取向材的制造方法、取向材、相位差材的制造方法及相位差材的制作方法

文档序号:8287752阅读:454来源:国知局
取向材的制造方法、取向材、相位差材的制造方法及相位差材的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及取向材的制造方法、取向材、相位差材的制造方法以及相位差材。
【背景技术】
[0002] 近年来,在使用了液晶面板的电视等的显示器的领域,作为针对高性能化的努力, 可以欣赏3D图像的3D显示器的开发进展。在3D显示器中,例如,通过使观察者的右眼可 见右眼用图像,使观察者的左眼可见左眼用图像,从而可以显示具有立体感的图像。
[0003] 显示3D图像的3D显示器的方式有多种,作为不需要专用眼镜的方式,已知双凸透 镜方式和视差屏障方式等。
[0004] 而且,作为观察者佩戴眼镜来观察3D图像的显示器的方式之一,已知圆偏光眼镜 方式等(例如,参照专利文献1。)。
[0005] 在圆偏光眼镜方式的3D显示器的情况下,通常在液晶面板等形成图像的显示元 件上配置相位差材。该相位差材构成分别多个规则地配置相位差特性不同的2种相位差区 域,进行了图案形成的相位差材。另外,以下,在本说明书中,将以配置这样的相位差特性不 同的多个相位差区域的方式图案化了的相位差材特别地称为图案化相位差材。
[0006] 关于图案化相位差材,例如,如专利文献2所公开地那样,可以通过使用作为具有 聚合性的液晶的聚合性液晶,将由该聚合性液晶形成的相位差材料进行光学图案形成来进 行制作。由聚合性液晶形成的相位差材料的光学图案形成利用在液晶面板的液晶的取向材 形成中已知的光取向技术。即,在基板上设置由光取向性的材料形成的涂膜,对其照射偏光 方向不同的2种偏光。而且,作为形成了液晶的取向控制方向不同的2种液晶取向区域的 取向材,获得了光取向膜。在该光取向膜上涂布包含聚合性液晶的溶液状的相位差材料,实 现聚合性液晶的取向。然后,将取向了的聚合性液晶进行固化而形成图案化相位差材。
[0007] 在使用了液晶面板的光取向技术的取向材形成中,作为能够利用的光取向性的材 料,已知侧链具有肉桂酰基和查耳酮基等光二聚化部位的丙烯酸系树脂、聚酰亚胺树脂等。 报告了这些树脂通过进行偏光UV照射而显示控制液晶的取向的性能(以下,也称为液晶取 向性。)(参照专利文献3?专利文献5。)。
[0008] 如上所述,为了获得图案化相位差材,利用光取向技术进行了取向材的形成。在该 取向材的形成时,作为照射偏光方向不同的2种偏光来获得取向材的方法,已知下述方法: 在第1次偏光曝光工序中利用光掩模,仅对2种相位差区域中的例如用于形成第1相位差 区域的涂膜的第1区域,以第1照射量照射具有规定偏光方向的第1偏光。然后,在第2次 偏光曝光工序中,取下该光掩模,对包含用于形成第2相位差区域的涂膜的第2区域的涂膜 整面,以例如二分之一等比第1照射量少的照射量照射与第1偏光的偏光方向不同的第2 偏光。
[0009] 此外,作为其它方法,在第1次偏光曝光工序中,对涂膜的整面以第1照射量照射 第1偏光。然后,在第2次偏光曝光工序中,使用光掩模,仅对2种相位差区域中的例如用 于形成第1相位差区域的涂膜的第1区域,以例如2倍等比第1照射量多的照射量照射与 第1偏光的偏光方向不同的第2偏光。
[0010] 图2(a)和(b)为说明现有的取向材的制造方法的图,图2(a)为说明第1次偏光 曝光工序的图,图2(b)为说明第2次偏光曝光工序的图。
[0011] 作为制造取向材的方法,作为其它方法,如图2(a)和(b)所示,已知被称为掩模对 准法的方法。
[0012] 在图2(a)和(b)所示的掩模对准法中,在进行至少两次偏光曝光的工序中,分别 使用图案不同的光掩模。
[0013] 即,在掩模对准法中,首先,在成为支持材的基板1000上设置由光取向性的材料 形成的涂膜1001。接下来,在第1次偏光曝光工序中,利用光掩模1002,仅对相位差材的2 种相位差区域中的例如用于形成第1相位差区域的涂膜1001的第1区域,以第1照射量照 射具有规定偏光方向的第1偏光1004。然后,在第2次偏光曝光工序中,使用其它图案的光 掩模1003进行定位,仅对相位差材的用于形成第2相位差区域的涂膜1001的第2区域,照 射与第1偏光1004偏光方向不同的第2偏光1005。此时,第2偏光1005的照射量可以为 与第1偏光1004的照射量相同量的程度,可以实现进行偏光照射的曝光工序的效率化。
[0014] 然而,作为以往技术的掩模对准法需要准备2张光掩模,掩模对准的难易度也高, 有成品率降低的担心。
[0015] 现有技术文献
[0016] 专利文献
[0017] 专利文献1 :日本特开平10-232365号公报
[0018] 专利文献2 :日本特开2005-49865号公报
[0019] 专利文献3 :日本特许第3611342号
[0020] 专利文献4 :日本特开2009-058584号公报
[0021] 专利文献5 :日本特表2001-517719号公报

