浓度。

为了得到规定的灵敏度，优选相关关系具备一定程度的斜率，但也可以不必是直线。若在包含想要调节的成分浓度的浓度范围内，成分浓度与物性值具有形成为一对一地对应的连续函数的相关关系，则能够根据测定出的物性值来计算对应的成分浓度。

测定机构702将测定出的物性值或者成分浓度向控制机构701发送。控制机构701从测定机构702接收测定值。测定机构702与控制机构701通过信号线747连接。测定值的发送接收经由该信号线747进行。但是，不限于此。也可以借助无线进行测定值的发送接收。另外，在对于多个成分测定物性值、成分浓度的情况下，可以针对各个成分而具备将测定装置与控制机构701连接的信号线。

控制机构701在浓度控制中设定作为目标的成分浓度的值。控制机构701对接收到的成分浓度的测定值与设定的成分浓度的目标值进行比较。在比较的结果是应当调节的成分的浓度比目标值低的情况下，控制对应的控制阀，以使得该成分的供给量相对于其他成分的供给量而相对地增加。反之，在应当调节的成分的浓度比目标值高的情况下，控制对应的控制阀，以使得该成分的供给量相对于其他成分的供给量而相对地减少。对于将哪个控制阀控制为何种程度而言，控制机构701根据偏离成分浓度的目标值的程度、原料的构成、各原料的浓度等诸条件，利用控制程序适当地进行计算。但是，控制的方法不限于此。除上述这种对控制量的目标值与当前值进行比较而进行控制的比例控制(p控制)以外，还能够采用所谓的积分控制(i控制)、微分控制(d控制)等。优选通过将上述控制方法适当组合而成的pid控制进行控制。

设置于非水系抗蚀剂剥离液的原料供给配管的各控制阀718、719通过信号线746与控制机构701连接。在图11中绘出了各控制阀718、719通过信号线746以串联的方式连接，但各控制阀也可以分别单独地通过信号线与控制机构701连接。也可以不基于信号线，而通过无线来进行控制。

另外，在图11中，控制机构701控制控制阀，但作为控制机构701优选采用计算机。也可以代替计算机，而使用通用的控制器进行控制。也可以将控制机构701构成为针对每个调节浓度的成分而单独准备的控制器的集合体。另外，也可以代替测定机构702和控制机构701，而使用将测定机构702与控制机构701构成为一个装置的所谓的浓度管理装置。在使用浓度管理装置的情况下，使浓度管理装置控制控制阀，以使得调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液始终成为规定的成分浓度即可。

在由测定机构702测定的参数是物性值的情况下，控制机构701进行基于物性值的控制。即，由测定机构测定的物性值与成分浓度具有相关关系，因此能够在该相关关系上得到与应当调节成的规定的成分浓度对应的“规定的物性值”。控制机构701以增减原料的供给量的方式控制控制阀718、719，以使得由测定机构702测定出的物性值成为该“规定的物性值”即可。

本实施方式的调制装置710通过反复连续地进行上述的调配、测定、控制的循环，能够自动并且连续地调制出规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液。一旦在调制槽703内调制出规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液，则之后以通过供给来补充减少的量的方式，维持规定的成分浓度并且追加调制非水系抗蚀剂剥离液即可。

在调制槽703中调制好的非水系抗蚀剂剥离液从与调制槽703的底部连接的非水系抗蚀剂剥离液供给配管704向调制槽703的外部供给。调制装置710可以单独使用，也可以与利用非水系抗蚀剂剥离液的其他剥离设备连接而使用。在该情况下，将非水系抗蚀剂剥离液供给配管704与其他剥离设备的非水系抗蚀剂剥离液供给口754连接。这样一来，在需要的时候，随时能够自动地向其他剥离设备供给新鲜状态的规定的成分浓度的非水系抗蚀剂剥离液。

优选调制装置710具备用于检测调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液的液面位置的液面计732。若调制装置710供给的非水系抗蚀剂剥离液的供给量始终大致恒定，则即便不存在液面计，通过使调制量与供给量平衡，也能够不使调制槽703变空而进行连续的调制。但是，在供给量增减的情况下，优选利用液面计732检测调制槽703内的液面位置，以调制槽703不变空的方式进行控制。

