3包括位于所述沟槽11内部的增厚部301、及位于所述沟槽11上方的遮光部302。
[0046]具体的，所述遮光部302的宽度大于所述增厚部301的宽度。
[0047]具体的，所述遮光部302与所述色阻层2位于同一层，且二者的厚度几乎相同。
[0048]具体的，所述数条遮光带30在所述基板I上交叉限定出数个子像素区域，所述色阻层2包括分别位于数个子像素区域中的数个色阻块21。
[0049]具体的，所述数个色阻块21包括红色、绿色和蓝色光阻块。需要说明的是，所述色阻层2不限于包括红色光阻块、绿色光阻块和蓝色光阻块的情况，还可以包括黄色光阻块、透明光阻块、酒红色光阻块、紫色光阻块等，对于本领域技术人员能想到的所有颜色的色阻块及其组合形成的色阻层都可以作为本发明实施例中的色阻层。
[0050]具体的，所述间隔物5对应于黑色矩阵层3设置，从而可以避免影响液晶显示面板的开口率。
[0051]优选的，所述基板I为玻璃基板。
[0052]优选的，所述黑色矩阵层3的材料为金属材料或树脂型材料。
[0053]特别的，所述沟槽11采用黑色矩阵层3的光罩图案在基板I上进行刻蚀而制得。
[0054]相比于现有技术中直接在基板上形成黑色矩阵层，本发明的彩膜基板中黑色矩阵层3形成于基板I的沟槽11位置，沟槽11使得黑色矩阵层3的厚度得以提升，且不会降低彩膜基板的整体开口率，从而本发明的彩膜基板进行暗点化修补时，能够有效防止修复后出现黑色矩阵层3膜厚降低而导致的漏光和对比度降低的问题，提升修复成功率。
[0055]请参阅图5，本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:
[0056]步骤1、请参阅图6，提供一基板1，采用黑色矩阵的光罩对所述基板I进行图案化处理，在所述基板I的上表面通过蚀刻形成数条横向与纵向排列的沟槽11。
[0057]具体的，所述步骤I中，所述基板I为玻璃基板，以氢氟酸为蚀刻液对所述基板I进行蚀刻。
[0058]步骤2、请参阅图7，在所述基板I上沿所述沟槽11形成数条遮光带30，所述数条横向与纵向排列的遮光带30构成黑色矩阵层3，所述遮光带30包括位于所述沟槽11内部的增厚部301、及位于所述沟槽11上方的遮光部302。
[0059]具体的，所述遮光部302的宽度大于所述增厚部301的宽度。
[0060]具体的，所述黑色矩阵层3的材料为金属材料或树脂型材料。
[0061]步骤3、请参阅图8，在基板I上制作色阻层2，所述数条遮光带30在所述基板I上交叉限定出数个子像素区域，所述色阻层2包括分别位于数个子像素区域中的数个色阻块
21ο
[0062]具体的，所述遮光部302与所述色阻层2位于同一层，且二者的厚度几乎相同。
[0063]具体的，所述数个色阻块21包括红色、绿色和蓝色光阻块。需要说明的是，所述色阻层2不限于包括红色光阻块、绿色光阻块和蓝色光阻块的情况，还可以包括黄色光阻块、透明光阻块、酒红色光阻块、紫色光阻块等，对于本领域技术人员能想到的所有颜色的色阻块及其组合形成的色阻层都可以作为本发明实施例中的色阻层。
[0064]步骤4、请参阅图9，在所述黑色矩阵层3和色阻层2上制作平坦层4。
[0065]具体的，所述平坦层4对黑色矩阵层3和色阻层2的上表面进行平坦化处理，同时可作为色阻层2的保护层。
[0066]步骤5、请参阅图10，在所述平坦层4上形成数个间隔物5，完成彩膜基板的制作。
[0067]具体的，所述间隔物5对应于黑色矩阵层3设置，从而可以避免影响液晶显示面板的开口率。
[0068]具体的，所述平坦层4为有机材料。
[0069]综上所述，本发明提供一种彩膜基板及其制作方法，本发明的彩膜基板，其黑色矩阵层的厚度较大，可避免对液晶显示面板进行暗点化修补后漏光现象的出现，提高修补成功率。本发明的彩膜基板的制作方法，通过采用黑色矩阵层的光罩结合蚀刻技术在衬底基板的上表面形成数条横向与纵向排列的沟槽，沿所述沟槽形成数条遮光带，所述数条横向与纵向排列的遮光带构成黑色矩阵层，所述遮光带包括位于所述沟槽内部的增厚部及位于所述沟槽上方的遮光部，由于增厚部的设置，使得黑色矩阵层的整体厚度提高，使得在进行暗点化修补后，黑色矩阵层依然保持较大的厚度，避免漏光现象的出现。
