述功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物
[0043]具体地，如图2所示，将经过SI的彩膜基板下方设置加热板6，采用第一紫外光源进行辐照，使上述功能层中的对紫外线敏感的易分解的官能团在第一紫外光源进行辐照下分解；此时，开启加热系统，通过加热板6将彩膜基板进行加热处理，使分解物挥发去除。
[0044]优选的，所述加热处理的温度范围为200_250°C，在该加热温度范围有机材料形成的功能层不会变形、同时紫外辐照的分解物易于挥发；优选的，所述加热处理的加热时间范围为10-60min，可以根据具体情况选择加热时间，使紫外福照的分解物全部挥发。
[0045]优选的，第一次紫外光辐照的照度大于1000勒克斯，这样可以使功能层中的对紫外线敏感的易分解的官能团在第一紫外光源进行辐照下充分的分解、并受热挥发。
[0046]第一次紫外光的波长范围为150-350nm，在该波长范围内适合后续光降解型取向层7进行光照取向。
[0047]应当理解的是，第一次紫外光的光源可以不是线性偏振光的光源，因此可以采用成本较低的光源。
[0048]S3:在经过S2的彩膜基板上涂覆光降解型取向层
[0049]具体地，如图3所示，在对盒支撑层5上制备聚酰亚胺光降解型取向层7，通过第二次紫外光辐照紫外光；
[0050]优选的，所述第一次紫外光辐照和第二次紫外光辐照的紫外光的波长相同。这样在相同波长的紫外辐照时能对取向层7进行取向，又不至于再次对有机材料形成的功能层进行降解、因为，在第一次紫外光辐照所有能降解的有机材料已经降解并挥发。
[0051]优选的，所述第一次紫外光辐照的照度大于等于所述第二次紫外光辐照的照度。这样在第一紫外光辐照的照度下能降解的有机材料已经完全降解了，第二次紫外光辐照的照度相对较小不会再次产生有机材料的降解和挥发。
[0052]优选的，所述第二次紫外光辐照的照度范围为200-1000勒克斯。
[0053]应当理解的，第二次紫外光辐照的照度和第一次紫外光辐照的照度和波长设置是可以根据具体应用情景进行调节的，只要保证第二紫外光辐照能够正常取向、并不致再次产生有机材料降解和挥发都是可行的。
[0054]所述第二次紫外光辐照采用能发射线性偏振光的第二紫外光源。可以采用紫外光光源和偏光片配合产生线性偏振光，这样可以降低光源的成本。
[0055]S4:对经过取向的取向层7进行烘干
[0056]对上述彩膜基板进行烘干定型形成彩膜基板，优选的，所述烘干的温度小于所述加热处理的温度。这样烘干过程也能控制有机材料不致再次挥发。例如，烘干的温度范围可以为 200-250°C。
[0057]可选的，继续进行液晶滴下工艺等后续工艺，在此不再一一赘述。
[0058]实施例2
[0059]本实施例提供一种显示面板，包括彩膜基板，所述彩膜基板是采用上述的彩膜基板的制备方法制备的。
[0060]实施例3
[0061 ] 本实施例提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
[0062]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。该显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述实施例，重复之处不再赘述。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括: 对在衬底上通过构图工艺依次形成的出光侧的功能层进行第一次紫外光辐照和加热处理的步骤，用于去除所述功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物； 在所述功能层上形成取向层的步骤； 对所述取向层进行第二次紫外光辐照进行取向的步骤。2.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述功能层包括:彩膜层以及与所述彩膜层同层设置的黑矩阵层；及在设置所述彩膜层上依次设置的平坦化层、对盒支撑层。3.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一次紫外光辐照和第二次紫外光辐照的紫外光的波长相同。4.如权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一次紫外光辐照和第二次紫外光辐照的紫外光的波长范围为150-350nm。5.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一次紫外光辐照的照度大于等于所述第二次紫外光辐照的照度。6.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第二次紫外光辐照的照度范围为200-1000勒克斯。7.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述加热处理的温度范围为 200-250 °C。8.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述加热处理的加热时间范围为10_60min。9.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，还包括对经过取向的取向层进行烘干的步骤。10.如权利要求9所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述烘干的温度小于所述加热处理的温度。11.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述的第一次紫外光辐照采用第一紫外光源；所述第二次紫外光辐照采用能发射线性偏振光的第二紫外光源。12.—种显示面板，包括彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板是采用如权利要求1-11任一项彩膜基板的制备方法制备的。13.—种显示装置，其特征在于，包括如权利要求12所述的显示面板。
【专利摘要】本发明提供一种彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置中在对取向层进行紫外光照取向时，在取向层之前制备的有机材料功能层发生降解、并逐步释放到液晶层中产生异物亮点的问题。本发明的彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置，通过在形成取向层之前对彩膜基板出光侧的功能层进行第一次紫外光辐照和加热处理的步骤，能够使功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物挥发、从而去除，不会在涂覆取向层后、在辐照取向时受到紫外辐照在阵列基板和彩膜基板对盒后逐步释放到液晶层中形成异物亮点、从而影响显示面板的显示品质。
【IPC分类】G02F1/1337
【公开号】CN104880862
【申请号】CN201510364313
【发明人】周永山, 李京鹏, 谢振宇
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年6月26日