液面计732除以能够检测调制槽703内的液面位置的方式设置于调制槽703以外，还经由信号线748与控制机构701连接。例如，液面计732检测到调制槽703内的液面低于下限值，然后向控制机构701发出警报信号。控制机构701控制控制阀718、719增加原料的供给量，从而增加非水系抗蚀剂剥离液的调制量，以使液面位置恢复。当液面位置超过下限值时停止警报信号，当调制槽3内的非水系抗蚀剂剥离液的量恢复至规定的量时，控制机构1以维持该液面位置的方式进行控制。这样，能够使调制槽703内不变空。若相应地设定液面位置的上限，则还能够防止调制槽703的溢出。

需要说明的是，在图11中绘出了供给非水系抗蚀剂剥离液的各原料的原料供给配管742、743与调制槽703的侧部连接的方式，但不限于此。根据状况，也可以与调制槽703的上部、底部连接。还可以与循环管路34连接。另外，原料供给配管742、743无需与调制槽703连接成一体。例如，也可以以从上部滴下的方式向调制槽内供给原料。另外，在原料不是液状物而是粉状物的情况下，也可以不连接配管而连接粉体供给装置。

＜非水系抗蚀剂剥离液的原料＞

本实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置所使用的非水系抗蚀剂剥离液能够使用包括胺、有机溶剂、以及其他添加剂的原料。

《胺》

作为非水系抗蚀剂剥离液的原料所使用的胺，优选使用烷醇胺。作为烷醇胺，可以列举单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、n，n-二甲基乙醇胺、n，n-二乙基乙醇胺、氨乙基乙醇胺、n-甲基-n，n-二乙醇胺、n，n-二丁基乙醇胺、n-甲基乙醇胺、3-氨基-1-丙醇等。另外，作为其他胺，能够使用羟胺、n-甲基二乙醇胺、正丙醇胺、单异丙醇胺、n-甲基二乙醇胺、烷基苯磺酸、二甘醇胺、甲基氨基乙醇、乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、三亚乙基四胺、n，n二甲基乙酰胺、单甲基甲酰胺。

《有机溶剂》

作为有机溶剂，优选使用乙二醇醚系的有机溶剂。作为乙二醇醚系的有机溶剂，可以列举丁基二甘醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚等。作为其他有机溶剂，能够使用二甲基亚砜、烷基羟基苯、丁炔二醇、saa、甲基甲氧基丁醇、n-甲基-2-吡咯烷酮、phn、邻二氯苯、三亚乙基四胺、甲基二甘醇。

《其他添加剂》

作为非水系抗蚀剂剥离液，除胺以及有机溶剂，还可以添加儿茶酚、麦芽酚、硅系消泡剂、p-硝基苯甲酸、还元剂(山梨糖醇等)、防金属腐蚀剂、螯合剂等作为添加剂。对于其他添加剂的浓度而言，在调制非水系抗蚀剂剥离液时，通过与非水系抗蚀剂剥离液的容量相应地添加，能够调节浓度。

[第9实施方式]

图12是用于对本实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。本实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置810与第八实施方式的调制装置710大致相同，主要包括调制槽703、测定机构802、以及控制机构801等。但是，非水系抗蚀剂剥离液的调制装置810的特征在于，测定机构802具备关于胺的测定机构821；控制机构801具备关于胺的控制机构823；以及在调制槽703中调制规定的胺浓度的非水系抗蚀剂剥离液。

在本实施方式中，测定机构802具备关于胺的测定机构821。关于胺的测定机构821用于测定调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液的物性值或者胺浓度中的至少一方。也可以测定双方。在调制装置810仅测定胺浓度并将该胺浓度调节为规定的浓度值的情况下，测定机构802与关于胺的测定机构821相同即可。但是，通常，测定机构802除关于胺的测定机构821以外，还另外具备用于进行关于其他成分的测定的测定机构。

关于胺的测定机构821所测定的物性值是与胺浓度具有相关关系的物性值。作为与胺浓度具有相关关系的物性值，优选使用从吸光度、电导率、密度、超声波传播速度以及粘度中选出的物性值。在该情况下，关于胺的测定机构821分别为吸光光度计、电导率计、密度计、超声波浓度计、以及粘度计等。