[0070]以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
【主权项】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括:基板(I)、设于所述基板(I)上的黑色矩阵层(3)与色阻层(2)、设于所述黑色矩阵层(3)与色阻层(2)上的平坦层(4)、及设于所述平坦层(4)上的数个间隔物(5); 所述基板(I)的上表面开设有数条横向与纵向排列的沟槽(11)，所述黑色矩阵层(3)包括沿所述沟槽(11)设置的数条横向与纵向排列的遮光带(30)，所述遮光带(30)包括位于所述沟槽(11)内部的增厚部(301)、及位于所述沟槽(11)上方的遮光部(302)。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光部(302)的宽度大于所述增厚部(301)的宽度。3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述数条遮光带(30)在所述基板(I)上交叉限定出数个子像素区域，所述色阻层(2)包括分别位于数个子像素区域中的数个色阻块(21)。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述数个色阻块(21)包括红色、绿色和蓝色光阻块。5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述间隔物(5)对应于黑色矩阵层(3)设置。6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤: 步骤1、提供一基板(I)，采用黑色矩阵的光罩对所述基板(I)进行图案化处理，在所述基板(I)的上表面通过蚀刻形成数条横向与纵向排列的沟槽(11); 步骤2、在所述基板(I)上沿所述沟槽(11)形成数条遮光带(30)，所述数条横向与纵向排列的遮光带(30)构成黑色矩阵层(3)，所述遮光带(30)包括位于所述沟槽(11)内部的增厚部(301)、及位于所述沟槽(11)上方的遮光部(302); 步骤3、在基板(I)上制作色阻层(2)，所述数条遮光带(30)在所述基板(I)上交叉限定出数个子像素区域，所述色阻层(2)包括分别位于数个子像素区域中的数个色阻块(21)； 步骤4、在所述黑色矩阵层(3)和色阻层(2)上制作平坦层(4); 步骤5、在所述平坦层(4)上形成数个间隔物(5)。7.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤I中，所述基板(I)为玻璃基板，以氢氟酸为蚀刻液对所述基板(I)进行蚀刻。8.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述遮光部(32)的宽度大于所述增厚部(31)的宽度。9.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述数个色阻块(21)包括红色、绿色和蓝色光阻块。10.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述间隔物(5)对应于黑色矩阵层⑶设置。
【专利摘要】本发明提供一种彩膜基板及其制作方法。本发明的彩膜基板，其黑色矩阵层的厚度较大，可避免对液晶显示面板进行暗点化修补后漏光现象的出现，提高修补成功率。本发明的彩膜基板的制作方法，通过采用黑色矩阵层的光罩结合蚀刻技术在衬底基板的上表面形成数条横向与纵向排列的沟槽，沿所述沟槽形成数条遮光带，所述数条横向与纵向排列的遮光带构成黑色矩阵层，所述遮光带包括位于所述沟槽内部的增厚部及位于所述沟槽上方的遮光部，由于增厚部的设置，使得黑色矩阵层的整体厚度提高，使得在进行暗点化修补后，黑色矩阵层依然保持较大的厚度，避免漏光现象的出现。
【IPC分类】G02F1/1335
【公开号】CN105068304
【申请号】CN201510582246
【发明人】钟小华
【申请人】武汉华星光电技术有限公司
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2015年9月14日