感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图形的形成方法及触摸面板的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图形的形成方法及触 摸面板的制造方法。
【背景技术】
[0002] 在半导体集成电路、液晶显示元件、印刷配线板等电子部件的制造中，作为形成 导体的微细图形的方法，提出了使用含有酪醒清漆型酪醒树脂和1，2-酿二叠氮化合物的 正型感光性树脂组合物的方案（例如，参照日本特开2007-316577号公报或国际公开第 2007/026475 号）。
[0003] 近年来，由于智能手机、平板终端等便携设备的普及，触摸面板的需求提高。在触 摸面板中，在传感器部位、引出配线部位等形成有数ym宽的微细导体图形。在该图形形成 中，也使用正型感光性树脂组合物。
[0004] 就正型感光性树脂组合物而言，由于照射了光的部分（曝光部）能够用碱性水溶 液溶解去除，未照射光的部分（未曝光部）不被碱性水溶液溶解而未去除，因此能够形成图 形。由此，研究了如下内容；通过反复进行针对由正型感光性树脂组合物形成的感光层的曝 光处理和显影处理、W及针对导体的蚀刻处理，来形成多层导体图形。
[0005] 为了形成多层导体图形，提出了使用含有特定酪醒树脂的正型感光性树脂组合物 的方案（例如，参照日本特开2012-252095号公报）。
【发明内容】
[0006] 另一方面，在形成触摸面板用途的导体图形时，伴随着图形的微细化、稀有金属替 代金属的使用、传感器部位的小型化、触摸面板的低成本化、触摸面板的生产率提高等，使 用了多种导体。进而，该导体的表面处理方法也多种多样。因此，对于形成图形所使用的正 型感光性树脂组合物，要求与各种导体表面的密合性优异。
[0007] 然而，就由W往的正型感光性树脂组合物形成的感光层而言，不能说其充分满足 了与具有各种导体的基板的密合性，有在形成了抗蚀图形时产生缺口等不良的情况。根据 W往的正型感光性树脂组合物，难W形成能够在维持上述密合性的同时兼顾反复显影时未 曝光部的耐显影液性和曝光部的显影性的感光层。
[000引本发明的目的在于，提供正型感光性树脂组合物W及使用其的感光性元件，所述 正型感光性树脂组合物能够形成如下感光层，所述感光层与具有各种导体的基板的密合性 优异，并且即使在反复进行使用碱性水溶液的显影的情况下，曝光部的显影性和未曝光部 的耐显影液性也充分优异。
[0009] 本发明提供一种正型感光性树脂组合物，其含有：具有不饱和姪基且重均分子量 为500~15000的改性酪醒树脂、重均分子量为5000~30000的间-对甲酪树脂、邻甲酪 树脂和通过光生成酸的化合物。
[0010] 上述邻甲酪树脂的重均分子量W500~5000为佳。
[0011] 上述改性酪醒树脂所具有的不饱和姪基的碳原子数W4~100为佳。
[0012] 此外，上述正型感光性树脂组合物可W进一步含有氣系表面活性剂，也可W进一 步含有密合性赋予剂。
[0013] 本发明还提供一种感光性元件，其具备支撑体和设置于该支撑体上的由上述本发 明的正型感光性树脂组合物形成的感光层。
[0014] 本发明进一步提供一种抗蚀图形的形成方法，其具备如下工序；使用上述正型感 光性树脂组合物或上述感光性元件，在基板上形成感光层的工序；对感光层的规定部分照 射活性光线，形成曝光部的工序；W及将曝光部去除而形成由未曝光部的感光层构成的图 形的工序。
[0015] 在上述抗蚀图形的形成方法中，可W进一步具备如下工序；对由上述未曝光部构 成的感光层的规定部分照射活性光线，形成曝光部的工序；W及将曝光部去除而形成由未 曝光部的感光层构成的图形的工序。
[0016] 本发明还提供一种触摸面板的制造方法，其具备对通过上述抗蚀图形的形成方法 形成了抗蚀图形的基板进行蚀刻处理的工序。
