微米。
[0028]需要说明地是，为了使判断简单，操作简化，h的范围也可以由间隔物3的设计最小尺寸到间隔物3的设计最大尺寸。在这种情况下，h的范围变的更小，相当于对H的要求也更加的严格。例如，间隔物3的设计高度是3.5±0.2微米，而不论画素2的设计膜厚为多少，h的范围为3.3 (间隔物3的设计高度的最小尺寸)到3.7 (间隔物3的设计高度的最大尺寸)微米。由此，通过这种方式更有利于保证彩膜基板I的品质。
[0029]根据本发明，以相同宽度的相邻的R、G、B画素2作为一个画素组4。以一个画素组4中的R、G、B画素2分别作为基准测量同一间隔物3的高度，分别得到HK、He、HB。然后，分别比较HK、He、H# h的大小，S卩，比较H K、He、Hb是否落在h的范围之中，以判断R、G、B画素2的膜厚是否符合要求。
[0030]原理上，彩膜基板I能进入下步工序前，彩膜基板I上的画素2必须全部符合要求。从而，就需要对所有的画素2进行判断。但是由于彩膜基板I上的画素2数量很大，如果对所有的画素2进行判断，则需要很长的操作时间。由此，可在整个所述彩膜基板I上选取多个间隔物3，以代表所有的间隔物3。例如，每500-10000个画素组4中选取一个画素组4以测量相对应的间隔物3的高度。需要说明的是，选取的间隔物3的数量和密度可根据实际需要进行选取。
[0031]在一个实施例中，为了测量便利和选取的简单，选取的间隔物3在彩膜基板I上均匀分布。但是，由于使用者更关注彩膜基板I的中间区域的显示品质。由此，选取的间隔物3在彩膜基板I上的分布密度可以在由中间到边缘的方向上减小。也就是，在彩膜基板I的中间区域选取的需判断的画素2的数量大于边缘区域选取的需判断的画素2的数量。
[0032]如上所述的，如果测量得到的多个H值均在h的范围之内，则判断彩膜基板I进入后面的工序。但是如果测量得到的多个H值并不都在h的范围之内，则需要根据画素2的符合要求率来决定彩膜基板I是经过修补还是重新制造。其中，符合要求率为符合要求的画素2的数量与测量的总的画素2的数量的比。如果符合要求率大于或等于80%，但小于100%时，采用修补画素2的方式对彩膜基板I进行修补。当符合要求率小于80%时，若对画素2进行修补则需要较多的操作时间，可将彩膜基板I的所有画素2直接去除并重新制造。
[0033]在彩膜基板I的生产制造过程中，R、G、B画素2不是同时设置的。从而R、G、B画素2的膜厚之间会有差异，而为了表征这种差异，可分别计算画素R、G、B的符合要求率。例如，R画素2的符合要求率为所测量的R画素2的符合要求的数量与所测量的R画素2的总数量之比。
[0034]根据本发明，可以采用白光干涉仪对间隔物进行测量。
[0035]以上所述仅为本发明的优选实施方式，但本发明保护范围并不局限于此，任何本领域的技术人员在本发明公开的技术范围内，可容易地进行改变或变化，而这种改变或变化都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求书的保护范围为准。
【主权项】
1.一种用于检测彩膜基板的画素的方法，其特征在于，包括: 步骤一:以画素为基准测量临近的间隔物的高度，得到间隔物高度的测量值H ; 步骤二:比较H与规格范围值h的大小，如果H在规范范围值h的范围之内，则画素的膜厚符合要求，如果H不在规范范围值h的范围之内，则画素的膜厚不符合要求。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤二中，h的范围由间隔物的设计最小尺寸与所述画素的设计膜厚的上公差的差到间隔物的设计最大尺寸与所述画素的设计膜厚的下公差的差， 或h的范围由间隔物的设计最小尺寸到间隔物的设计最大尺寸。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，以相同宽度的相邻的画素R、G、B分别作为基准测量同一间隔物的高度，分别得到HK、Hg, Hb,并且，分别将HK、Hg, %与h的大小进行比较，以判断R、G、B的膜厚是否符合要求。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在整个所述彩膜基板上选取多个间隔物，并以画素R、G、B分别作为基准测量相应的间隔物的高度H，比较H与规格范围值h的大小，并根据选取的画素的膜厚符合要求的画素数量与选取的总的画素的数量的商来计算画素的符合要求率，如果符合要求率小于固定值时，则去除所述画素并重新制造所述彩膜基板。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，分别根据选取的画素R或画素G或画素B的符合要求的画素数量与选取的相对应的总的画素R或画素G或画素B的数量的商来计算画素R、G、B的符合要求率。6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，选取的间隔物在所述彩膜基板上均匀分布。7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，选取的间隔物在所述彩膜基板上的分布密度在由中间到边缘的方向上减小。8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于，以相同宽度的相邻的画素R、G、B作为画素组，在所述彩膜基板上每500-10000个画素组中选取一个所述画素组以测量相对应的间隔物的高度。9.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述固定值为80%。10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用白光干涉仪测量间隔物的高度。
【专利摘要】本发明提出了一种用于检测彩膜基板的画素的方法，其特征在于，包括：步骤一：以画素为基准测量临近的间隔物的高度，得到间隔物高度的测量值H；步骤二：比较H与规格范围值h的大小，如果H在规范范围值h的范围之内，则画素的膜厚符合要求，如果H不在规范范围值h的范围之内，则画素的膜厚不符合要求。该方法能有助于判断彩膜基板的画素是否符合要求，以有效拦截具有不良画素的彩膜基板，避免其漏放到后段制程中。
【IPC分类】G02F1/13
【公开号】CN104977738
【申请号】CN201510407590
【发明人】孙海燕, 钟小华
【申请人】武汉华星光电技术有限公司
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年7月13日