【发明内容】

[0022] 发明所要解决的课题
[0023] 如上所述,在图案化相位差材的制造中,进行了利用了光取向技术的取向材的制 造、和使用了该取向材的图案化相位差材的形成。
[0024] 在该情况下,在上述的任一现有取向材的制造方法中,都需要两次以上的偏光曝 光。因此,导致曝光工序的长时间化,进而,成为使取向材和图案化相位差材的制造的效率 降低的原因。
[0025] 因此,需要可以高效率地制造取向材的取向材的制造方法。
[0026] 本发明是基于以上的认识、研究结果而提出的。S卩,本发明的目的是提供可以高效 率地形成取向材的取向材的制造方法。而且本发明的目的是,使用该取向材的制造方法来 提供取向材。
[0027] 此外,本发明的其它目的是提供包含高效率的取向材的制造方法的高效率的相位 差材的制造方法。而且本发明的其它目的是,使用该相位差材的制造方法来提供相位差材。
[0028] 本发明的其它目的和优点可由以下的记载明确。
[0029] 用于解决课题的方法
[0030] 本发明的第1方式涉及一种取向材的制造方法,其特征在于,是具有第1取向区域 和第2取向区域的取向材的制造方法,所述第1取向区域与第2取向区域中限制液晶取向 的方向彼此不同,其具有下述工序:
[0031] 涂膜形成工序,将固化膜形成用组合物涂布在基板上而形成涂膜,所述固化膜形 成用组合物含有作为(A)成分的具有光二聚化部位和热交联部位的丙烯酸系共聚物、以及 作为(B)成分的交联剂,
[0032] 加热工序,将该涂膜进行加热而在基板上形成固化膜,
[0033] 偏光曝光工序,对该固化膜的用于形成第1取向区域的第1区域和用于形成第2 取向区域的第2区域,以不同曝光量同时照射偏光方向相同的偏光。
[0034] 在本发明的第1方式中,优选固化膜形成用组合物的(A)成分的光二聚化部位为 肉桂酰基。
[0035] 在本发明的第1方式中,优选固化膜形成用组合物的(A)成分的热交联部位为羟 基。
[0036] 在本发明的第1方式中,优选固化膜形成用组合物的(B)成分的交联剂为具有羟 甲基或烷氧基羟甲基的交联剂。
[0037] 在本发明的第1方式中,优选固化膜为根据偏光曝光工序的曝光量不同而限制液 晶取向的方向不同的膜。
[0038] 在本发明的第1方式中,优选固化膜为以比成为基准的光量多的偏光曝光量照射 时和以比成为基准的光量少的偏光曝光量照射时,限制液晶取向的方向不同的膜。
[0039] 在本发明的第1方式中,优选偏光曝光工序使用具有透射区域和透光率比该透射 区域低的半透射区域而形成的光掩模来进行,使得固化膜的第
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