调色剂的制作方法_2

文档序号:8256610阅读:来源:国知局
在的、容易渗出的低分子量(MwlOOO以下)树脂、及低 Tg(40°C以下)树脂、以及根据情况的脱模剂的渗出受到抑制。其结果,能够获得调色剂的 搅拌性良好,保存稳定性、以及打印率为30%以上的高打印率图像输出耐久时的环境稳定 性及显影耐久性优异的调色剂。
[0037] 关于ST3,优选满足1. 00彡ST3彡0? 40的关系,更优选满足0? 80彡ST3彡0? 50 的关系。从带电性、耐久性的观点出发,ST3优选为1. 00以下、更优选为0. 90以下、进一步 优选为0.80以下。
[0038]ST3可以利用有机娃聚合物形成中使用的有机娃化合物的种类和量、以及有机娃 聚合物形成时的水解、加聚和缩聚的反应温度、反应时间、反应溶剂及pH来控制。
[0039] 本发明中,调色剂颗粒的四氢呋喃(THF)不溶性物质的29Si_NMR的测定中,相对于 有机硅聚合物的总峰面积的、与硅键合的〇1/2的数量为2. 0的结构(以下也称为X2结构) 的峰面积的比例[SX2]与上述ST3优选满足ST3/SX2彡1. 00的关系。
[0040] 通过上述ST3与SX2相比为同等或其以上,从而硅氧烷结构的交联结构所带来的 耐久性与带电性的平衡变得良好。因此,环境稳定性、保存稳定性、显影耐久性更加优异,在 各种环境下起雾、图像浓度稳定性均优异。更优选满足ST3/SX2 > 1. 50的关系,进一步优 选满足ST3/SX2 > 2. 00的关系。
[0041]ST3/SX2的值可以利用有机硅聚合物形成中使用的有机硅化合物的种类和量、以 及有机硅聚合物形成时的水解、加聚和缩聚的反应温度、反应时间、反应溶剂及pH来控制。
[0042] 上述式(T3)所示的部分结构中,R是碳数为1以上且6以下的烷基或苯基。R的 疏水性大时,在各种环境下存在带电量变动增大的倾向。特别优选环境稳定性优异的、碳数 为1以上5以下的烧基。
[0043] 本发明中,上述R是碳数为1以上且3以下的烷基对于带电性及起雾防止的进一 步提高而言是更优选的方式。带电性良好时,转印性好,转印残余调色剂少,因此鼓、带电构 件及转印构件的污染良好。
[0044] 作为碳数为1以上且3以下的烃基,可以优选地例示出甲基、乙基、或丙基。从环 境稳定性和保存稳定性的观点出发,R进一步优选为甲基。
[0045] 作为本发明中使用的有机硅聚合物的代表性的制造例,可列举出被称为溶胶凝胶 法的方法。
[0046] 溶胶凝胶法为使用金属醇盐M(0R)n(M:金属、0 :氧、R:烃、n:金属的氧化数)作为 起始原料,在溶剂中进行水解及缩聚,经过溶胶状态,进行凝胶化的方法,用于合成玻璃、陶 瓷、有机-无机杂合物、纳米复合物的方法。使用该制造方法时,能够自液相在低温下制作 表层、纤维、块体、微粒等各种形状的功能性材料。
[0047] 在调色剂颗粒的表层存在的有机硅聚合物具体而言优选通过以烷氧基硅烷为代 表的硅化合物的水解及缩聚而生成。
[0048] 通过在调色剂颗粒上均匀地设置含有该有机硅聚合物的表层,从而即使像现有的 调色剂那样不进行无机微粒的固着、附着,也能够得到环境稳定性提高、且长期使用时的调 色剂的性能降低不易发生、保存稳定性优异的调色剂。
[0049] 进而,溶胶凝胶法由于自溶液出发、将其溶液凝胶化而形成材料,因此能够制作各 种微细结构及形状。特别是在水系介质中制造调色剂颗粒时,由于有机硅化合物的硅烷醇 基那样的亲水基所带来的亲水性而变得易于在调色剂颗粒的表面析出。
[0050] 然而,有机硅化合物的疏水性大时(例如为有机硅化合物的烃基的碳数超过6的 烃基的情况下),具有在调色剂颗粒的表面上容易形成调色剂颗粒的重均粒径(um)的 1/10以下的聚集体的倾向。另一方面,有机硅化合物的烃基的碳数为〇时,疏水性变弱,因 此调色剂的带电稳定性恶化。上述微细结构及形状可以利用反应温度、反应时间、反应溶 剂、pH、有机金属化合物的种类及量等来调整。
[0051] 本发明中,调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层,所述有机硅聚合物具有上 述式(T3)所示的部分结构。
[0052] 前述有机硅聚合物优选为使具有下述式(Z)所示结构的有机硅化合物聚合而得 到的有机硅聚合物。
[0053] [化学式3]
[0054]
【主权项】
1. 一种调色剂,其特征在于,具有调色剂颗粒,所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物 的表层, 所述有机硅聚合物具有下述式(T3)所示的部分结构, 所述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的29Si_NMR的测定中,相对于有机硅聚合物的 总峰面积的、下述式(T3)所示的部分结构的峰面积的比例ST3满足ST3 > 0. 40的关系, R-Si(01/2)3(T3) 式(T3)中,R表示碳数1以上且6以下的烷基或苯基。
2. 根据权利要求1所述的调色剂,其特征在于,所述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物 质的29Si-NMR的测定中,相对于所述有机硅聚合物的总峰面积的、与硅键合的01/2的数量为 2. 0的结构的峰面积的比例SX2和所述ST3满足ST3/SX2彡1. 00的关系。
3. 根据权利要求1或2所述的调色剂,其特征在于,所述有机硅聚合物为使具有下述式 (Z)所示结构的有机硅化合物聚合而得到的有机硅聚合物,
式⑵中,&表示碳数1以上且6以下的烷基或苯基,R2、R3&R4各自独立地表示卤素 原子、羟基、乙酰氧基、或烷氧基。
4. 根据权利要求3所述的调色剂,其特征在于,所述式⑵中的&为甲基、乙基、丙基、 或苯基。
5. 根据权利要求3所述的调色剂,其特征在于,所述札为碳数1以上且3以下的烷基。
6. 根据权利要求5所述的调色剂,其特征在于,所述烷基为甲基、乙基、或丙基。
7. 根据权利要求3所述的调色剂,其特征在于,所述式(Z)中的R2、R3&R4各自独立地 为烧氧基。
8. 根据权利要求1或2所述的调色剂,其特征在于,所述调色剂颗粒通过在水系介质中 形成聚合性单体组合物的颗粒并使所述聚合性单体聚合而制造,所述聚合性单体组合物含 有: 用于形成所述有机硅聚合物的有机硅化合物、以及 聚合性单体。
【专利摘要】本发明为一种调色剂,其具有调色剂颗粒,所述调色剂颗粒具有含有有机硅聚合物的表层,前述有机硅聚合物具有特定的部分结构,前述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的29Si-NMR的测定中,相对于有机硅聚合物的总峰面积的、该部分结构的峰面积的比例[ST3]满足ST3≥0.40的关系。
【IPC分类】G03G9-08
【公开号】CN104570633
【申请号】CN201410525148
【发明人】阿部浩次, 照井雄平, 桂大侍, 野中克之
【申请人】佳能株式会社
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年10月8日
【公告号】EP2860584A1, US20150099224
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