作为关于胺的测定机构821，其中优选吸光光度计。若使用适当的测定波长，则能够在非水系抗蚀剂剥离液的吸光度值与胺浓度之间，得到比较良好的直线关系。

作为能够与胺浓度得到直线关系的物性值，能够使用例如图3以及图4所示的吸光度。图3是示出单乙醇胺(mea：monoethanolamine)浓度与吸光度(测定波长λ＝1048nm)之间的关系的曲线图，图4是示出羟胺浓度与吸光度(测定波长λ＝1074nm)之间的关系的曲线图。需要说明的是，图3以及图4是示出水系抗蚀剂剥离液的胺浓度与吸光度之间的关系的曲线图，但在非水系抗蚀剂剥离液中也能够得到同样的直线关系。

如图3所示，在非水系抗蚀剂剥离液所含有的胺是作为烷醇胺的一种的单乙醇胺的情况下，非水系抗蚀剂剥离液的单乙醇胺的浓度相对于位于近红外部的波长区域的特定波长(例如，1048nm)的非水系抗蚀剂剥离液的吸光度具有高度的直线关系。另外，如图4所示，非水系抗蚀剂剥离液的羟胺的浓度也相对于位于近红外部的波长区域的特定波长(例如，1074nm)的非水系抗蚀剂剥离液的吸光度具有高度的直线关系。因此，通过测定非水系抗蚀剂剥离液的吸光度，能够准确地测定胺浓度。在胺为单乙醇胺的情况下，优选所测定的波长是从1000～1600nm的波长区域中选出的特定的波长。在其他成分的影响小的1048nm附近灵敏度大而尤其良好。另外，在为羟胺的情况下，优选是从1050～1090nm的波长区域中选出的特定的波长。在其他成分的影响小的1074nm附近灵敏度大而尤其良好。

在本实施方式的调制装置810中，关于胺的测定机构821测定例如测定波长为1048nm的非水系抗蚀剂剥离液的吸光度。该波长的吸光度与胺浓度(mea浓度)具有如图3这样的直线关系，因此使用该直线关系，能够根据吸光度的测定值准确地得到非水系抗蚀剂剥离液的胺浓度(mea浓度)。

本实施方式的控制机构801具备关于胺的控制机构823。在本实施方式的调制装置810仅将胺浓度调节为规定的浓度的情况下，控制机构801与关于胺的控制机构823相同即可。在本实施方式的调制装置810对于胺以外的成分也调节浓度的情况下，控制机构801不仅具备关于胺的控制机构823，还另外具备关于其他成分的控制机构。

关于胺的控制机构823通过信号线847与关于胺的测定机构821连接等，从而从关于胺的测定机构821接收关于胺的测定机构821所得到的测定值。在关于胺的控制机构823中，将应当调节成的规定的胺浓度设定为浓度控制中的目标值的胺浓度。关于胺的控制机构823对接收到的胺浓度的测定值与目标值的胺浓度进行比较。关于胺的控制机构823通过信号线746与设置于各原料供给配管742、743的控制阀718、719连接等，从而与浓度的比较的结果相应地，对控制阀718、719进行适当的动作控制。

例如，在由测定机构802的关于胺的测定机构821测定出的胺浓度低于目标值的胺浓度的情况下，控制机构801的关于胺的控制机构823增加控制阀718的流量、或者减少控制阀719的流量，从而增加胺原液的相对的供给量。反之，在胺浓度高于目标值的胺浓度的情况下，关于胺的控制机构823减少控制阀718的流量、或者增加控制阀719的流量，从而相对增加有机溶剂的供给量，减少胺原液的相对的供给量，由此控制胺浓度。但是，控制方法不限于此。也可以适当采用pid控制等各种控制方法。

需要说明的是，也可以利用关于胺的测定机构821测定出的物性值，对测定出的物性值与相关关系上的同目标值的胺浓度对应的物性值进行比较，由此控制胺浓度。

例如，在如能够得到如图3、图4所示的直线关系的情况这样，物性值与胺浓度具有一对一地对应的相关关系的情况下，能够根据该相关关系而得到与胺浓度对应的物性值。因此，存在与应当调节成的规定的胺浓度对应的“规定的物性值”。通过关于胺的控制机构823控制原料的供给量，以使得关于胺的测定机构821测定出的物性值成为该“规定的物性值”，从而能够使在调制槽703中调制出的非水系抗蚀剂剥离液成为规定的胺浓度。

