一种光罩及清洁装置的制作方法

本发明涉及液晶显示器技术领域，尤其涉及一种光罩及清洁装置。

背景技术：

在薄膜晶体管液晶显示器的黄光曝光制程中，目前采用光罩对电路图形进行定义，若光罩上有异物，可能造成曝光时异物区域光路无法通过，出现图形异常。目前，光罩使用过程中，在上下机台后需要人员手动使用风枪，对光罩表面进行吹拭，以达到对光罩表面异物清洁的目的。

但是人员手动使用风枪吹风，效率低下，单次清洁需要10分钟以上。人员使用风枪对光罩进行清洁，需要严格控制风枪吹风大小及吹风角度，若吹风强度大将可能导致光罩表面膜层吹破，造成光罩报废。

技术实现要素：

针对上述问题中存在的不足之处，本发明提供一种光罩及清洁装置。

为实现上述目的，本发明提供一种光罩，包括：

石英玻璃板、透明导电膜、半透明膜和金属框；其中，

在所述石英玻璃板的下面设有所述金属框，所述半透明膜设置在所述金属框的下端，在所述石英玻璃板的上面和所述半透明膜的下面均设有所述透明导电膜。

上述的光罩，在所述石英玻璃板与所述金属框之间设有遮光膜。

上述的光罩，所述遮光膜与所述金属框通过黏着剂连接。

上述的光罩，所述遮光膜为多块间隔设置。

上述的光罩，在两侧的所述遮光膜边缘处设有夹持部。

一种清洁装置，包括：带有正极电极的上清洁板和下清洁板用于清洁所述光罩表面异物，所述上清洁板和所述下清洁板尺寸相同。

上述的清洁装置，所述上清洁板和所述下清洁板对称设置，所述上清洁板和所述下清洁板之间距离为10毫米，所述上清洁板和所述下清洁板为金属材质。

上述的清洁装置，还包括绝缘夹具用于夹持所述光罩。

上述的清洁装置，还包括导电针用于对所述透明导电膜导电。

上述的清洁装置，还包括设置在所述上清洁板一侧或所述下清洁板一侧的去离子装置用于去除所述光罩表面残留静电。

在上述技术方案中，本发明提供的光罩和清洁装置，与现有技术相比，通过在光罩表面设置透明导电膜，对透明导电膜通电，使得掉落在光罩上的异物带电；再通过光罩清洁装置，通过相反电性的上清洁板和下清洁板吸附异物，达到对光罩表面异物洁净方便快捷的效果。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。

图1为本申请的一个实施例中光罩的结构示意图。

图2为本申请的一个实施例中光罩的准备清洁前状态图。

图3为本申请的一个实施例中清洁装置的结构示意图。

图4为本申请的一个实施例中清洁装置对光罩进行清洁的状态图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步说明。

如图1所示，示意性地显示了该光罩1，包括：石英玻璃板12、透明导电膜11、半透明膜15和金属框16；其中，

在石英玻璃板12的下面设有金属框16，半透明膜15设置在金属框16的下端，在石英玻璃板12的上面和半透明膜15的下面均设有透明导电膜11。

通过在光罩1表面设置透明导电膜11，对透明导电膜11通电，使得掉落在光罩1上的异物20带电，并通过清洁装置将异物清除，清除异物效果好，不会产生遗漏。避免造成曝光时异物区域光路无法通过，出现图形异常的问题。

特别是，在该光罩表面沉积一层透明导电膜11，透明导电膜11为ITO或有机材料等，通过PVD、CVD、涂胶设备等进行成膜，透明导电膜11厚度可根据实际工艺设计为

在一个优选的实施例中，还包括设置在石英玻璃板11下面的遮光膜13，遮光膜13为多块间隔设置。遮光膜13的作用使光源能通过遮光膜13均匀显示，使光照射的强度在控制范围之内。使用遮光膜13是用来调节和优化电子显示器中光达到致密和均匀，遮光膜13的功能不止是让显示光线达到致密和均匀而已。因为使用不同的材质制作所以不同材质的遮光膜13功能也是大同小异。遮光膜13具有导热、缓冲、背光、防水、耐摩擦等功能和特点。