[0017] 根据本发明，能够提供正型感光性树脂组合物W及使用其的感光性元件，所述正 型感光性树脂组合物能够形成如下感光层，所述感光层与具有各种导体的基板的密合性优 异，并且即使在反复进行使用碱性水溶液的显影的情况下，曝光部的显影性和未曝光部的 耐显影液性也充分优异。
【附图说明】
[0018]图1是表示本发明感光性元件的一个实施方式的示意截面图。
[0019] 图2是表示使用负型感光性树脂组合物的触摸面板的制造方法的示意截面图。
[0020] 图3是表示使用正型感光性树脂组合物的触摸面板的制造方法的一个方式的示 意截面图。
[0021] 图4是表示利用本发明得到的触摸面板的一个方式的俯视图。
[00巧附图标记说明：
[0023] 2 ;支撑体，4 ;感光层，6 ;保护层，10 ;感光性元件，22 ;支撑基材，24 ;透明导电层， 26 ;金属层，28;感光层，29 ;抗蚀图形，30 ;感光层，31 ;抗蚀图形，40 ;感光层，40a、40b;抗 蚀图形，52 ;透明电极狂电极），54 ;透明电极（Y电极），56、57 ;引出配线，100 ;触摸面板。
【具体实施方式】
[0024] W下，根据需要一边参照附图，一边对本发明的实施方式进行详细说明。予W说明 的是，附图中，对同一要素附上同一附图标记，并省略重复说明。此外，关于上下左右等位置 关系，只要没有特别指出，就设为基于附图所示位置关系的位置关系。而且，附图的尺寸比 率并不限于图示比率。此外，在W下的实施方式中，关于其构成要素（也包括步骤要素等）， 除了特别明确表示的情况W及认为原理上显然需要的情况等之外并不一定是必须的，该是 自不待言的。该对于数值和范围也是同样的，应解释为不会不合理地限制本公开内容。
[002引予W说明的是，在本说明书中，关于"层"该一用语，在W平面图进行观察时，除了 整面形成的形状的结构之外，还包含部分形成的形状的结构。在本说明书中，"工序"该一用 语不仅包括独立的工序，即使在与其它工序不能明确区别的情况下，如果能实现该工序的 预期目的，则也包含在本用语中。在本说明书中，使用"~"表示的数值范围表示包含"~" 前后所记载的数值分别作为最小值和最大值的范围。本说明书中阶段性记载的数值范围 中，某一阶段的数值范围的上限值或下限值可W置换成其他阶段的数值范围的上限值或下 限值。本说明书中记载的数值范围中，该数值范围的上限值或下限值可W置换成实施例所 示的值。此外，"一面"、"第1"、"第2"等用语是为了将一个构成要素与其它构成要素区别 开而使用的，构成要素并不受上述用语限定。
[0026] 本实施方式的正型感光性树脂组合物的特征在于，含有：作为（A)成分的具有不 饱和姪基且重均分子量为500~15000的改性酪醒树脂、作为炬）成分的重均分子量为 5000~30000的间-对甲酪树脂、作为（C)成分的邻甲酪树脂和作为值）成分的通过光生 成酸的化合物。
[0027]W下，对构成正型感光性树脂组合物的各成分进行详细说明。
[002引 < (A)成分>
[0029] (A)成分为具有不饱和姪基的改性酪醒树脂。通过使用具有不饱和姪基的改性酪 醒树脂作为（A)成分，形成感光层时的可提性提高。
[0030] 酪醒树脂优选为酪醒清漆型酪醒树脂，该酪醒清漆型酪醒树脂为含有邻甲酪、或 者间甲酪和对甲酪作为主成分的酪衍生物与醒类的缩聚产物。缩聚在例如酸等催化剂存 在下进行。具有不饱和姪基的改性酪醒树脂可W是酪衍生物与具有不饱和姪基的化合物 (W下称为"含有不饱和姪基的化合物"。）的反应产物（W下称为"不饱和姪基改性酪衍 生物"。）、与醒类的缩聚产物，也可W是酪醒树脂与含有不饱和姪基的化合物的反应产物。
[0031] 作为具有不饱和姪基的改性酪醒树脂，可W使用由利用含有不饱和姪基的化合物 进行了改性的酪衍生物得到的酪醒树脂。此外，作为具有不饱和姪基的改性酪醒树脂，也可 W使用将酪醒树脂用含有不饱和姪基的化合物改性而成的树脂。
[0032] 上述不饱和姪基的碳原子数优选为4~100。该碳原子数下限值更优选大于或等 于8,进一步优选大于或等于10,该碳原子数上限值更优选小于或等于80,进一步优选小于 或等