对于本实施方式的与第八实施方式共用的其他结构，由于与第八实施方式相同，因此省略其说明。

需要说明的是，在图12中示出本实施方式的调制装置810与原料贮存容器820、以及使用非水系抗蚀剂剥离液的剥离设备890连接的方式。这样，调制装置810与原料贮存容器820以及剥离设备890连接，能够实现进行剥离工序的工厂中的现场运转。

原料贮存容器820是用于暂时贮存非水系抗蚀剂剥离液的原料的容器。该原料贮存容器820包括胺贮存容器811a、811b以及有机溶剂贮存容器812a、812b等。胺贮存容器811a、811b、有机溶剂贮存容器812a、812b可以分别为一个，但优选如图12所示分别具备两个。胺贮存容器811a、811b从胺原料导入口752经由胺原料补充配管842而始终贮存有胺。另外，有机溶剂贮存容器812a、812b从有机溶剂原料导入口753经由有机溶剂原料补充配管843而始终贮存有有机溶剂。通过始终在原料贮存容器820中准备好所需的原料，从而调制装置810能够不中断地接受原料的供给，能够连续地调制非水系抗蚀剂剥离液。

胺贮存容器811a、811b以及有机溶剂贮存容器812a、812b通过胺供给配管844以及有机溶剂供给配管845与调制装置810连接，从原料贮存容器820向调制槽703供给各种原料。供给的方式可以为基于送液泵的方式，也可以为容器的加压压送方式。根据需要，可以如图12所示，在将原料贮存容器820与调制槽703连接的胺供给配管844以及有机溶剂供给配管845设置控制阀813a～816b，调制装置810控制上述控制阀313a～316b。

另一方面，调制装置810经由连接于调制槽703的非水系抗蚀剂剥离液供给配管804与剥离设备890连接。在非水系抗蚀剂剥离液供给配管804设置有送液泵825以及控制阀826等。

在调制槽703中调制好的非水系抗蚀剂剥离液利用送液泵825并通过非水系抗蚀剂剥离液供给配管804从非水系抗蚀剂剥离液供给口854供给至剥离设备890。剥离设备890经由信号线892与控制机构801连接。控制机构801经由信号线892接收从剥离设备890发出的非水系抗蚀剂剥离液供给请求信号。控制阀826经由信号线849与控制机构801连接。控制机构801根据剥离设备890侧的要求对控制阀826进行开闭控制。由此，剥离设备890能够在需要非水系抗蚀剂剥离液时以所需的量自动地接受非水系抗蚀剂剥离液的供给。

[第十实施方式]

图13是用于对第十实施方式所涉及的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。第十实施方式所涉及的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置与第八、九实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置710、810的不同之处在于，具备贮存在调制槽703中调制好的非水系抗蚀剂剥离液的贮存槽902。

在第十实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置910中，也与第八实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置710同样地，通过测定调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度中的至少任一方，从而将调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度调节为规定的浓度。

在调制槽703中调制好的非水系抗蚀剂剥离液从调制槽703向贮存槽902输送，贮存于贮存槽902。送液的方法可以采用通过送液泵等移送的方式等，并不特别限定。如图13所示，若通过连通管935将调制槽703与贮存槽902预先连结，则无需送液泵等而能够自然送液，简单方便，故而优选。

连通管935是供非水系抗蚀剂剥离液流通的管路。如图13所示，调制槽703设置在比贮存槽902高的位置。例如如图13所示，连通管935将调制槽703的底部与贮存槽902的侧部连接。当由于从贮存槽902向剥离设备890供给非水系抗蚀剂剥离液而使贮存在贮存槽902内的非水系抗蚀剂剥离液减少时，在调制槽703中调制好的非水系抗蚀剂剥离液通过连通管935自然地向贮存槽902移动。连通管935具有适当的长度和配管内径，具有使在调制槽703中产生的非水系抗蚀剂剥离液的浓度的变动不会波及贮存槽902内的缓冲作用。

优选贮存槽902也与调制槽703同样地具备测定机构931以及液面计932。作为测定机构931，能够使用与调制槽703所具备的测定机构相同的测定机构。测定机构931也可以还具备关于胺的测定机构。通过上述装置，能够测定贮存于贮存槽902的非水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度。

另外，测定机构931以及液面计932也经由信号线947、948与控制机构901连接。控制机构901根据测定机构931测定出的贮存槽902内的非水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度、液面计932测定出的贮存槽902内的非水系抗蚀剂剥离液的液面位置，与调制槽703的情况同样地适当控制控制阀718、719。贮存槽902内的非水系抗蚀剂剥离液的浓度变动非常小，因此实际上进行贮存槽902内部的非水系抗蚀剂剥离液的浓度的监视和液量管理。

