技术特征：
技术总结
本发明提供一种BPS型阵列基板的制作方法及BPS型阵列基板。本发明的BPS型阵列基板的制作方法，利用第一色阻层和第二色阻层形成的双层色阻结构分别用于垫高主隔垫物和辅助隔垫物的主衬垫部和辅助衬垫部，使得所述主衬垫部和辅助衬垫部凸起明显，从而使得主隔垫物和辅助隔垫物自身的厚度减小，进而可以减少形成主隔垫物和辅助隔垫物的BPS材料用量，降低生产成本，通过半曝光工艺减薄辅助衬垫部下方第一色阻层的厚度即可实现所述主隔垫物和辅助隔垫物之间的高度差，制作方法简单。
技术研发人员：邓竹明
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
技术研发日：2018.04.17
技术公布日：2018.09.14