在一个优选的实施例中，遮光膜13与金属框14通过黏着剂连接，使用粘着剂粘结效果好，不易脱离。

在一个优选的实施例中，在两侧的遮光膜13边缘处设有绝缘夹具40夹持部16。便于夹持，操作方便。

如图2和图3所示，一种清洁装置，带有正极电极的上清洁板51和下清洁板52，上清洁板51和下清洁板52尺寸相同。光罩清洁装置，通过相反电性的上清洁板51和下清洁板52吸附光罩1上的异物20，达到对光罩1表面异物20洁净方便快捷的效果。

在一个优选的实施例中，上清洁板51和下清洁板52对称设置，可同时对光罩1两面进行清洁。

在一个优选的实施例中，上清洁板51和下清洁板52之间距离为10毫米。光罩1位于上清洁板51和下清洁板52之间避免与其接触，可更好的将光罩1表面异物20清除。上清洁板51和下清洁板52为金属材质，通电效果好，硬度高不会轻易损坏。

在一个优选的实施例中，清洁装置还包括设置在上清洁板51一侧或下清洁板52一侧的去离子装置53，可消除光罩1表面残留静电。

在一个优选的实施例中，下清洁板52安装在绝缘架体上，用于将下清洁板52固定避免移位。上清洁板51安装在另一个绝缘架体上，将上清洁板51固定，该绝缘架体底部安装有升降装置用于将上清洁板51升起降落，控制与光罩1之间的距离。光罩1与上清洁板51、下清洁板52之间的距离为1-5mm，优选2-3mm，可更好的对光罩1清洁。

在一个优选的实施例中，清洁装置还包括设置在上清洁板51一侧的供电装置，用于对上清洁板51和下清洁板52供电。

在一个优选的实施例中，清洁装置还包括设置绝缘夹具40，将光罩1夹住并运送到上清洁板51和下清洁板52之间。

在一个优选的实施例中，清洁装置还包括导电针30，用于对光罩1上的透明导电膜11导电使用。

具体使用时：首先将光罩1放置在清洁装置的夹具40上，要求清洁装置承载及运送光罩1的夹具40与光罩1接触部位为硬质绝缘材料设计，避免对光罩1表面进行放电。夹持部位16设置在光罩1边缘处对光罩1使用不造成影响区域，如图3。

然后使用导电针30接触光罩1上下表面透明导电膜11对光罩1正反面进行瞬间通电，电压-50V～-100V即可，通电时间1s以内，使光罩1表面异物20带电。将通电后的光罩1运送至上清洁板51和下清洁板52之间如图4所示。清洁装置还包括对光罩1上下表面进行通电的导电装置，此导电装置与导电针30连接，接触通电时间可以根据实际需求进行调整。

清洁装置的上清洁板51和下清洁板52带电极性相反，且要求光罩1表面通电的电压应小于上清洁板51和下清洁板52的电压。优选的光罩1表面通电的电压-50V～-100V，上清洁板51和下清洁板52的电压+150～+200V。且上清洁板51和下清洁板52与光罩1表面的间隔设计为1～5mm内，使得上清洁板51和下清洁板52更有效的对光罩1表面异物20进行吸附清洁，清洁时间可根据实际需求在1～10s以内，通过调整清洁装置上夹具40的移动速度，进行清洁时间的调整。

清洁完成后，通过夹具40将光罩1运出，同时去离子装置53对光罩1表面静电进行清除，避免光罩1表面因带电吸附空气中微粒影响清洁效果。其中静电清除可使用去离子风或X射线(X-ray)方式清除，实际使用中，可以将清洁装置安装于曝光机内光罩1必经过且不影响曝光机使用的路径上，提高光罩1清洁效率。可提升光罩1清洁效率，单片光罩1清洁，可控制在2分钟内，且降低光罩1报废风险。

虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述，但在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。