柱状隔垫物的对位标识的制备方法和精度检测方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶技术领域，特别涉及一种柱状隔垫物的对位标识的制备方法和精度检测方法。
【背景技术】
[0002]彩色滤光片是液晶技术中的重要部分。彩色滤光片的结构主要包括基板、黑矩阵、彩色膜层、保护膜层和柱状隔垫物膜层构成。目前彩色滤光片仍通过接近式曝光工艺形成，膜层间的位置精度直接影响着彩色滤光片的品质，尤其对于柱状隔垫物层，因在与TFT对盒中，其设计往往与TFT相应位置对应，且精度要求很高。对于常规尺寸产品(显示区域尺寸小于掩膜板尺寸)，在每个曝光单元曝光时，往往在其周边(显示区域外)制作一组位置精度检测标识，从而精确管控各工序间的位置精度。
[0003]然而，随着产品尺寸的增大，拼接曝光技术的应用越来越多。对于超大尺寸产品(显示区域尺寸大于掩膜板尺寸)，其显示区域往往需多个曝光单元拼接曝光完成制作，由于掩膜板尺寸小于显示区域尺寸，则将无法在每个曝光单元曝光时制作位于显示区域外的位置精度检测标识。而进一步地，由于每个曝光单元无法将所有位置精度检测标识都制作于显示区域外，因此，无法精确管控各工序间的位置精度。出现位置偏差时(显微观察发现)，无法测量快速补正位置精度。
【发明内容】
[0004]为了解决现有技术的问题，本发明实施例提供了一种柱状隔垫物的对位标识的制备方法和精度检测方法。所述技术方案如下:
[0005]一种柱状隔垫物的对位标识的制备方法，所述方法包括:
[0006]制备彩色滤光片的过程中，在制作黑矩阵层时，在基板上制备至少一个第一亚像素开口区域和多个第二亚像素开口区域，其中，所述第一亚像素开口区域的尺寸小于所述第二亚像素开口区域，亚像素开口区域用于放置亚像素显示单元；
[0007]在制作彩色膜层RGB层时，将所述至少一个第一亚像素开口区域上彩色膜层的尺寸制作成小于所述多个第二亚像素开口区域上彩色膜层的尺寸；
[0008]在所述RGB层上制备平坦层；
[0009]在所述平坦层上制作柱状隔垫物层时，在所述至少一个第一亚像素开口区域周围的指定位置，制作对位标识。
[0010]一种精度检测方法，包括:
[0011 ] PS工序完成时，测量第一亚像素开口区域和对位标识，所述第一亚像素开口区域的尺寸小于基板上的第二亚像素开口区域，亚像素开口区域用于放置亚像素显示单元；
[0012]计算所述第一亚像素开口区域和对位标识之间的位置差异；
[0013]根据所述位置差异，计算柱状隔垫物的位置精度。
[0014]一种液晶面板，所述液晶面板包括上述彩色滤光片。
[0015]本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:通过设置一个尺寸较小的亚像素开口区域，并在后续在该亚像素开口区域的附近设置对位标识，可以实现对柱状隔垫物位置精度的检测，从而实现对层间位置精度的精确管控。
【附图说明】
[0016]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本发明实施例提供的一种柱状隔垫物的对位标识的制备方法的流程图；
[0018]图2是经过制作黑矩阵层后所得到的第一亚像素开口区域200的示意图；
[0019]图3是彩色膜层RGB层的示意图；
[0020]图4A-图4D是第一亚像素开口区域400和对位标识410的相对位置的示意图。
[0021]图5是本发明实施例提供的一种精度检测方法的流程图。
【具体实施方式】
[0022]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0023]图1是本发明实施例提供的一种柱状隔垫物的对位标识的制备方法的流程图。参见图1，所述方法包括:
[0024]101、制备彩色滤光片的过程中，在制作黑矩阵层时，在基板上制备至少一个第一亚像素开口区域和多个第二亚像素开口区域，其中，所述第一亚像素开口区域的尺寸小于所述第二亚像素开口区域。
