一种触控显示面板及其制作方法、触控显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示面板及其制作方法、触控显示
目.0
【背景技术】
[0002]随着显示技术的飞速发展，触控显示面板(Touch Panel)已经逐渐遍及人们的生活中。与仅能提供显示功能的传统显示器相比较，使用触控显示面板的显示器能够使得使用者与显示控制主机之间进行信息交互，因此，触控显示面板可以完全或者至少部分取代了常用的输入装置，使得现有的显示器不仅能够显示，还能触控控制。目前，应用最广泛的触控显示面板为电容触控显示面板，电容触控显示面板根据与薄膜晶体管基板(Thin FilmTransistor, TFT)及彩膜基板(Colour Filter，CF)的相对关系分为内嵌式(in-cell)、外嵌式(on-cell)及外挂式等三种。
[0003]现有技术单层on-cell的触控显示面板的平面结构示意图如图1所示，图1沿AAl方向的截面示意图如图2所示，现有技术的触控显示面板包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12，以及位于阵列基板11和彩膜基板12之间的封框胶13和液晶层(图中未示出)，彩膜基板12背向阵列基板11的一侧设置有触控电极层，触控电极层包括感应电极14和驱动电极15，通过检测感应电极14接收到的信号的强弱来确定触控显示面板是否被触控。
[0004]如图2所示，彩膜基板12上驱动电极15的宽度较小，感应电极14的宽度较大，因而表现在宏观上，感应电极14所在的区域16与驱动电极15所在的区域17的光的透过率和反射率存在较大的差异，从而人眼能够识别出感应电极14所在的区域与驱动电极15所在的区域，进而产生消影不良。
[0005]另外，由于彩膜基板12表面设置有感应电极14和驱动电极15，往往无法释放静电，这样会导致触控显示面板显示发白，以及感应电极和驱动电极完全可见的问题。
[0006]综上所述，现有技术的触控显示面板会产生消影不良，以及无法释放静电的问题。
【发明内容】
[0007]本发明实施例提供了一种触控显示面板及其制作方法、触控显示装置，用以避免消影不良的产生，以及实现静电释放的目的。
[0008]本发明实施例提供的一种触控显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述彩膜基板背向所述阵列基板侧的触控电极层，其中，还包括设置于所述彩膜基板与所述触控电极层之间，与所述触控电极层相互绝缘的透明导电层；
[0009]所述透明导电层包括第一区域和第二区域，位于第一区域的透明导电层的厚度大于位于第二区域的透明导电层的厚度；所述透明导电层接地设置；
[0010]所述触控电极层在所述彩膜基板上的投影区域与位于第二区域的透明导电层在彩膜基板上的投影区域重叠；
[0011]所述触控电极层的厚度与位于第二区域的透明导电层的厚度之和，与位于第一区域的透明导电层的厚度的差值在预设范围内。
[0012]由本发明实施例提供的触控显示面板，由于该触控显示面板包括接地设置的透明导电层，因此当由于外界因素产生静电时，本发明实施例可以通过透明导电层将产生的静电引入到接地端，从而能够有效的释放静电，实现触控品质的提升。另外，由于本发明实施例的触控显示面板中的触控电极层在彩膜基板上的投影区域与位于第二区域的透明导电层在彩膜基板上的投影区域重叠；触控电极层的厚度与位于第二区域的透明导电层的厚度之和，与位于第一区域的透明导电层的厚度的差值在预设范围内，与现有技术的触控显示面板相比，本发明实施例的触控显示面板感应电极所在的区域与驱动电极所在的区域的光的透过率和反射率没有差异，从而能够很好的避免消影不良的产生。
[0013]较佳地，所述彩膜基板设置接地引线，所述透明导电层与所述接地引线电连接；或，
[0014]所述彩膜基板设置导通电极，所述透明导电层通过一连接线与所述导通电极电连接；所述彩膜基板和所述阵列基板之间设置导电球，所述导通电极通过所述导电球与阵列基板上的接地走线连接。
[0015]较佳地，所述触控电极层的厚度与位于第二区域的透明导电层的厚度之和，与位于第一区域的透明导电层的厚度相等。
[0016]较佳地，所述透明导电层与所述触控电极层之间设置有绝缘层，所述透明导电层和所述触控电极层通过该绝缘层相互绝缘。
[0017]较佳地，所述透明导电层与所述触控电极层的材料相同。
[0018]本发明实施例还提供了一种触控显示装置，该触控显示装置包括上述的触控显示面板。
[0019]本发明实施例还提供了一种触控显示面板的制作方法，包括制作阵列基板和彩膜基板，其中，该方法还包括:
[0020]在所述彩膜基板背向所述阵列基板的一侧通过构图工艺制作透明导电层，所述透明导电层包括第一区域和第二区域，位于第一区域的透明导电层的厚度大于位于第二区域的透明导电层的厚度；所述透明导电层接地；
[0021]在所述透明导电层上通过构图工艺制作绝缘层；
[0022]在所述绝缘层上通过构图工艺制作触控电极层，触控电极层在所述彩膜基板上的投影区域与位于第二区域的透明导电层在彩膜基板上的投影区域重叠；所述触控电极层的厚度与位于第二区域的透明导电层的厚度之和，与位于第一区域的透明导电层的厚度的差值在预设范围内。
[0023]较佳地，所述在所述彩膜基板背向所述阵列基板的一侧通过构图工艺制作透明导电层，包括:
[0024]在所述彩膜基板背向所述阵列基板的一侧沉积一层透明导电薄膜；
[0025]在所述透明导电薄膜上涂覆光刻胶，通过掩膜板进行曝光、显影，形成光刻胶完全去除区、光刻胶部分去除区和光刻胶完全保留区，其中，光刻胶完全保留区对应需要形成第一区域的透明导电层的区域，光刻胶部分去除区对应需要形成第二区域的透明导电层的区域，光刻胶完全去除区对应其它区域；
[0026]对光刻胶完全去除区、光刻胶部分去除区以及光刻胶完全保留区进行刻蚀，形成第一区域的透明导电层和第二区域的透明导电层。
[0027]较佳地，所述掩膜板为半色调或灰色调掩膜板。
[0028]较佳地，所述对光刻胶完全去除区、光刻胶部分去除区以及光刻胶完全保留区进行刻蚀，形成第一区域的透明导电层和第二区域的透明导电层，包括:
[0029]通过第一次刻蚀去除光刻胶完全去除区的透明导电薄膜；
[0030]去除光刻胶部分去除区的光刻胶，通过第二次刻蚀去除光刻胶部分去除区的部分透明导电薄膜，形成第二区域的透明导电层；
[0031]去除剩余的光刻胶，形成第一区域的透明导电层。
【附图说明】
[0032]图1为现有技术触控显示面板的平面结构示意图；
[0033]图2为现有技术触控显示面板的截面结构示意图；
[0034]图3为本发明实施例提供的一种触控显示面板的截面结构示意图；
[0035]图4为本发明实施例提供的触控显示面板中透明电极层和触控电极层的厚度关系不意图；
[0036]图5为本发明实施例提供的触控显示面板中透明电极层的接地方式示意图；
[0037]图6为本发明实施例提供的一种触控显示面板的制作方法流程图；
[0038]图7为本发明实施例提供的制作透明电极层的制作方法流程图；
[0039]图8-图11分别为本发明实施例提供的制作触控显示面板的不同阶段的截面结构示意图。
【具体实施方式】