贮存槽902内的非水系抗蚀剂剥离液通过循环管路934所具备的循环搅拌泵933而被循环搅拌。由此，贮存槽902内的非水系抗蚀剂剥离液维持为均匀的浓度。

[第十一实施方式]

图14是用于对第十一实施方式所涉及的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。第十一实施方式所涉及的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置1010与第八至第十实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置710、810、910的不同之处在于，具备两个调制槽。

调制槽1003也与调制槽703同样地，具备测定机构1031以及液面计1032，经由信号线1047以及信号线1048与控制机构1001连接。调制槽1003内的非水系抗蚀剂剥离液的物性值或成分浓度、以及液面位置由控制机构1001监视，通过与控制经由信号线1046连接的控制阀1018、1019从而调节调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液的成分浓度的情况同样的方法，进行成分浓度、液面位置的调节。在调制槽1003中调制好的非水系抗蚀剂剥离液通过连通管1035并贮存于贮存槽902。另外，调制槽1003具备循环管路1034，调制槽1003内的非水系抗蚀剂剥离液通过循环管路1034所具备的循环搅拌泵1033而被循环搅拌。

根据第十一实施方式所涉及的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置1010，由于具备两个调制槽，因此即便例如调制槽703因故障等而无法运行，通过利用调制槽1003调制非水系抗蚀剂剥离液并向贮存槽902供给，能够不使装置停止而连续地进行非水系抗蚀剂剥离液的调制和供给。另外，即便调制槽703内变空，也能够从调制槽1003供给非水系抗蚀剂剥离液。

需要说明的是，在图14中记载了具备两个调制槽的结构，但调制槽的数量并不特别限定，也可以具备三个以上的多个槽。但是，考虑到装置大型化、故障时的预备，对于一个贮存槽具备两个调制槽便足够。

[第十二实施方式]

图15是用于对第十二实施方式所涉及的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置进行说明的示意图。第十二实施方式所涉及的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置1110与第八至第十一实施方式的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置的不同之处在于，具备混合准备槽1105作为将非水系抗蚀剂剥离液的原料预先混合的预备混合机构。

混合准备槽1105与胺供给配管844以及有机溶剂供给配管845连接。另外，混合准备槽1105通过配管1106与调制槽703连接。

通过设置混合准备槽1105，将向调制槽703供给的原料在混合准备槽1105中混合然后向调制槽703供给，能够以接近非水系抗蚀剂剥离液的组成的浓度向调制槽703供给。因此，能够防止调制槽703内的非水系抗蚀剂剥离液的浓度急剧地变化，并且能够容易地进行非水系抗蚀剂剥离液的调制。另外，非水系抗蚀剂剥离液的原料被预先混合，因此调制槽703内的混合、搅拌的负担减轻，能够更加迅速地调制浓度均匀的非水系抗蚀剂剥离液。

对于混合准备槽1105中的混合而言，优选通过控制机构1101控制经由信号线1146连接的控制阀1118、1119，从而控制胺原液以及有机溶剂的流量，由此形成在调制槽703中调制的非水系抗蚀剂剥离液的浓度。非水系抗蚀剂剥离液的最终的浓度的调节在调制槽703中进行，因此在混合准备槽1105中可以不高精度地进行调制。以在混合准备槽1105中混合后的抗蚀剂剥离液的浓度进入由测定机构702测定出的物性值与成分浓度具有相关关系的浓度范围的程度，进行各原料的混合即可。但是，也可以与调制槽703同样地，通过测定装置测定物性值或成分浓度。

本实施方式的调制装置1110所具备的预备混合机构不限于作为简易的混合槽而运行的混合准备槽1105这样的方式。例如，也可以采用如下方式：供给原料的原料供给配管742、743等在调制槽703的近前处汇合，从而使原料在汇合配管内混合。在该情况下，还可以采用在线混合器、静态混合器等配管型混合装置。也可以在循环管路734中汇合。

另外，对于预备混合机构而言，在如第十一实施方式那样具备两个以上的调制槽的非水系抗蚀剂剥离液的调制装置中，也可以采用针对每个调制槽而设置预备混合机构的结构。