[0025]其中，三个亚像素显示单元构成一个像素显示单元，也即是，R、G、B才能构成一个像素显示单元，因此，为了实现颜色显示，需要在制作黑矩阵层时，为各个亚像素显示单元留出开口区域，也即是，在制作黑矩阵层时，基板上未被黑矩阵层覆盖的区域即形成多个亚像素开口区域，其中，为了进行精度检测，可以制备两种尺寸的亚像素开口区域，其中一种第一亚像素开口区域的尺寸小于第二亚像素开口区域，优选地，该第一亚像素开口区域的数量可以为一个，以避免对整体显示效果造成影响，当然，在第一亚像素开口区域的尺寸合适时，还可以制备两个或两个以上的第一亚像素开口区域，以在测量精度时，取一个平均值，以提高测量准确性。
[0026]需要说明的是，在彩色滤光片的制作过程中，可以提供一基板，从而在该基板上制作黑矩阵层，该具体制作过程可以是基于一定图案在黑矩阵材料上进行曝光的过程，本发明实施例对此不作具体限定。
[0027]图2所示为经过制作黑矩阵层后所得到的第一亚像素开口区域200的示意图。其他矩形的开口区域为第二亚像素开口区域，这些开口区域在制备后的表现为透明态，而开口区域以外的区域，即为黑矩阵层区域。
[0028]102、在制作彩色膜层RGB层时，将所述至少一个第一亚像素开口区域上彩色膜层的尺寸制作成小于所述多个第二亚像素开口区域上彩色膜层的尺寸。
[0029]该制作彩色膜层RGB层的过程可以是在黑矩阵层或基板上所需部分涂覆光刻胶，并利用掩膜板进行曝光显影，以形成彩色膜层，在此过程中，涂覆次数以及显影次数可以根据产品需求和具体工艺的不同而有所不同，在此不作具体说明。在曝光显影过程中，为了在该第一亚像素开口区域的附近，给后续制备对位标识留出空余空间，并使得后续制备柱状隔垫物层时，不受到该对位标识的位置影响，可以根据步骤101中所设置的第一亚像素开口区域，将掩膜板进行对准，从而确定需要在尺寸上区别制作的彩色膜层区域。
[0030]在本发明实施例的一种可能实现方式中，所述第一亚像素开口区域上的彩色膜层为R、G或B膜层中任一种。
[0031 ] 图3所示为彩色膜层RGB层的示意图。图中区域300即为第一亚像素开口区域上的彩色膜层。
[0032]103、在所述RGB层上制备平坦层。
[0033]该平坦层是用于保护上述膜层，并起到平滑表面的作用，本发明对此不作具体限定。
[0034]104、在所述平坦层上制作柱状隔垫物层时，在所述至少一个第一亚像素开口区域周围的指定位置，制作对位标识。
[0035]所述至少一个第一亚像素开口区域周围的指定位置为所述至少一个第一亚像素开口区域的上方预设距离处或下方预设距离处。当然，如果第一亚像素开口区域的形状允许，还可以位于左方预设距离处或右方预设距离处。
[0036]图4A所示为第一亚像素开口区域400和对位标识410的相对位置的示意图。在本发明实施例中，该对位标识410位于第一亚像素开口区域400下方的预设距离处。图4B所示为第一亚像素开口区域400和对位标识410的相对位置的示意图。在本发明实施例中，该对位标识410位于第一亚像素开口区域400上方的预设距离处。图4C所示为第一亚像素开口区域400和对位标识410的相对位置的示意图。在本发明实施例中，该对位标识410位于第一亚像素开口区域400左方的预设距离处。图4D所示为第一亚像素开口区域400和对位标识410的相对位置的示意图。在本发明实施例中，该对位标识410位于第一亚像素开口区域400右方的预设距离处。
[0037]在本发明实施例的一种可能实现方式中，该对位标识的形状为方形、圆形或其他形状。对位标识的形状可以采用任一种具有对称性的形状，使得基于其至少三个点，即可以确定对位标识的中心位置。
[0038]上述所有可选技术方案，可以采用任意结合形成本发明的可选实施例，在此不再
--赘述。
[0039]图5是本发明实施例提供的一种精度检测方法的流程图。该精度检测可以基于上述图1提供的